1-萘酚-4-羟基磺酸钠盐水合物 | 304671-69-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 1-萘酚-4-羟基磺酸钠盐水合物
• 英文名称: sodium 1,4-naphtholsulfonate hydrate
• 英文别名: 4-Hydroxy-1-naphthalenesulfonic acid sodium salt hydrate；sodium;4-hydroxynaphthalene-1-sulfonate;hydrate
• CAS: 304671-69-0
• 化学式: C₁₀H₇O₄S*H₂O*Na
• 分子量: 264.234
• InChiKey: OIKKPHLQUZYWQL-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.37
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  86.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-萘酚-4-羟基磺酸钠盐水合物 、 对甲苯磺酰氯 在 sodium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 以83%的产率得到sodium 4-(4'-methylphenylsulfonyloxy)naphthalene-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Novel onium salts, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  芳基磺酸氧基萘磺酸盐的离子（离子包括碘离子或亚磺酸盐阳离子）是新颖的。 化学增感抗蚀剂组合物包括该离子盐作为光酸发生剂，适用于微细加工，特别是深紫外光刻，因为具有许多优点，包括提高分辨率，提高焦距范围，即使在长期PED上也能最小化线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后最小化残留物，并在显影后改善图案轮廓。

  公开号：

  US20020076643A1

文献信息

• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20030215738A1

  公开（公告）日：2003-11-20

  Photoacid generators are provided by O-arylsulfonyl-oxime compounds having formula (1) wherein R is H, F, Cl, NO 2 , alkyl or alkoxy, n is 0 or 1, m is 1 or 2, r is 0 to 4, r′ is 0 to 5, k is 0 to 4, and G′ and G″ are S or —CH═CH—. Chemically amplified resist compositions comprising the photoacid generators have many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, and improved pattern profile after development. Because of high resolution, the compositions are suited for microfabrication, especially by deep UV lithography. 1

  提供光酸发生剂的是具有公式（1）的O-芳基磺酰基肟化合物，其中R为H，F，Cl，NO2，烷基或烷氧基，n为0或1，m为1或2，r为0至4，r'为0至5，k为0至4，G'和G"为S或—CH═CH—。包含光酸发生剂的化学增强型抗蚀剂组合物具有许多优点，包括改善分辨率、改善焦点宽度、即使在长期PED上也最小化线宽变化或形状退化，并且在显影后改善图案轮廓。由于具有高分辨率，这些组合物适用于微细制造，特别是通过深紫外光刻。
• US6692893B2
  申请人：——

  公开号：US6692893B2

  公开（公告）日：2004-02-17
• US6916591B2
  申请人：——

  公开号：US6916591B2

  公开（公告）日：2005-07-12
• US7494760B2
  申请人：——

  公开号：US7494760B2

  公开（公告）日：2009-02-24