sodium 6-(4'-methylphenylsulfonyloxy)naphthalene-2-sulfonate | 172202-15-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: sodium 6-(4'-methylphenylsulfonyloxy)naphthalene-2-sulfonate
• 英文别名: sodium;6-(4-methylphenyl)sulfonyloxynaphthalene-2-sulfonate
• CAS: 172202-15-2
• 化学式: C₁₇H₁₃O₆S₂*Na
• 分子量: 400.408
• InChiKey: QXSVVZZBBYDLQB-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.18
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.06
• 拓扑面积：
  117
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium 6-(4'-methylphenylsulfonyloxy)naphthalene-2-sulfonate 、 氯化三苯基硫 在 crude product 、 水 、 乙醚 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以obtaining the end product, triphenylsulfonium 6-(4′-methylphenylsulfonyloxy)naphthalene-2-sulfonate as crystals in an amount of 100 g (yield 79%)的产率得到triphenylsulfonium 6-(4'-methylphenylsulfonyloxy)naphthalene-2-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Onium salts, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  苯基磺酸氧基萘磺酸根离子的烷基硫酰离子或硫鎓离子的醇盐是一种新颖的物质。将该离子盐作为光酸发生剂的化学增感光刻胶组合物适用于微细加工，尤其是深紫外光刻技术，因为具有许多优点，包括提高分辨率，提高焦距宽度，即使在长期PED上也能最小化线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后最小化残留物，并在显影后改善图案轮廓。

  公开号：

  US06692893B2
• 作为产物：
  描述：

  sodium 2,6-naphtholsulfonate hydrate 、 对甲苯磺酰氯 在 sodium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 以86%的产率得到sodium 6-(4'-methylphenylsulfonyloxy)naphthalene-2-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Novel onium salts, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  芳基磺酸氧基萘磺酸盐的离子（离子包括碘离子或亚磺酸盐阳离子）是新颖的。 化学增感抗蚀剂组合物包括该离子盐作为光酸发生剂，适用于微细加工，特别是深紫外光刻，因为具有许多优点，包括提高分辨率，提高焦距范围，即使在长期PED上也能最小化线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后最小化残留物，并在显影后改善图案轮廓。

  公开号：

  US20020076643A1

文献信息

• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20030215738A1

  公开（公告）日：2003-11-20

  Photoacid generators are provided by O-arylsulfonyl-oxime compounds having formula (1) wherein R is H, F, Cl, NO 2 , alkyl or alkoxy, n is 0 or 1, m is 1 or 2, r is 0 to 4, r′ is 0 to 5, k is 0 to 4, and G′ and G″ are S or —CH═CH—. Chemically amplified resist compositions comprising the photoacid generators have many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, and improved pattern profile after development. Because of high resolution, the compositions are suited for microfabrication, especially by deep UV lithography. 1

  提供光酸发生剂的是具有公式（1）的O-芳基磺酰基肟化合物，其中R为H，F，Cl，NO2，烷基或烷氧基，n为0或1，m为1或2，r为0至4，r'为0至5，k为0至4，G'和G"为S或—CH═CH—。包含光酸发生剂的化学增强型抗蚀剂组合物具有许多优点，包括改善分辨率、改善焦点宽度、即使在长期PED上也最小化线宽变化或形状退化，并且在显影后改善图案轮廓。由于具有高分辨率，这些组合物适用于微细制造，特别是通过深紫外光刻。
• US6692893B2
  申请人：——

  公开号：US6692893B2

  公开（公告）日：2004-02-17
• US6916591B2
  申请人：——

  公开号：US6916591B2

  公开（公告）日：2005-07-12
• US7494760B2
  申请人：——

  公开号：US7494760B2

  公开（公告）日：2009-02-24