1-Naphthol formaldehyde | 25359-91-5

• 物质功能分类: 催化剂及助剂 - 聚合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-Naphthol formaldehyde
• 英文别名: formaldehyde;naphthalen-1-ol
• CAS: 25359-91-5
• 化学式: C11H10O2
• 分子量: 174.2
• InChiKey: FLGPRDQFUUFZBL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.44g/cm3 at 20℃
• LogP：
  0.3-5 at 35℃ and pH7

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.36
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  萘酚 、 聚合甲醛 、 对甲苯磺酸 以 4-甲基-2-戊酮 为溶剂， 反应 5.0h， 以to obtain a 1-naphthol/formaldehyde condensate的产率得到1-Naphthol formaldehyde
  参考文献：
  名称：

  RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

  摘要：

  一种抗阻层膜形成组合物包括一个聚合物，该聚合物包括由公式（1）所示的重复单元，并且具有分子量为3000至10000的聚苯乙烯降低的重量平均分子量，以及溶剂。R3到R8中的每一个分别表示以下公式（2）或类似物所示的基团。R1表示单键或类似物。R2表示氢原子或类似物。

  公开号：

  US20130310514A1

文献信息

• COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN
  申请人：MINEGISHI Shin-ya

  公开号：US20120252217A1

  公开（公告）日：2012-10-04

  A resist underlayer film-forming composition includes (A) a polymer that includes a repeating unit shown by a formula (1), and has a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 3000 to 10,000, and (B) a solvent, wherein R 3 to R 8 individually represent a group shown by the following formula (2) or the like, —O—R 1 ≡R 2 (2) wherein R 1 represents a single bond or the like, and R 2 represents a hydrogen atom or the like.

  一种抗反射底层膜形成组合物，包括(A)一种聚合物，其中包括由公式（1）所示的重复单元，并具有聚苯乙烯还原重均分子量在3000至10000之间，以及(B)一种溶剂，其中R3到R8分别表示由以下公式（2）或类似公式所示的基团，-O-R1≡R2（2），其中R1表示一个单键或类似物，R2表示氢原子或类似物。
• RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN
  申请人：Minegishi Shin-ya

  公开号：US20120270157A1

  公开（公告）日：2012-10-25

  A resist underlayer film-forming composition includes a polymer including a structural unit shown by a formula (1), and having a polystyrene-reduced weight average molecular weight of from 3000 to 10000, and a solvent. Each of R 3 to R 8 independently represents a group shown by a formula (2), a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or a glycidyl ether group having 3 to 6 carbon atoms, wherein at least one of R 3 to R 8 represents the group shown by the formula (2).

  一种抗蚀底层膜形成组合物包括一种聚合物，其中包括一个由公式（1）表示的结构单元，其聚苯乙烯减少的重量平均分子量为3000至10000，以及一种溶剂。其中R3到R8中的每个独立表示由公式（2）表示的基团，氢原子，羟基，具有1至6个碳原子的烷基，具有1至6个碳原子的烷氧基，具有2至10个碳原子的烷氧羰基，具有6至14个碳原子的芳基或具有3至6个碳原子的环氧醚基团，其中R3到R8中至少有一个表示为公式（2）所示的基团。
• Resist underlayer film-forming composition
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US08859185B2

  公开（公告）日：2014-10-14

  A resist underlayer film-forming composition includes a polymer including a repeating unit shown by a formula (1), and having a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 3000 to 10,000, and a solvent. Each of R3 to R8 individually represent a group shown by the following formula (2) or the like. R1 represents a single bond or the like. R2 represents a hydrogen atom or the like.

  一种抗蚀底层膜形成组合物包括聚合物，该聚合物包括由公式（1）所示的重复单元，并具有3000至10000的聚苯乙烯还原重均分子量，以及溶剂。R3到R8中的每个分别表示以下公式（2）或类似物所示的基团。R1表示单键或类似物。R2表示氢原子或类似物。
• Composition for forming resist underlayer film and method for forming pattern
  申请人：Minegishi Shin-ya

  公开号：US08513133B2

  公开（公告）日：2013-08-20

  A resist underlayer film-forming composition includes (A) a polymer that includes a repeating unit shown by a formula (1), and has a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 3000 to 10,000, and (B) a solvent, wherein R3 to R8 individually represent a group shown by the following formula (2) or the like, —O—R1≡R2  (2) wherein R1 represents a single bond or the like, and R2 represents a hydrogen atom or the like.

  一种抗蚀底层膜形成组合物包括（A）聚合物，该聚合物包括由公式（1）表示的重复单元，并具有聚苯乙烯减少的重量平均分子量在3000至10000之间，以及（B）溶剂，其中R3至R8分别表示由以下公式（2）或类似物表示的基团，-O-R1≡R2（2）其中R1表示单键或类似物，R2表示氢原子或类似物。
• Resist underlayer film-forming composition and method for forming pattern
  申请人：Minegishi Shin-ya

  公开号：US09029069B2

  公开（公告）日：2015-05-12

  A resist underlayer film-forming composition includes a polymer including a structural unit shown by a formula (1), and having a polystyrene-reduced weight average molecular weight of from 3000 to 10000, and a solvent. Each of R3 to R8 independently represents a group shown by a formula (2), a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or a glycidyl ether group having 3 to 6 carbon atoms, wherein at least one of R3 to R8 represents the group shown by the formula (2).

  一种抗蚀底层膜形成组合物包括聚合物和溶剂。聚合物包括结构单元，其由式（1）表示，并且具有聚苯乙烯降低重量平均分子量在3000至10000之间。R3至R8中的每个独立地表示由式（2）表示的基团、氢原子、羟基、具有1至6个碳原子的烷基、具有1至6个碳原子的烷氧基、具有2至10个碳原子的烷氧羰基、具有6至14个碳原子的芳基或具有3至6个碳原子的环氧乙烷基，其中至少一个R3至R8表示由式（2）表示的基团。