Pyrogallol-1-O-sulphate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机硫酸及其衍生物
• 英文名称: Pyrogallol-1-O-sulphate
• 英文别名: (2,3-dihydroxyphenyl) hydrogen sulfate
• 化学式: C₆H₆O₆S
• 分子量: 206.18
• InChiKey: NGVLEQPKHLWZLN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  112
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  6

文献信息

• A method for producing cycloalkanols
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：EP0227931A2

  公开（公告）日：1987-07-08

  A method for producing cycloalkanols important as a material for caprolactam, adipic acid and the like, which comprises carrying out the catalytic hydration of a cycloalkene using as a catalyst an aromatic sulfonic acid having at least one hydroxyl or ether group and separating the resulting cycloalkanol from the reaction solution by extraction.

  一种生产作为己内酰胺、己二酸等重要原料的环烷醇的方法，包括使用至少有一个羟基或醚基的芳香族磺酸作为催化剂对环烯进行催化水合反应，并通过萃取从反应溶液中分离出环烷醇。
• Durch Säure spaltbare Verbindungen, diese enthaltende positiv strahlungsempfindliche Zusammensetzung und damit hergestelltes positiv strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0510449A2

  公开（公告）日：1992-10-28

  Es werden Verbindungen der allgemeinen Formel I vorgeschlagen, worin R1 eine Alkylen-, Cycloalkylen-, Alkenylen-, Alkinylen- oder Arylenbisalkylgruppe, in der eine oder mehrere aliphatische CH2-Gruppe(n) durch Sauerstoff- oder Schwefelatome ersetzt sein können, R2 einen Alkyl-, Alkenyl-, Alkinyl-, Cycloalkyl-, Alkoxyalkyl-, Aryl-, Aralkyl- oder Aryloxyalkylrest, R3 einen Alkyl- oder Arylrest, X eine der Gruppen -CO-, -OCO- oder -NHCO- und n eine ganze Zahl größer als 1, insbesondere von 3 bis 50, bedeuten. Die Verbindungen sind durch Säure spaltbar und in Kombination mit photolytischen Säurespendern und alkalilöslichen Bindemitteln Bestandteile von positiv arbeitenden Gemischen, die insbesondere in Aufzeichnungsmaterialien für UV-Strahlung und energiereiche Strahlung Verwendung finden. Die Materialien zeichnen sich durch hohe Auflösung in Verbindung mit hohem Bildkontrast aus.

  通式 I 的化合物 提出了通式 I 的化合物，其中 R1 是烯基、环烷基、烯基、炔基或芳基双烷基，其中一个或多个脂肪族 CH2 基团可被氧原子或硫原子取代、 R2 是烷基、烯基、炔基、环烷基、烷氧基烷基、芳基、芳烷基或芳氧基烷基、 R3 是烷基或芳基、 X 是基团 -CO-、-OCO- 或 -NHCO- 之一，以及 n 是大于 1 的整数，特别是 3 至 50、 . 这些化合物可以被酸裂解，与光解酸供体和碱溶性粘合剂结合使用，可作为正工作混合物的成分，尤其适用于紫外线辐射和高能辐射的记录材料。这种材料具有高分辨率和高图像对比度的特点。
• Substituted 1-sulfonyloxy-2-pyridones, process for their preparation and their use
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0510442A1

  公开（公告）日：1992-10-28

  Es werden 1-Sulfonyloxy-2-Pyridone der allgemeinen Formel I, beschrieben, die eine gute Strahlungsempfindlichkeit über einen weiten Spektralbereich zeigen und daher als photoaktive Verbindungen in strahlungsempfindlichen Gemischen wertvoll sind .

  通式 I 的 1-磺酰氧基-2-吡啶酮、 描述了在宽光谱范围内表现出良好辐射敏感性的 1-磺酰氧基-2-吡啶酮，因此作为辐射敏感混合物中的光活性化合物非常有价值。
• Verbindungen mit säurelabilen Schutzgruppen und damit hergestelltes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0525626A1

  公开（公告）日：1993-02-03

  Die Erfindung betrifft Verbindungen der allgemeinen Formel I worin X ein Phenyl-, [1]Naphthyl- oder [2]Naphthylrest ist, der jeweils mit mindestens einer tert.-Butoxycarbonyloxygruppe substituiert ist und gegebenfalls einen oder mehr als einen zusätzlichen Substituenten aufweist, R1 für ein Wasserstoffatom, einen (C1-C6)Alkyl-, einen (C6-C10)Arylrest oder einen der Reste X steht und R2 und R3 gleich oder verschieden sind und einen (C1-C12)Alkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen durch Brückenglieder, die mindestens ein Heteroatom aufweisen, wie -O-, -S-, -NR4-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -O-CO-NH-, -NH-CO-NH-, -CO-NH-CO-, -S02-, -S02-0-, oder -S02-NH-, ersetzt sind, einen (C3-C12)Alkenyl-, (C3-C12)Alkinyl, (C4-C12)Cycloalkyl-, (C4-C12)-Cycloalkenyl- oder (C8-C16)Aralkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen des aliphatischen Teils durch Brückenglieder der oben genannten Art ersetzt sind und der im aromatischen Teil durch Fluor-, Chlor- oder Bromatome, durch (C1-C4)Alkyl-, (C1-C4)Alkoxy-, Nitro-, Cyano- oder tert.-Butoxycarbonyloxygruppen substituiert sein kann, bedeuten, wobei R4 für einen Acyl-, insbesondere einen (C1-C6)Alkanoylrest, steht, und Verfahren zu ihrer Herstellung sowie positiv arbeitende strahlungsempfindliche Gemische, die diese Verbindungen als Lösungsinhibitoren enthalten. Sie betrifft weiterhin ein damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, das für Photoresists, elektrische Bauteile und Druckplatten sowie zum Formteilätzen geeignet ist.

  本发明涉及通式 I 的化合物 其中 X是苯基、[1]萘基或[2]萘基，其中每个基团都被至少一个叔丁氧羰氧基取代，并可选择具有一个或多个附加取代基、 R1 是氢原子、(C1-C6)烷基、(C6-C10)芳基或 X 和 R3 中的一个基团。 R2和R3相同或不同，以及一个(C1-C12)烷基，其中最多三个亚甲基由桥构件桥接，桥构件至少有一个杂原子、如-O-、-S-、-NR4-、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-O-CO-NH-、-NH-CO-NH-、-CO-NH-CO-、-S02-、-S02-0-或-S02-NH-，一个(C3-C12)烯基-、(C3-C12)炔基-、(C3-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-和(C4-C12)环烷基-。(C4-C12)环烷基、(C4-C12)环烯基或(C8-C16)芳烷基，其中脂肪族的最多三个亚甲基可选择被上述类型的桥基取代，芳香族的桥基被氟、氯或溴原子、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、硝基、氰基或叔丁基取代。-丁氧羰氧基基团，其中 R4 代表酰基，特别是 (C1-C6) 烷酰基、 及其制备工艺，以及含有这些化合物作为溶液抑制剂的正工作辐射敏感混合物。它还涉及一种用其生产的记录材料，该材料适用于光刻胶、电子元件和印刷板以及模制件蚀刻。
• Oligomere Verbindungen mit säurelabilen Schutzgruppen und damit hergestelltes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0525627A1

  公开（公告）日：1993-02-03

  Die Erfindung betrifft Verbindungen der allgemeinen Formel I worin X ein Phenyl-, [1]Naphthyl- oder [2]Naphthylrest ist, der jeweils mit mindestens einer tert.-Butox- ycarbonyloxygruppe substituiert ist und gegebenfalls einen oder mehr als einen zusätzlichen Substituenten aufweist, R1 für ein Wasserstoffatom, einen (C1-C6)Alkyl-, einen (C6-C10)Arylrest oder einen der Reste X steht und R2 eine (C4-C12)Alkylen-, (C4-C12)Alkenylen- oder (C4-C12)Alkinylengruppe ist, in der gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen durch Brückenglieder, die mindestens ein Heteroatom aufweisen, wie -O-, -S-, -NR3-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -O-CO-NH-, -NH-CO-NH-, -CO-NH-CO-, -S02-, -S02-0-, oder -S02-NH-, ersetzt sind, (C4-C12)-Cycloalkylen-, (C4-C12)Cycloalkenylen- oder (C8-Ci6)-Arylenbisalkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen des aliphatischen Teils durch Brückenglieder der oben genannten Art ersetzt sind und der im aromatischen Teil durch Fluor-, Chlor- oder Bromatome, durch (C1-C4)Alkyl-, (C1-C4)Alkoxy-, Nitro-, Cyano- oder tert.-Butoxycarbonyloxygruppen substituiert sein kann, bedeuten, wobei R3 für einen Acyl-, insbesondere einen (C1-C6)-Alkanoylrest, und n für eine ganze Zahl von 2 bis 50, vorzugsweise 5 bis 20, steht. und Verfahren zu ihrer Herstellung sowie positiv arbeitende strahlungsempfindliche Gemische, die diese Verbindungen als Lösungsinhibitoren enthalten. Sie betrifft weiterhin ein damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, das für Photoresists, elektrische Bauteile und Druckplatten sowie zum Formteilätzen geeignet ist.

  本发明涉及通式 I 的化合物 其中 X 是苯基、[1]萘基或[2]萘基，其中每个基团都被至少一个叔丁氧羰氧基取代，并可选择具有一个或多个附加取代基、 R1 是氢原子、(C1-C6)烷基、(C6-C10)芳基或 X 基之一，以及 R2 是(C4-C12)亚烷基、(C4-C12)亚烯基或(C4-C12)亚炔基，其中最多可有三个亚甲基通过桥基连接、至少有一个杂原子，如-O-、-S-、-NR3-、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-O-CO-NH-、-NH-CO-NH-、-CO-NH-CO-、-S02-、-S02-0-或-S02-NH-，(C4-C12)环亚烷基、(C4-C12)环烯基或(C8-Ci6)芳基双烷基，其中脂肪族部分的最多三个亚甲基可选择被上述类型的桥基取代，而芳香族部分则被氟、氯或溴原子、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、硝基、氰基或叔丁基取代。-丁氧羰氧基基团，其中 R3 代表酰基，特别是 (C1-C6) 烷酰基，以及 n 是 2 至 50 的整数，最好是 5 至 20。 本发明还涉及这些化合物及其制备工艺，以及含有这些化合物作为溶液抑制剂的正工作辐射敏感混合物。本发明还涉及一种用其生产的记录材料，该材料适用于光刻胶、电子元件和印刷板以及模制件蚀刻。