sodium tri-tert-butylsilanide | 103349-41-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: sodium tri-tert-butylsilanide
• 英文别名: Supersilyl sodium；Sodium;tritert-butylsilanide
• CAS: 103349-41-3
• 化学式: C₁₂H₂₇Si*Na
• 分子量: 222.422
• InChiKey: BIHQRKGZUDWWGS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.89
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium tri-tert-butylsilanide 以 二丁醚 、 苯 为溶剂， 生成 N-(Tri-tert-butylsilyl)di-tert-butylsilanimin-Tetrahydrofuran
  参考文献：
  名称：

  Wiberg, Nils; Schurz, Klaus, Chemische Berichte, 1988, vol. 121, p. 581 - 590

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  tri-t-butylsilane 在 溴 、 sodium 作用下， 以 正庚烷 、 正戊烷 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 sodium tri-tert-butylsilanide
  参考文献：
  名称：

  供体和供体半硅烷基碱金属t Bu 3 SiM 1：合成，结构，结构

  摘要：

  在没有或有供体的情况下，超硅烷基碱金属（碱金属超硅烷基化物）t Bu 3 SiM在室温下，在烷烃或给体溶剂（如四氢呋喃）中，碱金属M对超硅卤化物t Bu 3 SiX的作用很容易获得醚，胺，芳烃。苯：; 。可以通过更强大的供体（例如PMDTA，18-crown-6，cryptand-222）交换以醚为供体的形式。特别是制备了以下对水和空气非常敏感的化合物：黄色t Bu 3 SiLi（关于与Si…Li…Si接触的二聚体的X射线结构分析；参见Abb。1），橙色黄色t Bu 3SiNa（关于与Si…Na…Si接触物进行二聚的X射线结构分析；请参见Abb。2 ），浅黄色t Bu 3 SiK（关于其在聚合物烷烃中的不溶性）。t Bu 3 SiM（MRb，Cs）; 不溶于烷烃）浅黄色至无色的t Bu 3 SiLi（THF）2（可能是单体），浅黄色t BU 3 SiNa（THF）2（关于X射线结构分析，用CH

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(97)00306-9
• 作为试剂：
  描述：

  三乙基硅烷 、 Chlorphenylsupersilylsilan 在 sodium tri-tert-butylsilanide 作用下， 以84%的产率得到Phenylsupersilyltriethylsilylsilan
  参考文献：
  名称：

  Supersilylsilane R*SiX₃: Umwandlung in Disilane R*X₂Si-SiX₂R*, Silylene R*XSi, Cyclosilane (R*XSi)_n, Disilene R*XSi=SiXR*, Tetrasupersilyl-tetrahedro-tetrasilan [1] / Supersilylsilanes R*SiX₃: Conversion into Disilanes R*X₂Si-SiX₂R*, Silylenes R*XSi, Cyclosilanes (R*XSi)_n, D isilenes R*XSi=SiXR*, Tetrasupersilyl-tetrahedro-tetrasilane [1]

  摘要：

  Supersilylmonohalosilanes R*R SiHCl（R* = Supersilyl = SitBu3）在65°C下与C6H6中的Na反应，或者在-78°C下与THF中的NaC10H8反应，形成双超硅基二硅烷R*RHSi-SiHRR*，其产率为定量（R = H，Me）或中等产率（R = Ph）。在后一种情况下，还在65°C下额外获得R*PhSiH2（仅与在65°C下的THF中的Na反应）。显然，超硅基硅化物NaSiHRR*作为中间体生成，它们与反应物R*RSiHCl反应，消除NaCl并形成R*RHSi-SiHRR*（R = H，Me）或R*RSiH2以及R*R Si（R = Ph）。硅烯中间体R*PhSi插入到反应物R*PhSiHCl和产物R*PhSiH2的SiH键中，形成双超硅基二硅烷R*PhSiH -SiClPhR*和R*PhSiH -SiHPhR*，它们在65°C下被Na还原为R*PhSiH2（在低温下通过NaC10H8还原为R*PhSiH-SiHPhR*）。在低温下，将NaR*添加到THF中的R*RSiHCl中，与NaCl消除形成R*2RSiH（R = H，Me）或R*RHSi-SiHRR*（R = Me），此外还有R*C1，或者R*RHSi-SiClRR*（R = Ph）以及R*H和NaR，而将R*PhSiHCl添加到NaR*中在低温下的THF中，结果形成NaSiPhR*2，此外还有R*H和NaCl。在后一种情况下（R = Ph），NaR*与R*PhSiHCl反应释放出硅烯R*PhSi，其瞬时存在性通过用Et3SiH捕获它来证实（形成R*Ph（Et3Si）-SiH）。随后，R*PhSi插入到R*PhSiHCl的SiH键中（将NaR*添加到R*PhSiHCl）或插入到NaR*的NaSi键中（将R*PhSiHCl添加到NaR*）。超硅基二卤代硅烷R*SiHCl2在65°C下通过Mg转化为环硅烷（R*SiH）n（n = 3, 4），并且在低温下通过Na转化为R*PhSiBrCl - 通过硅烯R*PhSi - 转化为双硅烯R*PhSi=SiPhR*，过量Na还原为阴离子自由基。超硅基三卤代硅烷R*SiBr2Cl、R*SiBr3和R*SiI3与Na、NaC10H8或NaR*在THF中反应，形成四超硅基四面体四硅烷（R*Si）4，产率定量，而R*SiCl3与LiC10H8在45°C下反应，只以中等产率形成（R*Si）4。显然，四面体烷是从R*SiHal3通过R*SiHal2Na和R*HalSi=SiHalR*作为反应中间体形成的。结果得出以下结论：（i）硅烯在“立体过载”的超硅基卤代硅烷R*R3-nSiHaln的脱卤作用中发挥作用；（ii）从易获得的反应物中合成（R*Si）4的高产率方法是将SiH2Cl2与NaR*进行超硅基化，用Br2对形成的超硅基硅烷R*SiH2Cl进行溴化，再用Na对溴化产物R*SiBr2Cl进行脱卤。

  DOI：

  10.1515/znb-2000-0510

文献信息

• Supersilylsilane R*SiX₃: Darstellung, Charakterisierung und Strukturen; sterische und van-der-Waals Effekte der Substituenten X [1] / Supersilylsilanes R*SiX₃: Syntheses, Characterization and Structures; Steric and van-der-Waals Effects of Substituents X [1]
  作者：Nils Wiberg、Wolfgang Niedermayer、Heinrich Nöth、Jörg Knizek、Werner Ponikwar、Kurt Polbom

  DOI：10.1515/znb-2000-0509

  日期：2000.5.1

  SitBu3; X = H, Me, tBu, Ph, SiMe3, F, Cl, Br, I, OMe, OSO2CF3) are prepared (i) by reactions of supersilylhalosilanes with supersilyl sodium NaR* (Hal/R* exchange), (ii) by reactions of supersilylhalosilanes with hydride H- (Hal/H exchange), (iii) by reactions of supersilylsilanes with halogens Hal2 (H/Hal exchange, R*/Hal exchange), (iv) by reactions of supersilylhalosilanes with nucleophiles like

  超甲硅烷基硅烷 R * SiX3（R * = 超甲硅烷基 = SitBu3；X = H、Me、tBu、Ph、SiMe3、F、Cl、Br、I、OMe、OSO2CF3）通过 (i) 超甲硅烷基卤硅烷与超甲硅烷基钠 NaR 反应制备（Hal / R * 交换），（ii）通过超甲硅烷基卤硅烷与氢化物 H-（Hal / H 交换）的反应，（iii）通过超甲硅烷基硅烷与卤素 Hal2 的反应（H / Hal 交换，R * / Hal 交换），（ iv) 通过超甲硅烷基硅烷与 F-、MeO- 等亲核试剂的反应（Hal / F 或 Hal / OMe 交换）和 (v) 通过超甲硅烷基硅烷与强酸的反应（H / OSO2CF3 交换）。R * SiX3 的 SiX3 基团的 NMR 化学位移 δ (29Si) 在很大程度上取决于 X 的性质。超甲硅烷基硅烷 R * SiX3 部分对湿气敏感（尤其是具有 SiX3≡
• Supersilyltrielane R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Synthesen, Charakterisierung, Reaktionen, Strukturen [1] / Supersilyltrielanes R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Syntheses, Characterization, Reactions, Structures [1]
  作者：Nils Wiberg、Kerstin Amelunxen、Thomas Blank、Hans-Wolfram Lerner、Kurt Polborn、Heinrich Nöth、Ralf Littger、Manfred Rackl、Martin Schmidt-Amelunxen、Holger Schwenk-Kircher、Markus Warchold

  DOI：10.1515/znb-2001-0712

  日期：2001.7.1

  Water- and oxygen-sensitive compounds R*EHal₂•D, R*EHal₂ and R*₂EHal (R* = SitBu₃; E = B, Al, Ga, In, TI; Hal = F, Cl, Br, I; D = OR₂, NR₃) have been synthesized by reaction of EHal₃ with NaR* in the absence or presence of donors as well as by substitution of D, Hal or R* by other substituents, or by reaction of R*₂E-ER*₂ (E = Al, In) with I₂, H₂, AgF₂ or HBr. Thermal decomposition of the compounds in solution or in the gas phase leads to elimination of D from R*EHal₂•D, or of R*Hal from R*EHal₂ and R*₂EHal, respectively. The dihalides R*EHal₂ act as Lewis acids with respect to donors OR₂ or NR₃ (formation of adducts R*EHal₂•D), the monohalides R*₂EHal as Lewis bases with respect to acceptors EHal₃ (formation of R*₂E⁺ EHal₄ ^-). Dehalogenations of R*₂EHal and R*EHal₂ with alkali metals or NaR* leads to compounds R*₄E₂ (E = AI, In, Tl), R*₃E₂• (E = AI, Ga), R*₄E₃ ^• (E = Al, Ga), R*₄E₄ (E = AI, Ga), R*₆Ga₈, R*₈In₁₂, (R*₂B^- ), R*₂A^- , R*₃Ga₂ ^-, R*₄Ga₃ ^-, R*₄Ga₄ ^2-, R*₄Tl₃Cl, or R*₆Tl₆Cl₂. The structures of R*BBr₂•Py, R*AlBr₂•NEtMe₂, (R*AlClOBu)₂, R*₂BF as well as R*₂ECl (E = B, Al, Ga, Tl) have been determined by X-ray structure analyses.

  水和氧敏感化合物 R*EHal₂•D、R*EHal₂ 和 R*₂EHal（R* = SitBu₃；E = B，Al，Ga，In，TI；Hal = F，Cl，Br，I；D = OR₂，NR₃）已通过 EHAl₃ 与 NaR* 在存在或不存在供体的情况下反应合成，或通过 D、Hal 或 R* 被其他取代基取代，或通过 R*₂E-ER*₂（E = Al，In）与 I₂、H₂、AgF₂ 或 HBr 反应合成。这些化合物在溶液中或气相中的热分解导致 R*EHal₂•D 中的 D 或 R*EHal₂ 和 R*₂EHal 中的 R*Hal 被消除。二卤化物 R*EHal₂ 与供体 OR₂ 或 NR₃ 作为 Lewis 酸（形成加合物 R*EHal₂•D），而单卤化物 R*₂EHal 与受体 EHal₃ 作为 Lewis 碱（形成 R*₂E⁺ EHal₄^-）。用碱金属或 NaR* 去卤化 R*₂EHal 和 R*EHal₂ 会导致化合物 R*₄E₂（E = AI，In，Tl），R*₃E₂•（E = AI，Ga），R*₄E₃^•（E = Al，Ga），R*₄E₄（E = AI，Ga），R*₆Ga₈，R*₈In₁₂，（R*₂B^-），R*₂A^-，R*₃Ga₂^-，R*₄Ga₃^-，R*₄Ga₄^2-，R*₄Tl₃Cl，或 R*₆Tl₆Cl₂。R*BBr₂•Py、R*AlBr₂•NEtMe₂、（R*AlClOBu）₂、R*₂BF 以及 R*₂ECl（E = B，Al，Ga，Tl）的结构已通过 X 射线结构分析确定。
• Supersilylverbindungen Der Borgruppenelemente, IV [1]. Supersilylelementhalogenide tBu₃SIEX₂ Und (tBu₃Si)₂Ex Mit E = Al, Ga, In: Synthesen, Eigenschaften, Strukturen [2] / Supersilylated Compounds of the Thirteenth Group, IV [I]. Supersilylelement Halides tBu₃SIEX₂ And (tBu₃Si)₂Ex with E = Al, Ga, In: Syntheses, Properties, Structures [2]
  作者：Nils Wiberg、Kerstin Amelunxen、Hans-Wolfram Lemer、Heinrich Nöth、Jörg Knizek、Ingo Krossing

  DOI：10.1515/znb-1998-0312

  日期：1998.3.1

  Water and oxygen sensitive compounds (tBu₃SiEX₂)2, tBu₃SiEX₂ Do and (tBu₃Si)2EX (E = AI, Ga, In; X = (F), Cl, Br; Do = OR₂, NR₃) have been synthezised by reaction of EX₃ with tBu₃SiNa in the absence or presence of donors. In addition, (tBu₃Si)AlBr₂, (tBu₃Si)₂InF and tBu₃SiInBr₂ were prepared by reaction of AlBr₃ with (tBu₃Sij₂Zn or of (tBu₃Si)₂In- In(Si/Bu₃)₂ with AgF₂ and HBr, respectively. The adduct [tBu₃SiAlBr₂ · AlBr₃ ·1/2MgBr₂]₂ is formed from AlBr₃ and (tBu₃Si)₂Mg(THF)₂. Thermal decomposition of the compounds in solution or in the gas phase leads to the formation of tBu₃SiEX₂ (from the dimers or the donor adducts) and of tBu₃SiX. The Lewis acidity of tBu₃SiEX₂ against donors increases in the direction Do = Et₂O < THF < NEtMe₂. Dehalogenation of (tBu₃Si)₂ECl with tBu₃SiNa(THF)₂ in pentane at room temperature leads to clusters (tBu₃Si)₄Al₂, (tBu₃Si)₃Ga₂ ^•, (tBu₃Si)₄In₂ and (tBu₃Si)₃Ga₂Na(THF)₃, reduction of tBu₃SiGaCl₂ with Na or K in heptane at 100°C to the tetrahedran (tBu₃Si)₄Ga₄. The structures of (tBu₃SiGaCl₂)₂, (tBu₃Si)₂GaCl, and [tBu₃SiAlBr₂ AlBr₃ ·1/2MgBr₂]₂ have been determined by X-ray structure analysis.

  摘要：水和氧敏感化合物(tBu3SiEX2)2，tBu3SiEX2 Do和(tBu3Si)2EX(E = AI，Ga，In；X = (F)，Cl，Br；Do = OR2，NR3)已通过EX3与tBu3SiNa在有无供体的情况下反应合成。此外，(tBu3Si)AlBr2，(tBu3Si)2InF和tBu3SiInBr2通过AlBr3与(tBu3Sij2Zn或(tBu3Si)2In-In(Si/Bu3)2与AgF2和HBr反应制备。加合物[tBu3SiAlBr2 · AlBr3 ·1/2MgBr2]2由AlBr3和(tBu3Si)2Mg(THF)2形成。溶液中或气相中化合物的热分解导致tBu3SiEX2(来自二聚体或供体加合物)和tBu3SiX的形成。tBu3SiEX2对供体的Lewis酸性在Do = Et2O < THF < NEtMe2方向上增加。在室温下，将(tBu3Si)2ECl与tBu3SiNa(THF)2在戊烷中脱卤化，导致(tBu3Si)4Al2，(tBu3Si)3Ga2•，(tBu3Si)4In2和(tBu3Si)3Ga2Na(THF)3团簇的形成，将tBu3SiGaCl2与Na或K在庚烷中加热至100°C还原为四面体(tBu3Si)4Ga4。通过X射线结构分析确定了(tBu3SiGaCl2)2，(tBu3Si)2GaCl和[tBu3SiAlBr2 AlBr3 ·1/2MgBr2]2的结构。
• Imino(silyl)disilenes: application in versatile bond activation, reversible oxidation and thermal isomerization
  作者：Richard Holzner、Amelie Porzelt、Uhut S. Karaca、Fiona Kiefer、Philipp Frisch、Daniel Wendel、Max C. Holthausen、Shigeyoshi Inoue

  DOI：10.1039/d1dt01629f

  日期：——

  enhanced stability, disilene 2 retains high reactivity in the activation of small molecules, including H2. The rare example of a disilene radical cation 7 is isolated and shows reversible redox behavior. White phosphorous (P4) selectively reacts with 2 to give the unique cage-compound 8. Selective thermal rearrangement of 2 at higher temperatures yields the A2SiSiB2-type disilene 9 (A = NItBu, B = SitBu2Me)

  报道了带有N-杂环亚氨基 (A = NI t Bu) 和三烷基甲硅烷基 (B = Si t Bu 3 1，B = Si t Bu 2 Me 2 ) 基团的两种新型 ABSi SiAB型二硅烯。在减小的空间需求2所导致高度稳定的，尽管如此灵活的系统，因此（ë / Ž）异构化从室温直至观察到90℃。所提出的异构化机制通过与实验结果一致的单体亚甲硅烷进行。尽管稳定性增强，二硅烯2在小分子（包括 H 2 ）的活化中保持高反应性。二硅烯自由基阳离子7的罕见例子是孤立的，并显示出可逆的氧化还原行为。白磷 (P 4 ) 选择性地与2反应生成独特的笼状化合物8。2在较高温度下的选择性热重排产生 A 2 Si SiB 2型二硅烯9（A = NI t Bu，B = Si t Bu 2 Me），其具有两性离子和配位中心 Si-Si 键的特性。拟议的机制通过 最初的 NHI 迁移，然后是甲硅烷基迁移。
• Thermolysereaktionen der donorfreien Silanimine tBu₂Si=N-SiRtBu₂ (R = tBu, Ph) / Thermolysis Reactions of Donor-free Silanimines tBu₂Si=N-SiRtBu₂ (R = tBu, Ph)
  作者：Hans-Wolfram Lerner、Inge Sänger、Michael Bolte、Matthias Wagner

  DOI：10.1515/znb-2010-0112

  日期：2010.1.1

  The donor-free silanimines tBu₂Si=N-SiRtBu₂ (R = tBu, Ph), which are prepared from tBu₂ClSiN₃ and NaSiRtBu₂ at −78 ^◦C inBu₂O, decompose in benzene at room temperature with the formation of isobutene. Products of ene reactions of isobutene and tBu₂Si=N-SiRtBu₂ (R = tBu, Ph) are formed. X-Ray quality crystals of H₂C=C(CH₂SitBu₂-NH-SiPhtBu₂)₂ (monoclinic, space group C2/c, Z = 4) were grown from a benzene solution at ambient temperature, whereas single crystals of H₂C=C(CH₂SitBu₂-NH-SitBu₃)₂ (monoclinic, space group P2₁, Z = 2) were obtained by recrystallization from THF

  无供体的硅氨基化合物 tBu₂Si=N-SiRtBu₂（R = tBu, Ph），是在−78 ^◦C的Bu₂O中由 tBu₂ClSiN₃ 和 NaSiRtBu₂ 制备而成的，在室温下在苯中分解，生成异丁烯。异丁烯和 tBu₂Si=N-SiRtBu₂（R = tBu, Ph）的烯反应产物形成。从苯溶液中在常温下生长出了 H₂C=C(CH₂SitBu₂-NH-SiPhtBu₂)₂（单斜晶系，空间群 C2/c，Z = 4）的X射线质量晶体，而从 THF 中再结晶得到了 H₂C=C(CH₂SitBu₂-NH-SitBu₃)₂（单斜晶系，空间群 P2₁，Z = 2）的单晶体。