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2,3-dihydro-2,2-dimethyl-7-benzofuransulfonyl chloride | 87254-52-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2,3-dihydro-2,2-dimethyl-7-benzofuransulfonyl chloride
英文别名
7-chlorosulfonyl-2,3-dihydro-2,2-dimethylbenzofuran;2,2-Dimethyl-2,3-dihydro-1-benzofuran-7-sulfonyl chloride;2,2-dimethyl-3H-1-benzofuran-7-sulfonyl chloride
2,3-dihydro-2,2-dimethyl-7-benzofuransulfonyl chloride化学式
CAS
87254-52-2
化学式
C10H11ClO3S
mdl
MFCD19160572
分子量
246.715
InChiKey
RVJAQMKTLLXHTD-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.5
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.4
  • 拓扑面积:
    51.8
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Herbicidal aryl triazolinones
    申请人:FMC Corporation
    公开号:US04743291A1
    公开(公告)日:1988-05-10
    Herbicidal aryl triazolinones include the compounds of the formula ##STR1## where X is preferably halogen such as fluorine, Y is preferably halogen such as chlorine, R.sup.1 is preferably methyl, R.sup.2 is preferably CHF.sub.2, R.sup.3 is preferably CH(CH.sub.3), and ##STR2## is --NH.sub.2 or the residue of a primary or secondary amine or of a sulfonamide.
    除草剂芳基三唑酮包括以下化合物:其中X最好是卤素,如氟,Y最好是卤素,如氯,R.sup.1最好是甲基,R.sup.2最好是CHF.sub.2,R.sup.3最好是CH(CH.sub.3),以及##STR2##是--NH.sub.2或者是一级或二级胺或磺胺基团的残基。
  • Benzofuran and benzothiophene sulfonamides
    申请人:E. I. Du Pont de Nemours and Company
    公开号:US04514211A1
    公开(公告)日:1985-04-30
    Benzofuran and benzothiophene sulfonamides show utility as herbicides and plant growth regulants.
    苯并呋喃和苯并噻吩磺胺类化合物被证明在除草剂和植物生长调节剂方面具有实用性。
  • Herbicidal sulfonamides
    申请人:E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
    公开号:EP0079683A2
    公开(公告)日:1983-05-25
    Compounds of the formula wherein or and Q is O. S or SO2; R. R,, R2, R3, R4 are H or various organic groups, or R, can be halogen; R5, R6, R7. R8 and R9 are various organic groups;
    式中的化合物 其中 或 和 Q 是 O. S 或 SO2;R. R、、R2、R3、R4 是 H 或各种有机基团,或 R 可以是卤素;R5、R6、R7、R8 和 R9 是各种有机基团;
  • MARAVETZ, LESTER L.
    作者:MARAVETZ, LESTER L.
    DOI:——
    日期:——
  • RORER, M. P.
    作者:RORER, M. P.
    DOI:——
    日期:——
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