octamethyl spirobichroman | 122803-76-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并吡喃
• 英文名称: octamethyl spirobichroman
• 英文别名: 4,4,6,7,4',4',6',7'-octamethyl-3,4,3',4'-tetrahydro-[2,2']spirobichromene；4,4,6,7,4',4',6',7'-Octamethyl-3,4,3',4'-tetrahydro-[2,2']spirobichromen；4,4,4',4',6,6',7,7'-octamethyl-2,2'-spirobi[3H-chromene]
• CAS: 122803-76-3
• 化学式: C₂₅H₃₂O₂
• 分子量: 364.528
• InChiKey: JEQMSSKMLKIDNU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.5
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.52
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  octamethyl spirobichroman 在 过氧化叔丁基异丙苯 、 氧气 、 cobalt(II) acetate 、 manganese(II) acetate 、 乙酸酐 、 sodium bromide 作用下， 170.0~180.0 ℃ 、2.07 MPa 条件下， 反应 16.0h， 以11%的产率得到spirobichroman dianhydride
  参考文献：
  名称：

  A strategy for preparing spirobichroman dianhydride from bisphenol A and its resulting polyimide with low dielectric characteristic

  摘要：

  高性能聚酰亚胺SBC-DDM具有大的自由体积，导致出色的有机溶解性和低介电常数。

  DOI：

  10.1039/c6ra25648a
• 作为产物：
  描述：

  alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 硫酸 作用下， 生成 octamethyl spirobichroman
  参考文献：
  名称：

  Baker et al., Journal of the Chemical Society, 1957, p. 3060,3062

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Positive photosensitive composition
  申请人：Kodama Kunihiko

  公开号：US20070003871A1

  公开（公告）日：2007-01-04

  A positive photosensitive composition comprises a compound capable of generating a specified sulfonic acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation and (B) a resin capable of decomposing under the action of an acid to increase the solubility in an alkali developer.

  一种正性光敏组合物包括一种化合物，该化合物能够在接受活性光线或辐射照射后产生一种指定的磺酸，并且（B）一种树脂，该树脂在酸作用下分解以增加在碱性显影剂中的溶解度。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING LOW-MOLECULAR COMPOUND FOR USE THEREIN
  申请人：Matsumura Nobuji

  公开号：US20090280433A1

  公开（公告）日：2009-11-12

  A radiation-sensitive composition contains (A) a low-molecular-weight compound having one or more acid-dissociable groups which decompose by the action of an acid to enhance solubility in an alkaline developing solution and one or more radiation-sensitive acid-generating groups which generate an acid upon application of an active ray or radiation per molecule, and having a polystyrene-reduced number-average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) of 500 to 4,000, and (B) a solvent.

  一种辐射敏感组合物包含（A）低分子量化合物，其具有一个或多个酸解离基团，该基团在酸作用下分解，以增强其在碱性显影液中的溶解性，并且每个分子具有一个或多个辐射敏感酸生成基团，该基团在施加活性射线或辐射时产生酸，并且其聚苯乙烯还原平均分子量（Mn）通过凝胶渗透色谱（GPC）测量为500至4,000，并且（B）溶剂。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US20130108962A1

  公开（公告）日：2013-05-02

  A radiation-sensitive composition includes a low-molecular-weight compound, a solvent and a radiation-sensitive acid-generator other than the low-molecular-weight compound. The low-molecular-weight compound has one or more acid-dissociable groups which decompose by an action of an acid to enhance solubility in an alkaline developing solution and one or more radiation-sensitive acid-generating groups which generate an acid upon application of an active ray or radiation per molecule. The low-molecular-weight compound has a polystyrene-reduced number-average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) of 500 to 4,000. The low-molecular-weight compound is not obtained from chain growth polymerization of a monomer with an unsaturated bond. A content of the low-molecular-weight compound is 80 mass % or more of 100 mass % of a total solid component of the radiation-sensitive composition. The low-molecular-weight compound is a compound shown by a following formula (1).

  一种辐射敏感组合物包括低分子量化合物、溶剂和除低分子量化合物外的辐射敏感酸发生剂。低分子量化合物具有一个或多个酸可解离基团，这些基团在酸的作用下分解，增强在碱性显影液中的溶解度，以及一个或多个辐射敏感酸生成基团，每个分子在施加活性射线或辐射时生成酸。低分子量化合物的聚苯乙烯还原数平均分子量（Mn）通过凝胶渗透色谱（GPC）测量为500至4,000。低分子量化合物不是从具有不饱和键的单体的链生长聚合中获得的。低分子量化合物的含量是辐射敏感组合物的100质量％的总固体成分的80质量％或更多。低分子量化合物是以下公式（1）所示的化合物。
• Composition for anisotropic conductive film, anisotropic conductive film, and connection structure using the same
  申请人：SAMSUNG SDI CO., LTD.

  公开号：US10224303B2

  公开（公告）日：2019-03-05

  An anisotropic conductive film composition, an anisotropic conductive film prepared using the same, and a connection structure using the same, the anisotropic conductive film including a binder resin; a curable alicyclic epoxy compound; a curable oxetane compound; a quaternary ammonium catalyst; and conductive particles, wherein the anisotropic conductive film has a heat quantity variation rate of about 15% or less, as measured by differential scanning calorimetry (DSC) and calculated by Equation 1: Heat quantity variation rate (%)=[(H0−H1)/H0]×100  Equation 1 wherein H0 is a DSC heat quantity of the anisotropic conductive film, as measured at 25° C. and a time point of 0 hr, and H1 is a DSC heat quantity of the anisotropic conductive film, as measured after being left at 40° C. for 24 hours.

  一种各向异性导电薄膜组合物、使用该组合物制备的各向异性导电薄膜以及使用该组合物制备的连接结构，该各向异性导电薄膜包括粘合剂树脂；可固化脂环族环氧化合物；可固化氧杂环丁烷化合物；季铵催化剂；以及导电颗粒，其中各向异性导电薄膜的热量变化率约为 15%或更低，该热量变化率是通过差示扫描量热法（DSC）测量并通过公式 1 计算得出的： 热量变化率 (%)=[(H0-H1)/H0]×100 公式 1 其中，H0 是各向异性导电薄膜在 25 摄氏度和 0 小时时间点测量的 DSC 热量，H1 是各向异性导电薄膜在 40 摄氏度放置 24 小时后测量的 DSC 热量。
• TW2017/31851
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——