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3-[dibenz(b,f)azepinyl]-9-(2-ethylhexyl)carbazole | 1312704-59-8

中文名称
——
中文别名
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英文名称
3-[dibenz(b,f)azepinyl]-9-(2-ethylhexyl)carbazole
英文别名
11-[9-(2-Ethylhexyl)carbazol-3-yl]benzo[b][1]benzazepine;11-[9-(2-ethylhexyl)carbazol-3-yl]benzo[b][1]benzazepine
3-[dibenz(b,f)azepinyl]-9-(2-ethylhexyl)carbazole化学式
CAS
1312704-59-8
化学式
C34H34N2
mdl
——
分子量
470.657
InChiKey
KXUKJMCELLEOLS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    10.1
  • 重原子数:
    36
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    6.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.24
  • 拓扑面积:
    8.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    3-碘咔唑18-冠醚-6potassium carbonate 、 sodium sulfate 、 potassium hydroxide 作用下, 以 邻二氯苯 为溶剂, 反应 24.0h, 生成 3-[dibenz(b,f)azepinyl]-9-(2-ethylhexyl)carbazole
    参考文献:
    名称:
    咔唑与5 H -dibenz(b,f)azepine及其10,11-dihydro衍生物的侧基加合物的单体和低聚物
    摘要:
    报道了在3位上掺入二苯并enza庚因的一系列咔唑类单体的合成。介绍了其结构的完整特征。使用BF 3 ·O(C 2 H 5)2作为引发剂对单体进行阳离子聚合。通过差示扫描量热法,紫外光谱,电子光发射和飞行时间技术检查了合成的低摩尔质量化合物和低聚物。合成材料薄膜的电子发射光谱显示出5.12–5.34 eV的电离势。分子分散在双酚Z聚碳酸酯中的低摩尔质量化合物的空穴迁移率范围为2.6×10 -8至1.7×10 -6通过静电复印飞行时间技术确定的高电场下的 cm 2 / V s。
    DOI:
    10.1016/j.reactfunctpolym.2011.05.001
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文献信息

  • Monomers and oligomers with the pendent adducts of carbazole with 5H-dibenz(b,f)azepine and its 10,11-dihydro derivative
    作者:A. Tomkeviciene、T. Bartiuk、A. Bucinskas、J.V. Grazulevicius、V. Jankauskas
    DOI:10.1016/j.reactfunctpolym.2011.05.001
    日期:2011.8
    The synthesis of a series of carbazole-based monomers incorporating dibenzazepines at the 3 position is reported. Full characterization of their structures is presented. The monomers were subjected to cationic polymerization using BF3·O(C2H5)2 as an initiator. The synthesized low-molar-mass compounds and oligomers were examined by differential scanning calorimetry, UV spectrometry, electron photoemission
    报道了在3位上掺入二苯并enza庚因的一系列咔唑类单体的合成。介绍了其结构的完整特征。使用BF 3 ·O(C 2 H 5)2作为引发剂对单体进行阳离子聚合。通过差示扫描量热法,紫外光谱,电子光发射和飞行时间技术检查了合成的低摩尔质量化合物和低聚物。合成材料薄膜的电子发射光谱显示出5.12–5.34 eV的电离势。分子分散在双酚Z聚碳酸酯中的低摩尔质量化合物的空穴迁移率范围为2.6×10 -8至1.7×10 -6通过静电复印飞行时间技术确定的高电场下的 cm 2 / V s。
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