trisulfur trinitride anion | 64885-69-4

• 分子结构分类: 无机化合物 - 均质非金属化合物 - 均质其他非金属化合物
• 英文名称: trisulfur trinitride anion
• 英文别名: trisulfur trinitride(1-)；1,3,5,2,4,6-Trithiatriazinyl radical
• CAS: 64885-69-4
• 化学式: N₃S₃
• 分子量: 138.218
• InChiKey: PWTUNIMSUWOZJT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  77.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tetrasulphur dinitride 、 dinitrogen disulphide 、 1,3,5,7,2,4,6,8-四硫杂四氮杂环辛四烯 、 trisulfur trinitride anion 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 poly(sulfur nitride)
  参考文献：
  名称：

  Vaporization of (SN)x. He I photoelectron spectrum and ab initio calculations for the S3N3 radical

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00272a012
• 作为产物：
  描述：

  thiotrithiazyl chloride 以 氨 为溶剂， 生成 trisulfur trinitride anion
  参考文献：
  名称：

  Parkin, Ivan P.; Woollins, J. Derek; Belton, Peter S., Journal of the Chemical Society, Dalton Transactions

  摘要：

  DOI：

文献信息

• A photoelectron/photoionisation and ab initio study of the S3N3 radical produced by vaporisation of (SN) x
  作者：Woon Ming Lau、Nicholas P. C. Westwood、Michael H. Palmer

  DOI：10.1039/c39850000752

  日期：——

  The previously unknown S3N3 radical is the major species produced by vaporisation of the (SN)x polymer; the electronic and geometric structures are studied by means of u.v. photoelectron spectroscopy and electronic structure calculations.

  以前未知的S 3 N 3自由基是（SN）x聚合物汽化产生的主要物质；通过紫外光电子能谱和电子结构计算研究了电子和几何结构。
• The reactions of sulphur–nitrogen species in liquid ammonia
  作者：Peter S. Belton、Ivan P. Parkin、David J. Williams、J. Derek Woollins

  DOI：10.1039/c39880001479

  日期：——

  14 N N.m.r. spectroscopy reveals that liquid ammonia solutions of [S4N3]Cl or [S3N2Cl]Cl contain S3N3– whilst solutions of S4N4 contain S3N3– and S4N5– and traces of other species such as S2N22–; the usefulness of these liquid ammonia solutions in synthesis has been established in several cases with two new complexes being characterised by X-ray crystallography.

  14 ÑNMR谱揭示出的液体氨溶液[S 4 Ñ 3 ] Cl或[S 3 Ñ 2 CL]氯含有小号3 Ñ 3 - ，而S的解决方案4 Ñ 4包含小号3 Ñ 3 -和S 4 Ñ 5 –以及其他物种的痕迹，例如S 2 N 2 2–；这些液体氨溶液在合成中的有用性已经在几种情况下得到证实，其中两种新的配合物通过X射线晶体学表征。
• Electrochemical and Electronic Structure Investigations of the [S₃N₃]^• Radical and Kinetic Modeling of the [S₄N₄]^<i>n</i>/[S₃N₃]^<i>n</i> (<i>n</i> = 0, −1) Interconversion
  作者：René T. Boeré、Tristram Chivers、Tracey L. Roemmele、Heikki M. Tuononen

  DOI：10.1021/ic900742q

  日期：2009.8.3

  simulations of the CVs detected slow rates of electron transfer for both couples and allowed for a determination of rate constants for homogeneous chemical reaction steps subsequent to electron transfer. The common parameters (kf1 = 2.0 ± 0.5 s−1, ks1 = 0.034 ± 0.004 cm s−1 for [S4N4]−/0; kf2 = 0.4 ± 0.2 s−1, ks2 = 0.022 ± 0.005 cm s−1 for [S3N3]−/0 at T = 21 ± 2 °C) fit well to a “square-scheme” mechanism

  在玻璃碳电极上，在CH 2 Cl 2中同时采用循环（CV）和旋转盘（RDE）方法对S 4 N 4进行伏安研究，发现在-1.00 V时单电子还原（二茂铁/二茂铁），产生-0.33 V下的第二个氧化还原对，通过对其盐的CV研究证实是电化学生成的[S 3 N 3 ] -。扩散系数（CH 2氯2 /0.4 M [ Ñ卜4 N] [PF 6 ]）通过RDE方法估计：S 4 Ñ 4，1.17×10 -5厘米2s -1 ; [S 3 N 3 ] -，4.00×10 -6 cm 2 s -1。CV的数字仿真检测到两对电子的电子转移速率较慢，并可以确定电子转移后均相化学反应步骤的速率常数。常用参数（对于[S 4 N 4 ] -/ 0，k f1 = 2.0±0.5 s -1，k s1 = 0.034±0.004 cm s -1；k f2 = 0.4±0.2 s -1，k s2对于[S 3 N 3 ] -/ 0在T
• Dubois; Lelieur; Lepoutre, Inorganic Chemistry, 1988, vol. 27, # 17, p. 3032 - 3038
  作者：Dubois、Lelieur、Lepoutre

  DOI：——

  日期：——
• Chivers, T.; Schmidt, K. J., Canadian Journal of Chemistry, 1992, vol. 70, # 3, p. 710 - 718
  作者：Chivers, T.、Schmidt, K. J.

  DOI：——

  日期：——