1,4-bis-oxiranylmethoxy-naphthalene | 34899-13-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1,4-bis-oxiranylmethoxy-naphthalene
• 英文别名: Naphthalene,4-bis(oxiranylmethoxy)-；2-[[4-(oxiran-2-ylmethoxy)naphthalen-1-yl]oxymethyl]oxirane
• CAS: 34899-13-3
• 化学式: C₁₆H₁₆O₄
• 分子量: 272.301
• InChiKey: RHYLFJIYMVTKQO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  461.7±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.283±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  43.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,4-bis-oxiranylmethoxy-naphthalene 、 异丙胺 以 正己烷 为溶剂， 生成 1,1'-(Naphthalin-1,4-dioxy)bis(3-isopropylamino-2-propanol)
  参考文献：
  名称：

  Beta肾上腺素受体研究。1.一系列新的芳香族双（2-羟基-3-异丙基氨基丙基）醚的体外β-肾上腺素阻断，抗心律不齐和局部麻醉活性。

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jm00251a007
• 作为产物：
  描述：

  1,4-二羟基萘 、 环氧溴丙烷 在 caesium carbonate 作用下， 以 丁酮 为溶剂， 反应 24.0h， 以41%的产率得到1,4-bis-oxiranylmethoxy-naphthalene
  参考文献：
  名称：

  抗肿瘤药-CLXVII。细胞毒性蒽醌1,4-双-（2,3-环氧丙基氨基）-9,10-蒽二酮和相关化合物的合成及其与构效关系。

  摘要：

  在此实验室中合成了1,4-双-（2,3-环氧丙基氨基）-9,10-蒽二酮（3），发现它是有效的抗肿瘤药。还制备了含有蒽醌，萘醌和醌骨架的该化合物的衍生物，并评估了其在几种细胞系中的体外细胞毒性活性。这些分子被设计为双功能抗肿瘤剂，由于它们的平面主链而具有充当（1）嵌入剂和（2）由于其侧链中存在烷基化部分的作用而具有烷基化剂的潜力。具有蒽醌骨架和含环氧化物或卤代醇作为烷基化基团的丙基氨基侧链的化合物比具有萘醌或醌骨架的类似化合物具有更大的活性。没有这些烷基化功能的化合物（例如，带有烯基或氨基的化合物）通常是不活泼的。平面骨架上的羟基取代结合烷基化的侧链产生具有最强细胞毒性活性的化合物。羟基和侧链的位置可以变化而基本上不影响活性。当用环氧丙氧基侧链代替母体化合物中的环氧丙基氨基侧链时，保留了活性。

  DOI：

  10.1016/s0968-0896(97)00097-7

文献信息

• Thermosetting resin composition, electrically insulated coil, electric rotating machine and method for producing same
  申请人：HITACHI, LTD.

  公开号：EP0810249A2

  公开（公告）日：1997-12-03

  A highly thermal-conductive and thermal-resistant electrically insulated coil with less outflow of a thermosetting resin composition can be produced, to provide a small-scale, light-weight rotating machine with high power. The thermosetting resin composition comprising (a) a polyfunctional epoxy resin containing three or more p-(2,3-epoxypropoxy)phenyl groups and a group represented by the Chemical formula 1; or an epoxy resin with a naphthalene backbone, represented by the Chemical formula 3, 4 or 5 or an epoxy resin with an anthracene backbone, such as diglycidyl ether of anthracene diol and triglycidyl ether of anthracene triol; (b) a bifunctional epoxy resin containing two p-(2,3-epoxypropoxy)phenyl groups; (c) an acid anhydride curing agent; and (d) a metal acetonate curing catalyst represented by the Chemical formula 2 at 0.1 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resins. In accordance with the present invention, a highly thermal-conductive and thermal-resistant electrically insulated coil with less outflow of the thermosetting resin composition can be produced, to provide a small-scale, light-weight rotating machine armature with high power.

  可以生产出热固性树脂组合物流出量较少的高导热性和耐热性电绝缘线圈，从而提供一种小型、轻质、高功率的旋转机械。 热固性树脂组合物包括 (a) 多官能环氧树脂，含有三个或三个以上对(2,3-环氧丙氧基)苯基和一个化学式 1 所代表的基团；或化学式 3、4 或 5 所代表的以萘为骨架的环氧树脂，或以蒽为骨架的环氧树脂，如蒽二醇二缩水甘油醚和蒽三醇三缩水甘油醚； (b) 含有两个对(2,3-环氧丙氧基)苯基的双官能环氧树脂； (c) 酸酐固化剂；以及 (d) 由化学式 2 表示的金属丙酮酸盐固化催化剂，以每 100 份环氧树脂的重量计， 其含量为 0.1 至 5 份。 根据本发明，可以生产出一种热固性树脂组合物流出量较少的高导热性和耐热性电绝缘线圈，以提供一种具有高功率的小型轻质旋转机器电枢。
• ANTIREFLECTION FILM FOR SEMICONDUCTOR CONTAINING CONDENSATION TYPE POLYMER
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1757986A1

  公开（公告）日：2007-02-28

  There is provided an anti-reflective coating forming composition comprising a polymer having a pyrimidinetrione structure, imidazolidinedione structure, imidazolidinetrione structure or triazinetrione structure and a solvent. The anti-reflective coating obtained from the composition has a high preventive effect for reflected light, causes no intermixing with photoresists, and can use in lithography process by use of a light having a short wavelength such as ArF excimer laser beam (wavelength 193 nm) or F2 excimer laser beam (wavelength 157 nm), etc.

  本发明提供了一种抗反射涂层成型组合物，该组合物由具有嘧啶三酮结构、咪唑烷二酮结构、咪唑烷三酮结构或三嗪三酮结构的聚合物和溶剂组成。由该组合物制得的防反射涂层对反射光有很好的防止效果，不会与光刻胶混合，并可在光刻工艺中使用 ArF 准分子激光束（波长 193 nm）或 F2 准分子激光束（波长 157 nm）等短波长光。
• COMPOSITION COMPRISING POLYMER HAVING ETHYLENE-DICARBONYL STRUCTURE FOR USE IN FORMING ANTI-REFLECTIVE COATING FOR LITHOGRAPHY
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1876495A1

  公开（公告）日：2008-01-09

  There is provided an anti-reflective coating forming composition for lithography comprising a polymer having an ethylenedicarbonyl structure and a solvent; an anti-reflective coating formed from the composition; and a method for forming photoresist pattern by use of the composition. The anti-reflective coating obtained from the composition can be used in lithography process for manufacturing a semiconductor device, has a high preventive effect for reflected light, causes no intermixing with photoresists, and has a higher etching rate than photoresists.

  本发明提供了一种光刻用抗反射涂层形成组合物，该组合物包含具有亚乙基二羰基结构的聚合物和溶剂；由该组合物形成的抗反射涂层；以及使用该组合物形成光刻胶图案的方法。由该组合物制得的抗反射涂层可用于制造半导体器件的光刻工艺中，对反射光有很好的防止效果，不会与光刻胶混合，而且蚀刻率高于光刻胶。
• Actinic radiation-curable urethane/urea-containing aerospace coatings and sealants
  申请人：PRC-DeSoto International, Inc.

  公开号：US10883016B2

  公开（公告）日：2021-01-05

  Actinic radiation-curable compositions containing polythiols and urethane/urea-containing polyalkenyl prepolymers that can be used for aerospace coatings and sealants. The coatings can be applied to surfaces and rapidly cured.

  辐照固化组合物含有可用于航空涂层和密封剂的聚硫醇和含脲/脲的聚亚烷基预聚物。这种涂料可涂于表面并迅速固化。
• Mlochowski, Jacek; Palus, Jerzy, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1990, vol. 332, # 1, p. 5 - 14
  作者：Mlochowski, Jacek、Palus, Jerzy

  DOI：——

  日期：——