anti-7-Cyano-2-norbornen | 90005-30-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: anti-7-Cyano-2-norbornen
• 英文别名: Bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-7-carbonitrile
• CAS: 90005-30-4
• 化学式: C₈H₉N
• 分子量: 119.166
• InChiKey: PBPLQFZQMUYMCG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  23.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-碘苯甲醚 、 anti-7-Cyano-2-norbornen 、 (E)-4-methylstyrenyl bromide 在 三(2-呋喃基)膦 、 palladium diacetate 、 caesium carbonate 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 12.0h， 以82%的产率得到(Z)-5-methoxy-9-(4-methylbenzylidene)-2,3,4,4a,9,9a-hexahydro-1H-1,4-methanofluorene-3-carbonitrile
  参考文献：
  名称：

  立体催化合成多取代烯烃的钯催化多米诺反应：蓝色发光剂的构建

  摘要：

  已经开发出第一个钯催化的芳基碘化物，烯基溴化物和应变烯烃的多组分反应，这使我们能够以45-96％的产率合成多种多元取代的烯烃，并具有出色的立体选择性。产物的构型由烯基溴化物的构型控制。此外，发现使用容易获得的底物的这种实用方法对多种官能团具有耐受性。通过这种方法已经成功地合成了五十六个高度立体选择性的三或四取代烯烃的例子。大多数合成的四取代烯烃都是良好的聚集诱导发射（AIE）发光剂。

  DOI：

  10.1021/acs.joc.8b00150

文献信息

• RESIST POLYMER AND RESIST COMPOSITION
  申请人：MOMOSE Hikaru

  公开号：US20090263743A1

  公开（公告）日：2009-10-22

  The resist polymer of the present invention comprises a specific constitutional unit having a cyano group, a constitutional unit having an acid-dissociable group, and a specific constitutional unit having a lactone skeleton. When the above polymer is used as a resist resin in DUV excimer laser lithography or electron beam lithography, it exhibits high sensitivity and high resolution, and provides a good resist pattern shape, having a small degree of occurrence of line edge roughness or generation of microgels.
• US7575846B2
  申请人：——

  公开号：US7575846B2

  公开（公告）日：2009-08-18
• US8092979B2
  申请人：——

  公开号：US8092979B2

  公开（公告）日：2012-01-10