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3-bromo-N-methylpropanamine hydrobromide | 60035-88-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
3-bromo-N-methylpropanamine hydrobromide
英文别名
(3-Bromopropyl)(methyl)amine hydrobromide;3-bromo-N-methylpropan-1-amine;hydrobromide
3-bromo-N-methylpropanamine hydrobromide化学式
CAS
60035-88-3
化学式
BrH*C4H10BrN
mdl
MFCD27954546
分子量
232.946
InChiKey
JARMQLAGTBFTAL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    64-66 °C

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.72
  • 重原子数:
    7
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    12
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    Angiolini,L. et al., Gazzetta Chimica Italiana, 1976, vol. 106, p. 111 - 118
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    3-(甲胺基)-1-丙醇氢溴酸 作用下, 以131.2 g的产率得到3-bromo-N-methylpropanamine hydrobromide
    参考文献:
    名称:
    싸이클로펜타디엔일 유도체 중간체 및 상기 싸이클로펜타디엔일 유도체 제조방법
    摘要:
    本发明涉及用于原子层沉积(ALD:Atomic Layer Deposition)或化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)工艺中使用的自限制反应(Self-limiting reaction)的金属前体(Metal Precursor)的构成,其中金属前体是化学式3的环戊二烯甲基胺(以下简称CpEMA)或化学式4的环戊二烯甲基丙胺(以下简称CpPMA)的配体化合物。本发明涉及一种用于制备CpEMA或CpPMA的新中间体的方法,该中间体是化学式1的环戊二烯甲基胺乙酸盐或化学式2的环戊二烯甲基丙胺乙酸盐,并且将化学式1或化学式2的化合物作为中间体,以制备化学式3和化学式4的化合物。本发明提供了一种利用新型中间体简便易行地制备高纯度的环戊二烯甲基衍生物,以构成用于原子层沉积(ALD:Atomic Layer Deposition)或化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)工艺中使用的前体(Precursor)中的自限制反应(Self-limiting reaction)的前体。
    公开号:
    KR20180054180A
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文献信息

  • 원자층 증착/화학적 기상 증착 공정에서 위한 전구체를 구성하는 유기 리간드의 제조방법
    申请人:Xiang Myung-Xik 장명식(420200051788)
    公开号:KR20210095521A
    公开(公告)日:2021-08-02
    본 발명은 원자층 증착(ALD : Atomic Layer Deposition) 및 화학적 기상 증착 (Chemical Vapor Deposition)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 공정에 이용되는 전구체(Precursor) 중, 자가 제한적 반응(Self-limiting reaction)에 사용되는 전구체(Precursor)를 구성하는 리간드 유기화합물 화학식 1 화합물과 화학식 2 화합물 [화학식 1] [화학식 2] 를 고순도, 고효율로 유기 용매를 사용하지 않고 자연 친화적인 방법으로 수용액에서 제조할 수 있는 제조방법에 관한 것이다.
    本发明涉及一种制备用于选择从由原子层沉积(ALD:Atomic Layer Deposition)和化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)组成的群体中的工艺中使用的前体(Precursor)的自限制反应(Self-limiting reaction)的前体(Precursor)的配体有机化合物化学式1和化学式2的制备方法,其可以在不使用高纯度、高效率有机溶剂的情况下,在自然亲和力的条件下在溶液中制备。
  • 去甲基奥洛他定及其中间体的合成方法
    申请人:重庆西南制药二厂有限责任公司
    公开号:CN114276384A
    公开(公告)日:2022-04-05
    本申请涉及药物合成领域,公开了一种去甲基奥洛他定及其中间体的合成方法,去甲基奥洛他定的中间体的合成方法包括以下步骤:加入溶剂,三苯基膦和第一原料,在保护气体氛围下,加热搅拌;减压蒸馏至干,加水,加提取溶剂,分液保留有机相,有机相以中和碱溶液搅洗,分液保留有机相,有机相以干燥剂干燥后蒸馏至干;重结晶,抽滤得白色固体,将白色固体置于烘干至恒重;所述第一原料为(3‑溴丙基)(N‑甲基)胺氢溴酸盐或3‑溴丙胺氢溴酸盐。在本申请中,通过引入第一原料分别与三苯基膦反应,再直接中和去除中间体的溴化氢分子,以便在后续去甲基奥洛他定合成中减少金属还原剂用量,达到高效却安全风险降低的目的。
  • 싸이클로펜타디엔일 유도체 중간체 및 상기 싸이클로펜타디엔일 유도체 제조방법
    申请人:LPN Inc 주식회사 엘피엔(120160869447) Corp. No ▼ 134811-0251596BRN ▼135-86-26047
    公开号:KR20180054180A
    公开(公告)日:2018-05-24
    본 발명은 원자층 증착(ALD : Atomic Layer Deposition) 또는 화학적 기상 증착 (Chemical Vapor Deposition) 공정에 이용되는 자가 제한적 반응(Self-limiting reaction)에 사용되는 금속 전구체(Metal Precursor)를 구성하는 리간드 화합물인 화학식 3의 싸이클로펜타디엔일에칠메칠아민(이하 CpEMA) 또는 하기 화학식 4의 싸이클로펜타디엔일프로필메칠아민(이하 CpPMA)을 제조하기 위한 중간체인 신규한 하기 화학식 1의싸이클로펜타디엔일에칠메칠아민 옥살산염 또는 화학식 2의 싸이클로펜타디엔일프로필메칠아민 옥살산염 및 상기 화학식 1 또는 화학식 2의 화합물을 중간체로 하여 화학식 3 화합물 및 화학식 4 화합물을 제조하는 방법에 관한 것으로, 본 발명은 원자층 증착(ALD : Atomic Layer Deposition) 또는 화학적 기상 증착 (Chemical Vapor Deposition) 공정에 이용되는 전구체(Precursor) 중, 자가 제한적 반응(Self-limiting reaction)에 사용되는 전구체(Precursor)를 구성하는 싸이클로펜타디엔일 유도체를 신규한 중간체를 이용하여 고순도로 간편하고 용이하게 제조하는 방법을 제공한다.
    本发明涉及用于原子层沉积(ALD:Atomic Layer Deposition)或化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)工艺中使用的自限制反应(Self-limiting reaction)的金属前体(Metal Precursor)的构成,其中金属前体是化学式3的环戊二烯甲基胺(以下简称CpEMA)或化学式4的环戊二烯甲基丙胺(以下简称CpPMA)的配体化合物。本发明涉及一种用于制备CpEMA或CpPMA的新中间体的方法,该中间体是化学式1的环戊二烯甲基胺乙酸盐或化学式2的环戊二烯甲基丙胺乙酸盐,并且将化学式1或化学式2的化合物作为中间体,以制备化学式3和化学式4的化合物。本发明提供了一种利用新型中间体简便易行地制备高纯度的环戊二烯甲基衍生物,以构成用于原子层沉积(ALD:Atomic Layer Deposition)或化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)工艺中使用的前体(Precursor)中的自限制反应(Self-limiting reaction)的前体。
  • Angiolini,L. et al., Gazzetta Chimica Italiana, 1976, vol. 106, p. 111 - 118
    作者:Angiolini,L. et al.
    DOI:——
    日期:——
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