본 발명은 원자층 증착(ALD : Atomic Layer Deposition) 및 화학적 기상 증착 (Chemical Vapor Deposition)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 공정에 이용되는 전구체(Precursor) 중, 자가 제한적 반응(Self-limiting reaction)에 사용되는 전구체(Precursor)를 구성하는 리간드 유기화합물 화학식 1 화합물과 화학식 2 화합물 [화학식 1] [화학식 2] 를 고순도, 고효율로 유기 용매를 사용하지 않고 자연 친화적인 방법으로 수용액에서 제조할 수 있는 제조방법에 관한 것이다.
本发明涉及一种制备用于选择从由原子层沉积(ALD:Atomic Layer Deposition)和
化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)组成的群体中的工艺中使用的前体(Precursor)的自限制反应(Self-limiting reaction)的前体(Precursor)的
配体有机化合物
化学式1和
化学式2的制备方法,其可以在不使用高纯度、高效率有机溶剂的情况下,在自然亲和力的条件下在溶液中制备。