(4-hydroxyphenyl)diphenylsulfonium chloride | 345580-98-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: (4-hydroxyphenyl)diphenylsulfonium chloride
• 英文别名: 4-(Diphenyl-lambda4-sulfanylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one;hydrochloride；4-(diphenyl-λ4-sulfanylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one;hydrochloride
• CAS: 345580-98-5
• 化学式: C₁₈H₁₅OS*Cl
• 分子量: 314.835
• InChiKey: YAFVTOLUUZOHAS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.49
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  21.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4-hydroxyphenyl)diphenylsulfonium chloride 在 1-甲基吡咯烷 作用下， 以 氯仿 、 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 18.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  JP6097568

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  二氯甲烷 、 二苯基(4-甲氧基苯基)三氟化硫 、 Boron tribromide dichloromethane 在 甲醇 、 水 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 2.0h， 以to obtain 11.5 g of diphenyl-4-hydroxyphenylsulfonium chloride的产率得到(4-hydroxyphenyl)diphenylsulfonium chloride
  参考文献：
  名称：

  Negative radiation-sensitive resin composition

  摘要：

  一种负型辐射敏感树脂组合物，包括(A)一种可溶于碱性溶液的树脂，其中包含一种共聚物，所述共聚物选自羟基苯乙烯/苯乙烯共聚物，其中羟基苯乙烯单元的含量为65至90摩尔％，以及羟基苯乙烯/α-甲基苯乙烯共聚物，其中羟基苯乙烯单元的含量为65至90摩尔％；(B)一种辐射敏感的酸发生剂，其中包含一种含有羟基基团的阳离子盐化合物；以及(C)一种交联剂，其中包含一种N-(烷氧甲基)脲基乙醇化合物。该组合物适用于化学放大负型光阻，可应用于通常浓度的碱性显影液，并能形成具有高分辨率的矩形横截面形状的线与空间图案的光阻图案，同时具有优异的敏感性、显影性和尺寸保真度。

  公开号：

  US20010006758A1

文献信息

• カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2021035939A

  公开（公告）日：2021-03-04

  【課題】良好なラインエッジラフネスでレジストパターンを製造することができるカルボン酸塩及び該カルボン酸塩を含むレジスト組成物の提供。【解決手段】下式（ＩＡ）又は式（ＩＢ）で表されるカルボン酸塩。【選択図】なし

  提供含有碳酸盐和该碳酸盐的光阻组合物，可用于制造具有良好线边粗糙度的光阻图案。解决方案是碳酸盐，其由以下化学式（IA）或（IB）表示。【选择图】无
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN AND SULFONIUM COMPOUND
  申请人：SATO Mitsuo

  公开号：US20130045446A1

  公开（公告）日：2013-02-21

  A radiation-sensitive resin composition includes a sulfonium compound represented by a general formula (1), and a first polymer that serves as a base resin. R represents a group represented by a general formula (2). n 1 to n 3 each independently represent an integer of 0 to 5 and n 1 +n 2 +n 3 ≧1. X − represents an anion. The sulfonium compound is preferably a compound represented by a following general formula (1-1).

  一种辐射敏感的树脂组合物，包括一种由通式（1）表示的磺酸盐化合物和作为基础树脂的第一聚合物。其中，R代表由通式（2）表示的基团，n1到n3各自独立地表示0到5的整数，且n1+n2+n3≥1。X-表示阴离子。最好的磺酸盐化合物是由下列通式（1-1）表示的化合物。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20220348541A1

  公开（公告）日：2022-11-03

  Disclosed are a salt represented by formula (I), an acid generator, and a resist composition including the same: wherein R 1 , R 2 and R 3 each represent a hydroxy group, *—O—R 10 , *—O—CO—O—R 10 , etc.; L 10 represents an alkanediyl group; R 10 represents an acid-labile group; R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each represent a halogen atom, a haloalkyl group or a hydrocarbon group; A 1 , A 2 and A 3 each represent a hydrocarbon group which may have a substituent, and —CH 2 — included in the hydrocarbon group may be replaced by —O—, —CO—, —S— or —SO 2 —; m1 represents an integer of 1 to 5, m2, m3, m8 and m9 represent an integer of 0 to 5, m4 to m7 represent an integer of 0 to 4, 1≤m1+m7≤5, 0≤m2+m8≤5, 0≤m3+m9≤5; and AI − represents an organic anion.

  本发明涉及一种由公式（I）表示的盐，酸发生剂以及包括它们的抗蚀剂组合物：其中R1、R2和R3分别表示羟基、*—O—R10、*—O—CO—O—R10等；L10表示脂肪二烷基基团；R10表示酸敏感基团；R4、R5、R6、R7、R8和R9分别表示卤素原子、卤代烷基或烃基；A1、A2和A3分别表示可能具有取代基的烃基，且包括在烃基中的—CH2—可被—O—、—CO—、—S—或—SO2—所替代；m1表示1到5的整数，m2、m3、m8和m9表示0到5的整数，m4到m7表示0到4的整数，1≤m1+m7≤5，0≤m2+m8≤5，0≤m3+m9≤5；AI-表示有机阴离子。
• JP6009730
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• JP5793833
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——