5-氯萘-2-甲腈 | 73399-86-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 5-氯萘-2-甲腈
• 英文名称: 5-chloro-[2]naphthonitrile
• 英文别名: 5-Chlor-[2]naphthonitril；5-Chloronaphthalene-2-carbonitrile
• CAS: 73399-86-7
• 化学式: C₁₁H₆ClN
• 分子量: 187.628
• InChiKey: KUOUXFRSMZDZFR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  23.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-氯萘-2-甲腈 在 potassium carbonate 作用下， 生成 5-氯-2-萘甲酸
  参考文献：
  名称：

  Ekstrand, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1891, vol. <2> 43, p. 427

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-萘甲腈 在 碘 、 氯 、 溶剂黄146 作用下， 生成 5-氯萘-2-甲腈
  参考文献：
  名称：

  Ekstrand, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1891, vol. <2> 43, p. 427

  摘要：

  DOI：

文献信息

• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。
• COMPOSITION COMPRISING CHELATING AGENTS CONTAINING AMIDOXIME COMPOUNDS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100105595A1

  公开（公告）日：2010-04-29

  The present invention is a novel aqueous cleaning solution for use in semiconductor front end of the line (FEOL) manufacturing process wherein the cleaning solution comprises at least one amidoxime compound.

  本发明是一种用于半导体前端制造过程中的新型水性清洗溶液，其中清洗溶液包含至少一种酰胺肟化合物。
• LACTAM-CONTAINING COMPOUNDS AND DERIVATIVES THEREOF AS FACTOR XA INHIBITORS
  申请人：Pinto Donald J.P.

  公开号：US20100119510A1

  公开（公告）日：2010-05-13

  The present application describes lactam-containing compounds and derivatives thereof of Formula I: P 4 —P-M-M 4 I or pharmaceutically acceptable salt forms thereof, wherein ring P, if present is a 5-7 membered carbocycle or heterocycle and ring M is a 5-7 membered carbocycle or heterocycle. Compounds of the present invention are useful as inhibitors of trypsin-like serine proteases, specifically factor Xa.

  本申请描述了一些含有内酰胺化合物及其衍生物，其化学式为I:P4—P-M-M4I，或其药学上可接受的盐形式。其中，若存在环P，则为5-7成员的碳环或杂环，环M为5-7成员的碳环或杂环。本发明的化合物可用作胰蛋白酶样丝氨酸蛋白酶的抑制剂，特别是Xa因子的抑制剂。
• ARYL BENZYLAMINE COMPOUNDS
  申请人：ANGST Daniela

  公开号：US20110190258A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  The present invention relates to substituted aryl-benzylamine compounds, to processes for their production, to their use as pharmaceuticals and to pharmaceutical compositions comprising them.

  本发明涉及取代芳基苄胺化合物，其生产过程，其作为药物的用途以及包含它们的药物组成物。