5-(chlorosulfonyl)-1-naphthalenecarboxylic acid methyl ester | 141952-09-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 5-(chlorosulfonyl)-1-naphthalenecarboxylic acid methyl ester
• 英文别名: Methyl 5-(chlorosulfonyl)naphthalene-1-carboxylate；methyl 5-chlorosulfonylnaphthalene-1-carboxylate
• CAS: 141952-09-2
• 化学式: C₁₂H₉ClO₄S
• 分子量: 284.72
• InChiKey: CNFVMBKEYPEFQX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  68.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-(chlorosulfonyl)-1-naphthalenecarboxylic acid methyl ester 在 copper(l) iodide 、 N,N-二异丙基乙胺 、 三氟乙酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 15.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  聚乙酰胺模拟物的双重化学修饰：具有强细胞毒性的离子通道形成48-mer肽的合理设计和合成

  摘要：

  Polytheonamide B（1）是一种天然肽，对P388小鼠白血病细胞表现出强大的细胞毒性（IC 50 = 0.098 n m）。已知线性48-mer 1在与脂质双层结合时会形成单价阳离子通道。我们之前开发了1的完全合成路线，然后实现了结构简化的1的类似物的设计和合成，即dansylated polytheonamide mimic 2。尽管发现合成上更容易接近的2模仿了1的通道功能，但其细胞毒性却降低了120倍。本文中，七种类似物的化学制备和生物学评价报告了3 – 9（共2）。化合物3 - 9在它们的N末端和/或残基44的侧链进行了修改2，以改变它们的物理化学性质。的全合成3 - 9是由固相和溶液相化学的组合以统一的方式来完成的。对疏水性，单通道电流，离子交换活性和3 – 9的细胞毒性的系统评价表明，它们的疏水性与离子交换的总强度相关，并确定其细胞毒性潜能。因此，最疏水的类似物9具有最低的IC

  DOI：

  10.1002/chem.201504632
• 作为产物：
  描述：

  3-[(1-羟基-2-萘基)偶氮]苯磺化钠 在 氯磺酸 作用下， 以4.53 g的产率得到5-(chlorosulfonyl)-1-naphthalenecarboxylic acid methyl ester
  参考文献：
  名称：

  通过核超载增强测量确定取代萘的结构

  摘要：

  通过案例研究描述了方法，该方法结合现代1 H NMR方法确定萘，尤其是萘磺酸衍生物衍生产品中取代基的方向。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(01)88771-8

文献信息

• Sulfonamide endothelin antagonists
  申请人：Bristol-Myers Squibb Co.

  公开号：US05378715A1

  公开（公告）日：1995-01-03

  Compounds of the formula ##STR1## inhibit endothelin, wherein: one of X and Y is N and the other is O; R is naphthyl or naphthyl substituted with R.sup.1, R.sup.2 and R.sup.3 ; R.sup.1, R.sup.2 and R.sup.3 are each independently hydrogen; alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxy, cycloalkyl, cycloalkylalkyl, cycloalkenyl, cycloalkenylalkyl, aryl, or aralkyl, any of which may be substituted with Z.sup.1, Z.sup.2 and Z.sup.3 ; halo; hydroxyl; cyano; nitro; --C(O)H; --C(O)R.sup.6 ; CO.sub.2 H; --CO.sub.2 R.sup.6 ; --SH; --S(O).sub.n R.sup.6 ; --S(O).sub.m --OH; --S(O).sub.m --OR.sup.6 ; --O--S(O).sub.m --R.sup.6 ; --O--S(O).sub.m OH; --O--S(O).sub.m --OR.sup.6 ; --Z.sup.4 --NR.sup.7 R.sup.8 ; or --Z.sup.4 --N(R.sup.11)--Z.sup.5 --NR.sup.9 R.sup.10 ; R.sup.4 and R.sup.5 are each independently hydrogen; alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxy, cycloalkyl, cycloalkylalkyl, cycloalkenyl, cycloalkenylalkyl, aryl, or aralkyl, any of which may be substituted with Z.sup.1, Z.sup.2 and Z.sup.3 ; halo; hydroxyl; cyano; nitro; --C(O)H; --C(O)R.sup.6 ; --CO.sub.2 H; --CO.sub.2 R.sup.6 ; --SH, --S(O).sub.n R.sup.6 ; --S(O).sub.m --OH; --S(O).sub.m --OR.sup.6 ; --O--S(O).sub.m --R.sup.6 ; --O--S(O).sub.m OH; --O--S(O).sub.m --OR.sup.6 ; --Z.sup.4 --NR.sup.7 R.sup.8 ; --Z.sup.4 --N(R.sup.11)--Z.sup.5 --NR.sup.9 R.sup.10 ; or R.sup.4 and R.sup.5 together are alkylene or alkenylene (either of which may be substituted with Z.sup.1, Z.sup.2 and Z.sup.3), completing a 4- to 8-membered saturated, unsaturated or aromatic ring together with the carbon atoms to which they are attached.

  ##STR1##的化合物抑制内皮素，其中：X和Y中的一个是N，另一个是O；R是萘基或被R.sup.1，R.sup.2和R.sup.3取代的萘基；R.sup.1，R.sup.2和R.sup.3分别独立地是氢；烷基，烯基，炔基，烷氧基，环烷基，环烷基烷基，环烯基，环烯基烷基，芳基或芳基烷基，其中任何一个可能被Z.sup.1，Z.sup.2和Z.sup.3取代；卤素；羟基；氰基；硝基；--C(O)H；--C(O)R.sup.6；CO.sub.2 H；--CO.sub.2 R.sup.6；--SH；--S(O).sub.n R.sup.6；--S(O).sub.m --OH；--S(O).sub.m --OR.sup.6；--O--S(O).sub.m --R.sup.6；--O--S(O).sub.m OH；--O--S(O).sub.m --OR.sup.6；--Z.sup.4 --NR.sup.7 R.sup.8；或--Z.sup.4 --N(R.sup.11)--Z.sup.5 --NR.sup.9 R.sup.10；R.sup.4和R.sup.5分别独立地是氢；烷基，烯基，炔基，烷氧基，环烷基，环烷基烷基，环烯基，环烯基烷基，芳基或芳基烷基，其中任何一个可能被Z.sup.1，Z.sup.2和Z.sup.3取代；卤素；羟基；氰基；硝基；--C(O)H；--C(O)R.sup.6；--CO.sub.2 H；--CO.sub.2 R.sup.6；--SH，--S(O).sub.n R.sup.6；--S(O).sub.m --OH；--S(O).sub.m --OR.sup.6；--O--S(O).sub.m --R.sup.6；--O--S(O).sub.m OH；--O--S(O).sub.m --OR.sup.6；--Z.sup.4 --NR.sup.7 R.sup.8；--Z.sup.4 --N(R.sup.11)--Z.sup.5 --NR.sup.9 R.sup.10；或R.sup.4和R.sup.5一起是烷基或烯基（其中任何一个可能被Z.sup.1，Z.sup.2和Z.sup.3取代），与它们连接的碳原子一起形成4-至8-成员饱和，不饱和或芳香环。
• POLYMER, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD, METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3896521A1

  公开（公告）日：2021-10-20

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of -CO- and -SO2-; X1 is a tetravalent organic group; and 1 is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任何一种；X1 是四价有机基团；1 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• Polymer, photosensitive resin composition, patterning method, method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US11333975B2

  公开（公告）日：2022-05-17

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of —CO— and —SO2—; X1 is a tetravalent organic group; and l is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任意一种；X1 是四价有机基团；l 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• Discovery and Structure-Activity Relationships of Sulfonamide ETA-Selective Antagonists
  作者：Philip D. Stein、David M. Floyd、Sharon Bisaha、Joyce Dickey、Ravindar N. Girotra、Jack Z. Gougoutas、Michael Kozlowski、Ving G. Lee、Eddie C.-K. Liu

  DOI：10.1021/jm00008a013

  日期：1995.4

  Random screening of compounds in an ETA receptor binding assay led to the discovery of a class of benzenesulfonamide ligands. Optimization led to the development of 5-amino-N-(3,4-dimethyl-5-isoxazolyl)-1-naphthalenesulfonamides which were functional antagonists. Structural features which were important to activity included a 1,5-substitution pattern on the naphthalene ring; a sulfonamide NH with a pK value < 7; an amine, preferably with alkyl substituents, at the 5-position; and methyl groups on both the 3- and 4-positions of the isoxazole.
• ISOXAZOLE DERIVATIVES AS FXR AGONISTS AND METHODS OF USE THEREOF
  申请人：Enanta Pharmaceuticals, Inc.

  公开号：US20200361920A1

  公开（公告）日：2020-11-19

  The present invention discloses compounds of Formula (I), and pharmaceutically acceptable salts and esters thereof: pharmaceutical compositions comprising these compounds and methods of using these compounds to treat or prevent a disease or disorder mediated as FXR modulators. Specifically, the present invention relates to isoxazole derivatives useful as agonists for FXR, and methods for their preparation and use.