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1-[[4-[Bis(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]phenyl]-(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-2,6-diol

中文名称
——
中文别名
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英文名称
1-[[4-[Bis(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]phenyl]-(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-2,6-diol
英文别名
——
1-[[4-[Bis(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]phenyl]-(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-2,6-diol化学式
CAS
——
化学式
C48H34O8
mdl
——
分子量
738.793
InChiKey
XPWHYZXBOWNZSF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    10.3
  • 重原子数:
    56.0
  • 可旋转键数:
    6.0
  • 环数:
    9.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.04
  • 拓扑面积:
    161.84
  • 氢给体数:
    8.0
  • 氢受体数:
    8.0

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    2,6-萘二酚对苯二甲醛硫酸 作用下, 以 丁酮 为溶剂, 反应 6.0h, 以0.1 g的产率得到1-[[4-[Bis(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]phenyl]-(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-2,6-diol
    参考文献:
    名称:
    RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
    摘要:
    描述了一种包含由通式(1)或(2)表示的化合物的光刻胶组合物,使用该组合物形成光刻胶图案的方法,用于该组合物的多酚化合物,以及可以由其衍生的醇化合物。
    公开号:
    US20160145231A1
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文献信息

  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
    申请人:Echigo Masatoshi
    公开号:US20140248561A1
    公开(公告)日:2014-09-04
    A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.
  • US9540339B2
    申请人:——
    公开号:US9540339B2
    公开(公告)日:2017-01-10
  • US9598392B2
    申请人:——
    公开号:US9598392B2
    公开(公告)日:2017-03-21
  • US9908831B2
    申请人:——
    公开号:US9908831B2
    公开(公告)日:2018-03-06
  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
    申请人:Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
    公开号:US20160145231A1
    公开(公告)日:2016-05-26
    A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.
    描述了一种包含由通式(1)或(2)表示的化合物的光刻胶组合物,使用该组合物形成光刻胶图案的方法,用于该组合物的多酚化合物,以及可以由其衍生的醇化合物。
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