Di-α-methylennaphthyl-sulfon | 69511-16-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: Di-α-methylennaphthyl-sulfon
• 英文别名: bis-[1]naphthylmethyl sulfone；Bis-[1]naphthylmethyl-sulfon；Bis(1-naphthylmethyl) sulfone；1-(naphthalen-1-ylmethylsulfonylmethyl)naphthalene
• CAS: 69511-16-6
• 化学式: C₂₂H₁₈O₂S
• 分子量: 346.45
• InChiKey: TWPBAZPOWLULEH-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  208-211 °C(Solv: ethanol (64-17-5); hexane (110-54-3))
• 沸点：
  623.0±44.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.272±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.1
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.09
• 拓扑面积：
  42.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  (氯甲基)萘 在 sodium sulfide 、 双氧水 、 溶剂黄146 作用下， 生成 Di-α-methylennaphthyl-sulfon
  参考文献：
  名称：

  Cyclic Sulfones. The Condensation of Ethyl Oxalate with Arylmethyl Sulfones

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01163a010

文献信息

• Resist materials and processes of their use
  申请人：AT&T Corp.

  公开号：US05374504A1

  公开（公告）日：1994-12-20

  Resist materials sensitive to actinic radiation are formed from an acid generator and a material sensitive to acid. The acid from the acid generator interacts with the acid sensitive material to produce a change in solubility. Particularly useful acid generators included benzyl and naphthylmethyl sulfones.

  抵抗感光辐射的材料是由酸发生剂和对酸敏感的材料形成的。酸发生剂中的酸与对酸敏感的材料相互作用，产生溶解度的变化。特别有用的酸发生剂包括苄基和萘基甲基磺酮。
• Khurana, Jitender M.; Bansal, Geeti; Sahoo, Prabhat K., Journal of Chemical Research, 2004, # 2, p. 139 - 140
  作者：Khurana, Jitender M.、Bansal, Geeti、Sahoo, Prabhat K.

  DOI：——

  日期：——
• Cyclic Sulfones. The Condensation of Ethyl Oxalate with Arylmethyl Sulfones
  作者：C. G. Overberger、Salomon P. Ligthelm、Edwin A. Swire

  DOI：10.1021/ja01163a010

  日期：1950.7
• Harris, Alan R., Synthetic Communications, 1988, vol. 18, # 7, p. 659 - 664
  作者：Harris, Alan R.

  DOI：——

  日期：——
• HARRIS, ALAN R., SYNTH. COMMUN., 18,(1988) N 7, 659-663
  作者：HARRIS, ALAN R.

  DOI：——

  日期：——