6-n-butoxy-2-naphthalene thiol | 733045-26-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 6-n-butoxy-2-naphthalene thiol
• 英文别名: 6-butoxynaphthalene-2-thiol
• CAS: 733045-26-6
• 化学式: C₁₄H₁₆OS
• 分子量: 232.346
• InChiKey: HZTFNZFDZXFGLM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  10.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-n-butoxy-2-naphthalene thiol 、 4-氯丁醇 在 三乙胺 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 15.25h， 生成 4-hydroxybutyl-(6-n-butoxynaphthalen-2-yl)sulfide
  参考文献：
  名称：

  EP1586570

  摘要：

  公开号：

文献信息

• Sulfonium salts, radiation- sensitive acid generators, and positive radiator-sensitive resin compositions
  申请人：Miyamatsu Takashi

  公开号：US20060141383A1

  公开（公告）日：2006-06-29

  A sulfonium salt compound excelling in transparency to deep ultraviolet rays at a wavelength of 220 nm or less, exhibiting well-balanced excellent performance such as sensitivity, resolution, pattern form, LER, and storage stability when used as a photoacid generator, a photoacid generator comprising the sulfonium salt compound, and a positive-tone radiation-sensitive resin composition containing the photoacid generator. The sulfonium salt compound is shown by the following formula (I), wherein R 1 represents a halogen atom, an alkyl group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group, an alkoxyl group, or —OR 3 group, wherein R 3 is a monovalent alicyclic hydrocarbon group, R 2 represents a (substituted)-alkyl group or two or more R 2 groups form a cyclic structure, p is 0-7, q is 0-6, n is 0-3, and X − indicates a sulfonic acid anion. The positive-tone radiation-sensitive resin composition comprises (A) a photoacid generator of the sulfonium-salt compound and (B) an acid-dissociable group-containing resin.

  一种亚砜盐化合物，在波长为220纳米或更短的深紫外线下具有优异的透明度，当用作光酸发生剂时，表现出良好的性能平衡，如灵敏度、分辨率、图案形态、LER和储存稳定性。该光酸发生剂包含亚砜盐化合物，且包含该光酸发生剂的正电调辐射敏感树脂组成物。该亚砜盐化合物由以下公式(I)表示，其中R1表示卤素原子、烷基、一价脂环烃基、烷氧基或-OR3基，其中R3为一价脂环烃基，R2表示(取代)-烷基或两个或更多的R2基形成环状结构，p为0-7，q为0-6，n为0-3，X-表示磺酸根离子。该正电调辐射敏感树脂组成物包括(A)亚砜盐化合物的光酸发生剂和(B)含酸可解离基团的树脂。
• Sulfonium salt compound, photoacid generator, and positive-tone radiation-sensitive resin composition
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US07371503B2

  公开（公告）日：2008-05-13

  A sulfonium salt compound excelling in transparency to deep ultraviolet rays at a wavelength of 220 nm or less, exhibiting well-balanced excellent performance such as sensitivity, resolution, pattern form, LER, and storage stability when used as a photoacid generator, a photoacid generator comprising the sulfonium salt compound, and a positive-tone radiation-sensitive resin composition containing the photoacid generator. The sulfonium salt compound is shown by the following formula (I), wherein R1 represents a halogen atom, an alkyl group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group, an alkoxyl group, or —OR3 group, wherein R3 is a monovalent alicyclic hydrocarbon group, R2 represents a (substituted)-alkyl group or two or more R2 groups form a cyclic structure, p is 0-7, q is 0-6, n is 0-3, and X− indicates a sulfonic acid anion. The positive-tone radiation-sensitive resin composition comprises (A) a photoacid generator of the sulfonium-salt compound and (B) an acid-dissociable group-containing resin.

  一种亚砜盐化合物，在220纳米或更短波长的深紫外线下具有优异的透明性，作为光酸发生剂使用时，表现出良好的性能平衡，如灵敏度、分辨率、图案形成、LER和储存稳定性。该光酸发生剂包含上述亚砜盐化合物，并且还包括含有该光酸发生剂的正电调辐射敏感树脂组合物。该亚砜盐化合物的化学式(I)如下所示：其中，R1代表卤素原子、烷基、一价脂环烃基、烷氧基或—OR3基，其中R3为一价脂环烃基，R2代表（取代）烷基或两个或更多的R2基形成环状结构，p为0-7，q为0-6，n为0-3，X-表示磺酸盐阴离子。该正电调辐射敏感树脂组合物包括（A）上述亚砜盐化合物的光酸发生剂和（B）含有酸可解离基团的树脂。
• SULFONIUM SALTS, RADIATION-SENSITIVE ACID GENERATORS, AND POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITIONS
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1586570A1

  公开（公告）日：2005-10-19

  A sulfonium salt compound excelling in transparency to deep ultraviolet rays at a wavelength of 220 nm or less, exhibiting well-balanced excellent performance such as sensitivity, resolution, pattern form, LER, and storage stability when used as a photoacid generator, a photoacid generator comprising the sulfonium salt compound, and a positive-tone radiation-sensitive resin composition containing the photoacid generator. The sulfonium salt compound is shown by the following formula (I), wherein R1 represents a halogen atom, an alkyl group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group, an alkoxyl group, or -OR3 group, wherein R3 is a monovalent alicyclic hydrocarbon group, R2 represents a (substituted)-alkyl group or two or more R2 groups form a cyclic structure, p is 0-7, q is 0-6, n is 0-3, and X- indicates a sulfonic acid anion. The positive-tone radiation-sensitive resin composition comprises (A) a photoacid generator of the sulfonium-salt compound and (B) an acid-dissociable group-containing resin.

  一种锍盐化合物，对波长 220 纳米以下的深紫外线具有优异的透明性，用作光酸发生器时，在灵敏度、分辨率、图案形状、LER 和储存稳定性等方面表现出均衡的优异性能；一种包含该锍盐化合物的光酸发生器；以及一种包含该光酸发生器的正色调辐射敏感树脂组合物。 锍盐化合物如下式（I）所示、 其中 R1 代表卤素原子、烷基、一价脂环烃基、烷氧基或 -OR3 基团，其中 R3 是一价脂环烃基，R2 代表（取代的）烷基或两个或多个 R2 基团形成环状结构，p 是 0-7，q 是 0-6，n 是 0-3，X- 表示磺酸阴离子。 正色调辐射敏感树脂组合物包括 (A) 锍盐化合物的光酸发生器和 (B) 含酸可分解基团的树脂。
• US7371503B2
  申请人：——

  公开号：US7371503B2

  公开（公告）日：2008-05-13
• EP1586570
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——