2,4-Bis-(hexafluor-2-hydroxy-2-propyl)-phenol | 2093-08-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 2,4-Bis-(hexafluor-2-hydroxy-2-propyl)-phenol
• 英文别名: 2,4-bis-(2,2,2-trifluoro-1-hydroxy-1-trifluoromethylethyl)-phenol；2,4-Bis(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-hydroxypropan-2-yl)phenol
• CAS: 2093-08-5
• 化学式: C₁₂H₆F₁₂O₃
• 分子量: 426.159
• InChiKey: ZJXNBVYVYYEYGG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  15

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,4-Bis-(hexafluor-2-hydroxy-2-propyl)-phenol 、 甲基磺酰氯 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 生成 1,3-bis-(2,2,2-trifluoro-1-methanesulfonyloxy-1-trifluoro-methylethyl)-4-methanesulfonyloxybenzene
  参考文献：
  名称：

  Sulfonic acid esters, radiation-sensitive mixtures prepared therewith

  摘要：

  磺酸酯被用作(a)化合物，在辐射敏感的正或负工作混合物中辐照时形成强酸，还包括(b)至少具有一个酸分解C-O-C或C-O-Si键的化合物（用于正工作混合物）或至少具有酸交联基团的化合物（用于负工作混合物），以及(c)一种在水中不溶但在碱性水溶液中可溶或至少可膨胀的粘合剂，其中所述的磺酸酯为公式\x9bR.sup.1 --CR.sup.2 (CF.sub.3)--O--SO.sub.2 --!.sub.n R.sup.3(I)或R.sup.1\x9b--CR.sup.2 (CF.sub.3)--O--SO.sub.2 --R.sup.3 !m(II)，其中R.sup.1，R.sup.2，R.sup.3，n和n在本文中有定义。这些混合物特别适用于深紫外辐射曝光，用于制备适用于光刻胶、电子元件和印刷版的记录材料。

  公开号：

  US05716756A1

文献信息

• [DE] SULFONSÄUREESTER, DAMIT HERGESTELLTE STRAHLUNGSEMPFINDLICHE GEMISCHE UND DEREN VERWENDUNG<br/>[EN] SULPHONIC ACID ESTERS, RADIATION-SENSITIVE MIXTURES MADE THEREWITH, AND THEIR USE<br/>[FR] ESTERS D'ACIDE SULFONIQUE, MELANGES RADIOSENSIBLES REALISES AVEC, ET LEUR UTILISATION
  申请人：HOESCHT AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：WO1994018606A1

  公开（公告）日：1994-08-18

  (DE) Die Erfindung betrifft Sulfonsäureester und damit hergestellte strahlungsempfindliche, positiv oder negativ arbeitende Gemische mit a) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung, b) entweder einer Verbindung mit mindestens einer durch Säure spaltbaren C-O-C- oder C-O-Si-Bindung (für ein positiv arbeitendes Gemisch) oder einer Verbindung mit mindestens zwei durch Säure vernetzbaren Gruppen (für ein negativ arbeitendes Gemisch) und c) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen dagegen löslichen oder zumindest quellbaren Bindemittel, wobei die Verbindung a) ein Sulfonsäureester der Formeln [R1-CR2(CF3)-O-SO2-]nR3 oder R1[-CR2(CF3)-O-SO2-R3]m ist. Die Gemische zeigen eine unerwartet hohe Empfindlichkeit im DUV-Bereich und eine Verbesserung des Auflösungsvermögens. Ganz besonders vorteilhaft ist es, daß die Gemische gegenüber Änderungen der Lagerzeit zwischen Belichtung und Nacherwärmung weitgehend unempfindlich sind.(EN) The invention relates to sulphonic acid esters and radiation-sensitive, positive or negative tone mixtures made therewith, with: a) a compound forming a strong acid on irradiation; b) either a compound with at least one acid-decomposable C-O-C or C-O-Si bond (for a positive tone mixture) or a compound with at least acid-cross-linkable groups (for a negative tone mixture) and c) a water-insoluble binder which however is soluble or at least wettable in aqueous-alkaline solutions, in which compound a) is a sulphonic acid ester of the formulae [R1-CR2(CF3)-O-SO2-]nR3 or R1[-CR2(CF3)-O-SO2-R3]m. The mixtures exhibit unexpectedly high sensitivity in the DUV range and improved resolution. It is especially advantageous that the mixtures are insensitive to changes in the storage time between exposure and post-heating.(FR) L'invention concerne des esters d'acide sulfonique et des mélanges radiosensibles à comportement de positif ou de négatif réalisés avec, qui comprennent: a) un composé formant un acide fort sous irradiation, b) un composé ayant au moins une liaison C-O-C ou C-O-Si décomposable par de l'acide (pour un mélange à comportement de positif) ou bien un composé ayant au moins deux groupes réticulables par de l'acide (pour un mélange à comportement de négatif) et c) un liant insoluble dans l'eau, mais cependant soluble ou pouvant au moins gonfler dans des solutions alcalino-aqueuses, le composé a) étant un ester d'acide sulfonique des formules [R1-CR2(CF3)-O-SO2-]nR3 ou [R1-CR2(CF3)-O-SO2-R3]m. Les mélanges présentent une sensibilité particulièrement importante dans le domaine des ultraviolets lointains et améliorent la solubilité. Il est particulièrement avantageux que les mélanges soient nettement insensibles aux modifications inhérentes à la durée de stockage entre l'exposition à la lumière et le réchauffage.

  这项发明涉及硫酸酸酐酯及其制成的辐射敏感的正或负混合物，这些混合物具有以下特性： a) 在受到辐照时能形成强酸的化合物； b) 要么包含至少一个能被酸解离的C-O-C或C-O-Si键（用于正作用混合物）；要么包含至少能通过酸连接的基团（用于负作用混合物）； c) 它是一个在水中不溶解的结合剂，但在碱性水溶液中是溶解的，或者至少是可 взять的，并且化合物a)是硫酸酸酐酯，分子式为[R1-CR2(CF3)-O-SO2-]nR3 或 [R1-CR2( )-O-SO2-R3]m。 这些混合物在紫外区表现出特别高的灵敏度，并能显著提高解离能力。特别 advantageous的是，混合物对光照前后保存时间的改变几乎不反应。
• SULFONSÄUREESTER, DAMIT HERGESTELLTE STRAHLUNGSEMPFINDLICHE GEMISCHE UND DEREN VERWENDUNG
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0681713A1

  公开（公告）日：1995-11-15
• RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200241414A1

  公开（公告）日：2020-07-30

  A resist composition comprising a base polymer and a quencher in the form of an ammonium salt compound having an iodized aromatic ring and a tertiary ester structure offers a high sensitivity and minimal LWR or improved CDU, independent of whether it is of positive or negative tone.
• US5716756A
  申请人：——

  公开号：US5716756A

  公开（公告）日：1998-02-10