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2,6-diphenyl-2H-thiopyran | 71750-06-6

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2,6-diphenyl-2H-thiopyran
英文别名
——
2,6-diphenyl-2H-thiopyran化学式
CAS
71750-06-6
化学式
C17H14S
mdl
——
分子量
250.364
InChiKey
ZEHJVGDQRYRFKU-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 制备方法与用途
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.06
  • 拓扑面积:
    25.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • REYNOLDS G. A.; CHEN C. H.; ALLAN J. A. VAN, J. ORG. CHEM.,1979, 44, NO 24, 4456-4458
    作者:REYNOLDS G. A.、 CHEN C. H.、 ALLAN J. A. VAN
    DOI:——
    日期:——
  • CHEN, C. H.;DONEY, J. J.;REYNOLDS, G. A., J. ORG. CHEM., 1982, 47, N 4, 680-684
    作者:CHEN, C. H.、DONEY, J. J.、REYNOLDS, G. A.
    DOI:——
    日期:——
  • TREATING SOLUTION FOR ELECTRONIC PARTS, AND PROCESS FOR PRODUCING ELECTRONIC PARTS
    申请人:FINE POLYMERS CORPORATION
    公开号:US20150279654A1
    公开(公告)日:2015-10-01
    The invention provides an aqueous solution capable of selectively protecting a nitrogen-containing silicon compound from corrosion by a treating solution for etching, cleaning or the like, etching oxygen-containing, carbon-containing silicon in particular, and making a large etch rate difference between a nitrogen-containing silicon compound and an oxygen-containing silicon compound, and a process for producing electronic parts as well. The invention is embodied by a treating solution for electronic parts that is an aqueous solution containing one or two or more of anionic surface active agents represented by the following formulae (1), (2) and (3), and a process for producing an electronic part. wherein R 1 , R 2 , and R 3 stands for hydrogen or an alkyl or alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and X 1 stands for a functional group capable of becoming an anionic ion. wherein R 4 stands for hydrogen or an alkyl or alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, X 2 stands for a functional group capable of becoming an anionic ion, and n stands for a natural number of greater than 2. wherein R 5 stands for hydrogen or an alkyl or alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and X 3 , and X 4 stands for a functional group capable of becoming an anionic ion.
  • US4315983A
    申请人:——
    公开号:US4315983A
    公开(公告)日:1982-02-16
  • US8772376B2
    申请人:——
    公开号:US8772376B2
    公开(公告)日:2014-07-08
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