1-Hydroxy-4-mercapto-2,3-dimethyl-naphthalin, Monothio-2,3-dimethyl-1,4-naphthochinon | 91962-57-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-Hydroxy-4-mercapto-2,3-dimethyl-naphthalin, Monothio-2,3-dimethyl-1,4-naphthochinon
• 英文别名: 2,3-Dimethyl-4-sulfanylnaphthalen-1-ol
• CAS: 91962-57-1
• 化学式: C₁₂H₁₂OS
• 分子量: 204.293
• InChiKey: QHYFNRVSEHEFBA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.17
• 拓扑面积：
  21.2
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-Hydroxy-4-mercapto-2,3-dimethyl-naphthalin, Monothio-2,3-dimethyl-1,4-naphthochinon 、 碘甲烷 在 sodium hydroxide 作用下， 生成 1-Hydroxy-4-methylmercapto-2,3-dimethyl-naphthalin, S-Methyl-monothio-2,3-dimethyl-1,4-naphthochinon
  参考文献：
  名称：

  Wieland,T.; Baeuerlein,E., Chemische Berichte, 1964, vol. 97, p. 2103 - 2108

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2,3-二甲基萘 在 lithium aluminium tetrahydride 、 硫酸 、 硝酸 、 tin(ll) chloride 、 sodium nitrite 作用下， 生成 1-Hydroxy-4-mercapto-2,3-dimethyl-naphthalin, Monothio-2,3-dimethyl-1,4-naphthochinon
  参考文献：
  名称：

  Wieland,T.; Baeuerlein,E., Chemische Berichte, 1964, vol. 97, p. 2103 - 2108

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Photopolymerization initiator and photopolymerizable composition
  申请人：Tokuyama Corporation

  公开号：EP1431315A2

  公开（公告）日：2004-06-23

  A photopolymerization initiator comprising (A) a photo acid-generating compound such as diaryliodonium salt (e.g., diphenyl iodonium, bis(p-chlorophenyl)iodonium, etc.,), (B) a photo oxidation radical-generating compound such as diarylketone compound, α-diketone compound or ketocoumarin compound, and (C) a fused polycyclic aromatic compound such as 1,4-dimethylnaphthalene, 1-methylanthracene, 9-methylanthracene, 9,10-dimethylanthracene or 9,10-diethylanthracene. The photopolymerization initiator makes it possible to efficiently polymerize the cationically polymerizable monomer by the irradiation with visible light.

  一种光聚合引发剂，包括(A) 光酸生成化合物，如二芳基碘鎓盐（如二苯基碘鎓、双（对氯苯基）碘鎓等），(B) 光氧化自由基生成化合物，如二芳基酮化合物、α-二酮化合物或酮香豆素化合物，以及(C) 熔融多环芳基化合物、(C) 熔融多环芳烃化合物，如 1,4-二甲基萘、1-甲基蒽、9-甲基蒽、9,10-二甲基蒽或 9,10-二乙基蒽。光聚合引发剂可以使阳离子可聚合单体在可见光的照射下有效聚合。
• Negative resist composition
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO Co., Ltd.

  公开号：US20040009427A1

  公开（公告）日：2004-01-15

  A negative resist composition is provided which is less likely to swell in an alkali developing solution. An alkali-developable negative resist composition is disclosed comprising a compound (A) which generates an acid upon exposure to radiation, and a resin component (B) which becomes insoluble in alkali under the action of an acid, wherein the component (B) is a resin component containing: (b1) a unit which becomes insoluble in an alkali solution as a result of the formation of a lactone under the action of an acid generated from the component (A), and (b2) a unit having an alcoholic hydroxyl group.

  提供了一种在碱显影溶液中不易膨胀的底片抗蚀剂组合物。本发明公开了一种可碱显影的阴性抗蚀剂组合物，该组合物包括在暴露于辐射时产生酸的化合物（A）和在酸的作用下变得不溶于碱的树脂组分（B），其中组分（B）是一种树脂组分，包含：（b1）在组分（A）产生的酸的作用下形成内酯而变得不溶于碱溶液的单元，以及（b2）具有醇羟基的单元。
• Negative resist material and method for forming resist pattern
  申请人：——

  公开号：US20040241576A1

  公开（公告）日：2004-12-02

  Disclosed is a negative-working resist material comprising a polymeric compound having a polymerizable unit comprising at least a hydroxy acid moiety and a main chain moiety bound to each other via only one carbon in the carbon skeleton of the hydroxy acid, wherein a space of such size as to permit an alkali substance to approach a linkage between the hydroxy acid moiety and the main chain moiety is not present between the two moieties. The material can be used as a negative-working resist material containing the polymeric compound and an acid generating agent, which is easily synthesized and excellent in shelf stability and processing stability upon alkali treatment.

  本发明公开了一种阴刻抗蚀剂材料，该材料包含一种高分子化合物，该化合物具有一个可聚合单元，该单元至少包含一个羟基酸分子和一个主链分子，羟基酸分子和主链分子仅通过碳骨架中的一个碳相互结合，在羟基酸分子和主链分子之间不存在允许碱物质接近连接的空间。这种材料可用作含有高分子化合物和酸生成剂的负加工抗蚀剂材料，它易于合成，在碱处理后具有出色的货架稳定性和加工稳定性。
• Photocationic polymerization initiator and photocationically polymerizable composition
  申请人：Tokuyama Corporation

  公开号：EP1422254B1

  公开（公告）日：2008-06-18
• US6930134B2
  申请人：——

  公开号：US6930134B2

  公开（公告）日：2005-08-16