4-isopropyl-1-naphthalenecarboxylic acid | 107777-21-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 4-isopropyl-1-naphthalenecarboxylic acid
• 英文别名: 4-isopropyl-[1]naphthoic acid；4-Isopropyl-[1]naphthoesaeure；4-Propan-2-ylnaphthalene-1-carboxylic acid
• CAS: 107777-21-9
• 化学式: C₁₄H₁₄O₂
• 分子量: 214.264
• InChiKey: OVBHSQOJQFXCAH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.21
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-isopropyl-1-naphthalenecarboxylic acid 、 2-溴丙烷 在 氨 、 lithium 作用下， 反应 1.25h， 生成
  参考文献：
  名称：

  通过脱芳香化和串联脱羧CHH气化/再芳香化快速从芳香酸中快速获得邻烷基乙烯基芳烃

  摘要：

  描述了一种由两步简单的方法从易得的苯甲酸制备正烷基化乙烯基芳烃的方法。合成途径涉及通过桦木还原使苯甲酸脱芳香化，从而提供烷基化的环己-2,5-二烯基-1-羧酸。随后，二烯经历脱羧CH烯化反应，然后重新芳构化以交付邻烷基化的乙烯基芳烃。机理研究表明，Pd / Ag双金属催化体系在串联脱羧CH-H烯烃化/芳构化步骤中很重要。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.8b00064
• 作为产物：
  描述：

  异丙基萘 在 盐酸 、 氢氧化钾 、 potassium permanganate 、 聚合甲醛 、 溶剂黄146 、 zinc(II) chloride 作用下， 生成 4-isopropyl-1-naphthalenecarboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  Sergiewskaja; Safonowa, Zhurnal Obshchei Khimii, 1957, vol. 27, p. 1645,1647; engl. Ausg. S. 1715, 1717

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Regioselective Synthesis of Alkylarenes by Two-Step<i>ipso</i>-Substitution of Aromatic Dicarboxylic Acids
  作者：Andrea Bramborg、Torsten Linker

  DOI：10.1002/ejoc.201200823

  日期：2012.10

  A strategy for the regioselective alkylation of arenes was developed, starting from commercially available and inexpensive terephthalic acid or naphthalene-1,4-dicarboxylic acid. The method entails a formal ipso-substitution of the carboxylate groups by a sequence of reductive alkylation under Birch conditions and subsequent acid-mediated rearomatization with loss of carbon monoxide and carbon dioxide

  开发了一种用于芳烃区域选择性烷基化的策略，从市售且廉价的对苯二甲酸或萘-1,4-二羧酸开始。该方法需要通过一系列在 Birch 条件下的还原性烷基化和随后的酸介导的重构化，在失去一氧化碳和二氧化碳的情况下对羧酸根进行正式的同位取代。合成了 20 多种不同侧链的芳烃。以萘-1,4-二羧酸为原料，我们能够通过在 Birch 还原中选择合适的亲电子试剂来控制烷基化程度。因此，双烷基化萘和萘甲酸可通过化学选择性获得。所有反应均以高产率专门提供单一区域异构体。全面的，
• UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140363955A1

  公开（公告）日：2014-12-11

  In lithography, a composition comprising a novolak resin comprising recurring units derived from a phenolphthalein, Phenol Red, Cresolphthalein, Cresol Red, or Thymolphthalein is used to form a photoresist underlayer film. The underlayer film is strippable in alkaline water, without causing damage to ion-implanted Si substrates or SiO 2 substrates.
• PERIPHERALLY-ACTING CANNABINOID RECEPTOR AGONISTS FOR CHRONIC PAIN
  申请人：The Regents of the University of California

  公开号：US20170240521A1

  公开（公告）日：2017-08-24

  Peripherally acting cannabinoid agonist compounds, pharmaceutical compositions, and methods of using them are presented.
• US5075416A
  申请人：——

  公开号：US5075416A

  公开（公告）日：1991-12-24
• US9136121B2
  申请人：——

  公开号：US9136121B2

  公开（公告）日：2015-09-15