3a,4,7,7a-四氢-4,7-环氧基-1,3-苯并二氧代-2-酮 | 50269-96-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机碳酸及其衍生物
• 中文名称: 3a,4,7,7a-四氢-4,7-环氧基-1,3-苯并二氧代-2-酮
• 中文别名: 3A,4,7,7A-四氢-4,7-环氧-1,3-苯并二恶茂-2-酮；4,7-环氧-1,3-苯并间二氧杂环戊烯-2-酮,3Alpha,4,7,7a-四氢-
• 英文名称: 3a,4,7,7a-Tetrahydro-2H-4,7-epoxy-1,3-benzodioxol-2-one
• 英文别名: 3,5,10-trioxatricyclo[5.2.1.02,6]dec-8-en-4-one
• CAS: 50269-96-0
• 化学式: C₇H₆O₄
• 分子量: 154.12
• InChiKey: INYLBMCGXTVFRW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.505

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.4
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.57
• 拓扑面积：
  44.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3a,4,7,7a-四氢-4,7-环氧基-1,3-苯并二氧代-2-酮 、 氢氧化钾 以97%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  PRINZBACH, H.;BINGMANN, H.;MARKERT, J.;FISCHER, G.;KNOTHE, L.;EBERBACH, W+, CHEM. BER., 1986, 119, N 2, 589-615

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  碳酸乙烯酯 、 呋喃 以30%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  PRINZBACH, H.;BINGMANN, H.;MARKERT, J.;FISCHER, G.;KNOTHE, L.;EBERBACH, W+, CHEM. BER., 1986, 119, N 2, 589-615

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Polymer, resist composition and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20020115821A1

  公开（公告）日：2002-08-22

  A polymer comprising recurring units of formula (1) and/or (2) wherein R 1 and R 2 are H, C 1-15 alkyl, acyl or alkylsulfonyl or C 2-15 alkoxycarbonyl or alkoxyalkyl which may have halogen substituents; R 3 and R 4 are H, C 1-15 alkyl or alkoxy or C 2-15 , alkoxyalkyl which may have halogen substituents, and R 3 and R 4 may together bond with the carbon atom to form an aliphatic ring, or R 3 and R 4 , taken together, may be an oxygen atom; and k=0 or 1, and having a Mw of 1,000-500,000 is novel. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, etching resistance, and minimized swell and lends itself to micropatterning with electron beams or deep-UV. 1

  一种聚合物，包含式 (1) 和/或 (2) 的递归单元，其中 R 1 和 R 2 是 H、C 1-15 烷基、酰基或烷基磺酰基或 C 2-15 烷氧基羰基或烷氧基烷基，可带有卤素取代基；R 3 和 R 4 是 H、C 1-15 烷基或烷氧基或 C 2-15 烷氧基烷基，可带有卤素取代基，以及 R 3 和 R 4 可与碳原子结合形成脂肪族环，或 R 3 和 R 4 可以是氧原子；k 等于 0 或 1，且 Mw 在 1,000-500,000 之间。由该聚合物作为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的灵敏度、分辨率、抗蚀刻性和最小膨胀性，适合用电子束或深紫外线进行微图案化。 1
• US6673517B2
  申请人：——

  公开号：US6673517B2

  公开（公告）日：2004-01-06
• PRINZBACH, H.;BINGMANN, H.;MARKERT, J.;FISCHER, G.;KNOTHE, L.;EBERBACH, W+, CHEM. BER., 1986, 119, N 2, 589-615
  作者：PRINZBACH, H.、BINGMANN, H.、MARKERT, J.、FISCHER, G.、KNOTHE, L.、EBERBACH, W+

  DOI：——

  日期：——