(Bis-trifluoromethyl-amino)-acetaldehyde | 68982-07-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: (Bis-trifluoromethyl-amino)-acetaldehyde
• 英文别名: 2-[Bis(trifluoromethyl)amino]acetaldehyde
• CAS: 68982-07-0
• 化学式: C₄H₃F₆NO
• 分子量: 195.064
• InChiKey: PAIBRJCQKYMXCO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  20.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (Bis-trifluoromethyl-amino)-acetaldehyde 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 生成 2-N,N-bis(trifluoromethyl)aminoethanol
  参考文献：
  名称：

  有机硅化学。部21的反应NN -bistrifluoromethylamino氧基和全氟（2,4-二甲基-3-氧杂-2,4-二氮杂戊烷）与乙烯基硅烷，将得到的加合物的热解

  摘要：

  的氧基（CF 3）2 N·O与oxadiazapentane（CF 3）2 N·O·N（CF 3）2上的反应与乙烯基硅烷CH 2：CH·的SiX 3，CH 2：四氯化碳·的SiX 3， CHCl：CH·SiX 3以高收率得到相应的加合物。硅烷顺式-MeCH：CH·SiCl 3与二氮杂戊烷的反应得到1：1的加合物（50％）和烯丙基取代产物（CF 3）2 N·O·CH 2 ·CH：CH·SiCl 3（50 ％）。热解中的加合物通常会重新排列，例如RCH 2 ·CH（SiX 3）·O·N（CF 3）2 → RCH 2 ·CH（O·SiX 3）·N（CF 3）2 [R =（CF 3）2 N·O或（CF 3）2 N]，但在硅上含有两个或三个氟取代基和/或烷基中的氯的那些进行消除反应。可能发生三种不同的消除方式，包括：（i）硅上α-（CF 3）2 N·O基团中的氟对氟的亲核攻击，以消除氟硅烷和全氟-2-氮杂丙烯并形成羰基化合物，例如（CF

  DOI：

  10.1039/dt9780001024
• 作为产物：
  描述：

  O-[2-(Bis-trifluoromethyl-amino)-1-trifluorosilanyl-ethyl]-N,N-bis-trifluoromethyl-hydroxylamine 生成 (Bis-trifluoromethyl-amino)-acetaldehyde
  参考文献：
  名称：

  有机硅化学。部21的反应NN -bistrifluoromethylamino氧基和全氟（2,4-二甲基-3-氧杂-2,4-二氮杂戊烷）与乙烯基硅烷，将得到的加合物的热解

  摘要：

  的氧基（CF 3）2 N·O与oxadiazapentane（CF 3）2 N·O·N（CF 3）2上的反应与乙烯基硅烷CH 2：CH·的SiX 3，CH 2：四氯化碳·的SiX 3， CHCl：CH·SiX 3以高收率得到相应的加合物。硅烷顺式-MeCH：CH·SiCl 3与二氮杂戊烷的反应得到1：1的加合物（50％）和烯丙基取代产物（CF 3）2 N·O·CH 2 ·CH：CH·SiCl 3（50 ％）。热解中的加合物通常会重新排列，例如RCH 2 ·CH（SiX 3）·O·N（CF 3）2 → RCH 2 ·CH（O·SiX 3）·N（CF 3）2 [R =（CF 3）2 N·O或（CF 3）2 N]，但在硅上含有两个或三个氟取代基和/或烷基中的氯的那些进行消除反应。可能发生三种不同的消除方式，包括：（i）硅上α-（CF 3）2 N·O基团中的氟对氟的亲核攻击，以消除氟硅烷和全氟-2-氮杂丙烯并形成羰基化合物，例如（CF

  DOI：

  10.1039/dt9780001024

文献信息

• Organosilicon chemistry. Part 21. Reactions of NN-bistrifluoromethylamino-oxyl and perfluoro(2,4-dimethyl-3-oxa-2,4-diazapentane) with vinylsilanes, and pyrolysis of the resulting adducts
  作者：Terence R. Fernandes、Robert N. Haszeldine、Anthony E. Tipping

  DOI：10.1039/dt9780001024

  日期：——

  α-(CF3)2N·O group on silicon to eliminate a fluorosilane and perfluoro-2-azapropene and form a carbonyl compound, e.g.(CF3)2N·O·CH2·CH(SiF3)·O·N(CF3)2→ SiF4+ CF3N:CF2+(CF3)2N·CH2·CHO; (ii) nucleophilic attack by an α-chlorine atom on silicon to eliminate a chlorosilane and form an amide, e.g.(CF3)2N·CH2·CCl(SiCl3)·O·N(CF3)2→ SiCl4+(CF3)2N·CH2·CO·N(CF3)2; and (iii) intramolecular elimination of bis(trifluoromethyl)amine

  的氧基（CF 3）2 N·O与oxadiazapentane（CF 3）2 N·O·N（CF 3）2上的反应与乙烯基硅烷CH 2：CH·的SiX 3，CH 2：四氯化碳·的SiX 3， CHCl：CH·SiX 3以高收率得到相应的加合物。硅烷顺式-MeCH：CH·SiCl 3与二氮杂戊烷的反应得到1：1的加合物（50％）和烯丙基取代产物（CF 3）2 N·O·CH 2 ·CH：CH·SiCl 3（50 ％）。热解中的加合物通常会重新排列，例如RCH 2 ·CH（SiX 3）·O·N（CF 3）2 → RCH 2 ·CH（O·SiX 3）·N（CF 3）2 [R =（CF 3）2 N·O或（CF 3）2 N]，但在硅上含有两个或三个氟取代基和/或烷基中的氯的那些进行消除反应。可能发生三种不同的消除方式，包括：（i）硅上α-（CF 3）2 N·O基团中的氟对氟的亲核攻击，以消除氟硅烷和全氟-2-氮杂丙烯并形成羰基化合物，例如（CF