(3-chloropropyl)methylsilane | 33687-32-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: (3-chloropropyl)methylsilane
• 英文别名: 3-Chloropropyl(methyl)silane；3-chloropropyl(methyl)silane
• CAS: 33687-32-0
• 化学式: C₄H₁₁ClSi
• 分子量: 122.67
• InChiKey: RDHYEPQQMSFEPV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.25
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (3-chloropropyl)methylsilane 在 sodium iodide 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 生成 (3-Iodo-propyl)-methyl-silane
  参考文献：
  名称：

  氯硅烷与（氢甲硅烷基）烷基格氏试剂的反应

  摘要：

  氯硅烷被（氢甲硅烷基）甲基，-乙基和-丙基格氏试剂还原。动力学研究表明，还原反应在氯硅烷中是一阶还原反应，在格氏试剂中是二阶还原反应。结论是，对于（氢甲硅烷基）甲基化合物，氢的不稳定性是由于相邻亚甲基的电子给体引起的，而对于（氢甲硅烷基）乙基和-丙基化合物中，亚甲基参与的相邻基团可能在弱化硅氢键方面发挥了一定作用。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)86606-1
• 作为产物：
  描述：

  3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷 在 六甲基磷酰三胺 、 sodium tetrahydroborate 、 溴乙烷 、 四正辛基溴化铵 作用下， 以 氘代苯 为溶剂， 反应 24.0h， 以70%的产率得到(3-chloropropyl)methylsilane
  参考文献：
  名称：

  氢硅烷的合成通过路易斯碱催化还原的烷氧基硅烷的用NaBH 4 †

  摘要：

  通过在六甲基磷酸三酰胺（HMPA）作为路易斯碱催化剂的存在下，用BH 3还原烷氧基硅烷来合成氢硅烷。该反应也可通过使用廉价且易于处理的氢化物源NaBH 4来实现，该氢化物源与EtBr作为牺牲试剂反应，就地形成BH 3。

  DOI：

  10.1039/c9cc01961h

文献信息

• METHOD FOR PRODUCING SURFACE-MODIFIED BASE MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING JOINED BODY, NEW HYDROSILANE COMPOUND, SURFACE TREATMENT AGENT, SURFACE TREATMENT AGENT KIT, AND SURFACE-MODIFIED BASE MATERIAL
  申请人：KYOTO UNIVERSITY

  公开号：US20170022223A1

  公开（公告）日：2017-01-26

  The method for producing a surface-modified base material according to the present invention includes a step of bringing a base material having a polar group present on a surface thereof into contact with a hydrosilane compound having a molecular structure A and having a Si—H group composed of a silicon atom of the molecular structure A and a hydrogen atom bonded to the silicon atom in the presence of a borane catalyst so as to allow a dehydrocondensation reaction to take place between the base material and the compound, thereby forming the base material surface-modified with the molecular structure A. This production method is capable of surface-modifying a base material at a lower temperature in a shorter time than conventional methods and allows a wide variety of options for the form, type, and application of the base material, the mode of the modification reaction, and the type of the molecular structure with which the base material is surface-modified.

  根据本发明，生产表面改性基材料的方法包括以下步骤：将具有极性基团的基材料与具有分子结构A的氢硅烷化合物接触，所述氢硅烷化合物具有由分子结构A的硅原子和与所述硅原子结合的氢原子组成的Si—H基团，并在硼烷催化剂的存在下使基材料和化合物发生脱氢缩聚反应，从而形成具有分子结构A的表面改性基材料。该生产方法能够以比传统方法更低的温度在更短的时间内对基材料进行表面改性，并且允许对基材料的形式、类型和应用、改性反应的方式以及用于表面改性的分子结构类型进行广泛选择。
• ボラン還元を用いたヒドロシランの製造方法
  申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所

  公开号：JP2018100231A

  公开（公告）日：2018-06-28

  【課題】ヒドロシランを効率良く製造することができるヒドロシランの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】ルイス塩基の存在下で下記式（ａ）で表される構造を有するシランとボラン錯体又はジボランを反応させることにより、ヒドロシランが効率よく製造することができる。（式（ａ）中、Ｒ1は炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜１０のアシル基を表す。）【選択図】なし

  这项技术旨在提供一种能够高效生产氢硅烷的生产方法。通过在路易斯碱的存在下，使具有下述式（a）所示结构的硅烷和硼烷配合物或双硼烷发生反应，可以高效制备氢硅烷。（在式（a）中，R1代表碳原子数为1~20的烃基，或者碳原子数为1~10的酰基。）【选定图】无
• 一种氢化钙还原氯硅烷制备氢硅烷的方法
  申请人：中国科学院化学研究所

  公开号：CN108285467B

  公开（公告）日：2019-06-11

  本发明公开了一种氢化钙还原氯硅烷制备氢硅烷的方法，属于氯硅烷的还原技术领域，解决了现有技术中CaH2还原氯硅烷的反应条件苛刻、反应速度慢等问题。在有机溶剂中，在催化剂的催化下，采用氢化钙为还原剂，将氯硅烷还原为氢硅烷；其中，催化剂为硼烷、硼氢化物或氢化铝锂，有机溶剂为四氢呋喃、二乙二醇二甲醚等醚类溶剂。上述方法可用于还原氯硅烷制备氢硅烷。
• MUSTAFAEV, R. M.;KULIEVA, L. G.;SADYX-ZADE, S. I., AZERB. XIM. ZH., 1983, N 2, 58-61
  作者：MUSTAFAEV, R. M.、KULIEVA, L. G.、SADYX-ZADE, S. I.

  DOI：——

  日期：——
• The reactions of chlorosilanes with (hydrosilyl)alkyl grignard reagents
  作者：A.W.P. Jarvie、R.J. Rowley

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)86606-1

  日期：1973.9

  Chlorosilanes are reduced by (hydrosilyl)methyl, -ethyl and -propyl Grignard reagents. Kinetic studies demonstrate that the reduction is first order in chlorosilane and second order in Grignard reagent, and it is concluded that for the (hydrosilyl)methyl compounds the lability of the hydrogen is due to electron donation from the adjacent methylene group, whereas for the (hydrosilyl)ethyl and -propyl

  氯硅烷被（氢甲硅烷基）甲基，-乙基和-丙基格氏试剂还原。动力学研究表明，还原反应在氯硅烷中是一阶还原反应，在格氏试剂中是二阶还原反应。结论是，对于（氢甲硅烷基）甲基化合物，氢的不稳定性是由于相邻亚甲基的电子给体引起的，而对于（氢甲硅烷基）乙基和-丙基化合物中，亚甲基参与的相邻基团可能在弱化硅氢键方面发挥了一定作用。