双(二甲基氨基)二乙基硅烷 | 33287-52-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 中文名称: 双(二甲基氨基)二乙基硅烷
• 英文名称: Diaethylbis-(dimethylamino)silan
• 英文别名: Bis(dimethylamino)diethylsilane；N-[dimethylamino(diethyl)silyl]-N-methylmethanamine
• CAS: 33287-52-4
• 化学式: C₈H₂₂N₂Si
• mdl: MFCD00236503
• 分子量: 174.362
• InChiKey: TWQSOHGSGBWNBD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  62 °C
• 密度：
  0.837
• 闪点：
  30°C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.31
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  6.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• TSCA：
  No
• 危险类别码：
  R10,R36/37/38
• 危险品运输编号：
  UN 1993
• 海关编码：
  2931900090
• 安全说明：
  S26,S36/37/39

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-甲基-2-巯基乙胺 、 双(二甲基氨基)二乙基硅烷 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 4.0h， 以60%的产率得到2,2-二乙基-5-甲基-1-硫杂-3-氮杂-2-硅杂环戊烷
  参考文献：
  名称：

  Satge; Cazes; Bouchaut, European Journal of Medicinal Chemistry, 1982, vol. 17, # 5, p. 433 - 436

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  二氯二乙基硅烷 在 二甲胺 作用下， 以 正戊烷 为溶剂， 生成 双(二甲基氨基)二乙基硅烷
  参考文献：
  名称：

  Compounds useful as chemical precursors in chemical vapor deposition of

  摘要：

  为了减少在工业热解碳氢化合物过程中焦炭生成的速率，反应器的内部表面被涂覆一层薄的陶瓷材料，该层通过在气相中热分解不含氧的硅氮前体物质沉积而成，该过程在惰性或还原气氛中进行，以最小化氧化陶瓷的形成。

  公开号：

  US05616754A1

文献信息

• Pacl,Z. et al., Collection of Czechoslovak Chemical Communications, 1971, vol. 36, p. 1588 - 1597
  作者：Pacl,Z. et al.

  DOI：——

  日期：——
• SATGE, J.;CAZES, A.;BOUCHAUT, M.;FATOME, M.;SENTENAC-ROUMANOU, H.;LION, C+, EUR. J. MED. CHEM.-CHIM. THER., 1982, 17, N 5, 433-436
  作者：SATGE, J.、CAZES, A.、BOUCHAUT, M.、FATOME, M.、SENTENAC-ROUMANOU, H.、LION, C+

  DOI：——

  日期：——
• Compounds useful as chemical precursors in chemical vapor deposition of
  申请人：Enichem S.p.A.

  公开号：US05616754A1

  公开（公告）日：1997-04-01

  In order to reduce the rate of coke formation during the industrial pyrolysis of hydrocarbons, the interior surface of a reactor is coated with a thin layer of a ceramic material, the layer being deposited by thermal decomposition of a non-oxygen containing silicon-nitrogen precursor in the vapor phase, tin an inert or reducing gas atmosphere in order to minimize the formation of oxide ceramics.

  为了减少在工业热解碳氢化合物过程中焦炭生成的速率，反应器的内部表面被涂覆一层薄的陶瓷材料，该层通过在气相中热分解不含氧的硅氮前体物质沉积而成，该过程在惰性或还原气氛中进行，以最小化氧化陶瓷的形成。
• Satge; Cazes; Bouchaut, European Journal of Medicinal Chemistry, 1982, vol. 17, # 5, p. 433 - 436
  作者：Satge、Cazes、Bouchaut、et al.

  DOI：——

  日期：——