[EN] COMPOSITION FOR REMOVAL OF RESIST COMPRISING POLY(CYANOALKYL)ETHYLENEAMINE AND METHOD FOR REMOVAL OF RESIST USING THE COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION COMPRENANT UNE POLY(CYANOALKYL)ÉTHYLÈNEAMINE SERVANT À ENLEVER UNE RÉSERVE ET PROCÉDÉ SERVANT À ENLEVER UNE RÉSERVE UTILISANT LA COMPOSITION
申请人:TOSOH CORP
公开号:WO2008023614A1
公开(公告)日:2008-02-28
[EN] Disclosed are: a composition for removing a resist, which has an excellent resist stripping property and causes less damage to a semiconductor or a flat panel display material; and a method for stripping a resist by using the composition. Specifically disclosed is a resist stripping agent comprising a poly(cyanoalkyl)ethyleneamine, wherein the poly(cyanoalkyl)ethyleneamine is preferably at least one member selected from N,N'-bis(2-cyanoethyl)-ethylenediamine, N,N,N'-tris(2-cyanoethyl)ethylenediamine, N,N,N',N'-tetrakis(2-cyanoethyl)ethylenediamine, N,N'-bis(2-cyanoethyl)piperazine, N,N'-bis(2-cyanoethyl)-N''-(2-aminoethyl)piperazine, N,N',N'-tris(2-cyanoethyl)-N''-(2-aminoethyl)piperazine and the like.
[FR] L'invention concerne : une composition servant à enlever une réserve, et qui a une excellente propriété de décapage de réserve et provoque moins d'endommagement à un semi-conducteur ou une matière d'écran plat ; et un procédé servant à décaper une réserve en utilisant la composition. L'invention concerne précisément un agent de décapage de réserve comprenant une poly(cyanoalkyl)éthylèneamine, ladite poly(cyanoalkyl)éthylèneamine étant de préférence au moins un élément sélectionné parmi la N,N'-bis(2-cyanoéthyl)éthylènediamine, la N,N,N'-tris(2-cyanoéthyl)éthylènediamine, la N,N,N',N'-tétrakis(2-cyanoéthyl)éthylènediamine, la N,N'-bis(2-cyanoéthyl)pipérazine, la N,N'-bis(2-cyanoéthyl)-N"-(2-aminoéthyl)pipérazine, la N,N',N'-tris(2-cyanoéthyl)-N"-(2-aminoéthyl)pipérazine et similaires.