Nonafluorobutansulfonsaeure-ethylester | 36839-98-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: Nonafluorobutansulfonsaeure-ethylester
• 英文别名: n-C4F9SO2OCH2CH3；Ethylnonaflate；Aethyl-nonaflat；Ethyl 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
• CAS: 36839-98-2
• 化学式: C₆H₅F₉O₃S
• 分子量: 328.156
• InChiKey: PQXXPJWLRBRTET-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  178.3±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.636 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  51.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Nonafluorobutansulfonsaeure-ethylester 、 cis-2,4-Bis(trimethylsilyl)-1,3-dithietane 1,1,3,3-Tetroxide 在 正丁基锂 作用下， 生成 2,4-diethyl-1,3-dithietane 1,1,3,3-tetraoxide
  参考文献：
  名称：

  Frasch, Markus; Sundermeyer, Wolfgang, Chemische Berichte, 1993, vol. 126, # 2, p. 537 - 542

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  碘乙烷 、 silver perfluorobutane sulfonate 以 苯 为溶剂， 反应 72.0h， 以92%的产率得到Nonafluorobutansulfonsaeure-ethylester
  参考文献：
  名称：

  Frasch, Markus; Sundermeyer, Wolfgang; Waldi, Joachim, Chemische Berichte, 1992, vol. 125, # 7, p. 1763 - 1768

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] SULFONIUM SALT-BASED MONOMOLECULAR RESIN ACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPOSITION THEREOF<br/>[FR] GÉNÉRATEUR D'ACIDE DE RÉSINE MONOMOLÉCULAIRE À BASE DE SEL DE SULFONIUM ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ASSOCIÉE<br/>[ZH] 基于硫鎓盐的单分子树脂产酸剂及其光刻胶组合物
  申请人：THE TECHNICAL INST OF PHYSICS AND CHEMISTRY CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

  公开号：WO2020233550A1

  公开（公告）日：2020-11-26

  本发明涉及式(I)所示的化合物及其光刻胶组合物。本发明所述化合物同时具有产酸和酸敏感双重功能，既可以作为光刻胶的产酸剂，又可以作为光刻胶的主体材料。有助于实现对酸扩散的调控和边缘粗糙度的有效降低。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.SVol.3, 6.2.3.1, page 48 - 120
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.2, 1.3.1, page 76 - 99
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Subramanian,L.R.; Hanack,M., Chemische Berichte, 1972, vol. 105, p. 1465 - 1470
  作者：Subramanian,L.R.、Hanack,M.

  DOI：——

  日期：——
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING HARDENED RELIEF PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAY DEVICE
  申请人：ASAHI KASEI E-MATERIALS CORPORATION

  公开号：US20140349222A1

  公开（公告）日：2014-11-27

  Provided is a photosensitive resin composition which comprises: (A-1) a resin containing a structure represented by general formula (1); and (B) a photo-acid generating agent. In general formula (1), X, R 1 to R 7 , m 1 to m 4 , n 1 , n 2 , Y and W are each as defined in the description.