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rac.-Adamantyl-(1)-methylsulfoxid | 34895-43-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
rac.-Adamantyl-(1)-methylsulfoxid
英文别名
1-Methylsulfinyladamantane
rac.-Adamantyl-(1)-methylsulfoxid化学式
CAS
34895-43-7
化学式
C11H18OS
mdl
——
分子量
198.329
InChiKey
IRULHJZVEHGMEH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    36.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    rac.-Adamantyl-(1)-methylsulfoxid4-氟苯基三硫代碳酸甲酯甲基锂 作用下, 以 四氢呋喃乙醚 为溶剂, 以72%的产率得到Methyl (R,S)-2-(1-adamantylsulfinyl)ethanedithioate
    参考文献:
    名称:
    Synthesis of Racemic and Enantiopure 2-Alkylsulfinyl Dithioacetates and Thioacetamides
    摘要:
    新型2-烷基亚砜基二硫代乙酸酯和硫代乙酰胺已被制备。从此前未报道的(S)-二丙酮-d-葡萄糖环己烷亚磺酸盐实现了(R)-2-(环己基亚砜基)-N,N-二甲基硫代乙酰胺的高效不对称合成,产率高达91%,对映体过量达98%。从手性环己基甲基亚砜(99% ee)获得了甲基 (R)-2-(环己基亚砜基)二硫代乙酸酯(98% ee)。
    DOI:
    10.1055/s-1999-3447
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    作为自由基前体的烷基/糖基亚砜及其在吡啶衍生物合成中的用途**
    摘要:
    简单且容易获得的烷基亚砜被证明是自由基的合适前体。烷基亚砜、N-甲氧基吡啶鎓盐和氟化物阴离子形成电子供体-受体 (EDA) 配合物,在可见光照射下,它们经历自由基链过程,得到各种吡啶衍生物。
    DOI:
    10.1002/anie.202204922
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文献信息

  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION
    申请人:TSUCHIMURA Tomotaka
    公开号:US20110171577A1
    公开(公告)日:2011-07-14
    An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, —O—, —S—, —C(═O)—, —S(═O)—, —S(═O) 2 — and —OS(═O) 2 —, provided that —C(═O)O— is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M + represents an organic onium ion.
    一种感光射线敏感或辐射敏感的树脂组合物包括下列通式(I)中的任何一种化合物;其中:Ar代表可能具有除了-(A-B)基团以外的取代基的芳香环;n是大于等于1的整数;A代表从单键、烷基、—O—、—S—、—C(═O)—、—S(═O)—、—S(═O)2—和—OS(═O)2—中任意选择一个或两个或两个以上成员的组合,但不包括—C(═O)O—;B代表一个含有4个或更多碳原子的烃基团,其中包含一个三级或季级碳原子,当n大于等于2时,两个或两个以上的-(A-B)基团可以相同或不同;M+代表有机阳离子。
  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US20140295332A1
    公开(公告)日:2014-10-02
    An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, which is excellent in sensitivity, resolution, a pattern profile and a depth of focus (DOF), and, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method, each using the same, are provided. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a nitrogen-containing compound and a resin (Ab) capable of varying a polarity or an alkali solubility thereof by the action of an acid.
  • US8900791B2
    申请人:——
    公开号:US8900791B2
    公开(公告)日:2014-12-02
  • US9188862B2
    申请人:——
    公开号:US9188862B2
    公开(公告)日:2015-11-17
  • [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES, ET FILM SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, CHACUN DE CEUX-CI UTILISANT LADITE COMPOSITION
    申请人:FUJIFILM CORP
    公开号:WO2013100158A1
    公开(公告)日:2013-07-04
    An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, which is excellent in sensitivity, resolution, a pattern profile and a depth of focus (DOF), and, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method, each using the same, are provided. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a nitrogen-containing compound and a resin (Ab) capable of varying a polarity or an alkali solubility thereof by the action of an acid.
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