名称:
实用的修饰后合成含4,7-二氨基咪唑并[5',4':4,5]吡啶[2,3- d ]嘧啶核苷的寡脱氧核苷酸
摘要:
我们在本文中描述了含有4,7-二氨基咪唑并[5',4':4,5]吡啶[2,3- d ]嘧啶核苷(ImN N)的寡脱氧核苷酸(ODN)的实际修饰后合成。因为在酸性条件下在其环外氨基上具有三苯甲酰基作为保护基的ImN N核苷单元在酸性条件下非常不稳定,所以有人建议在整个固相合成条件下将其糖苷键在ODN中裂解。作为一种替代方法,我们研究了含有ImN N单元的所需ODN的修饰后合成。从受保护的4-氨基-7-氯-1-(2-脱氧-β - d-核呋喃糖基)咪唑[5',4':4,5]吡啶[2,3- d ]嘧啶衍生物开始参照图1,检查了向相应的亚磷酰胺单元的转化。该p -bromobenzoyl组(p -BrBz)为4-氨基的最佳保护基团1,得到亚磷酰胺单元9的后修饰合成。在完成与受控孔玻璃(CPG)载体连接的ODN合成后,在55°C下用氢氧化铵处理该载体以除去保护基,将ODN从CPG载体上分离,并将7-氯