ruthenium dinitride | 252279-49-5

• 分子结构分类: 无机化合物
• 英文名称: ruthenium dinitride
• CAS: 252279-49-5
• 化学式: N₂Ru
• 分子量: 129.083
• InChiKey: YOEYAVKSLLGNNU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.03
• 重原子数：
  3.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  47.58
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  氨 、 ruthenium nitride 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 ruthenium dinitride
  参考文献：
  名称：

  Matrix Infrared Spectra of the Osmium and Ruthenium Dinitride Molecules. Evidence for Direct Insertion of Osmium into the Dinitrogen Bond at Cryogenic Temperatures

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja993211g

文献信息

• Reactions of Laser-Ablated Osmium and Ruthenium Atoms with Nitrogen. Matrix Infrared Spectra and Density Functional Calculations of Osmium and Ruthenium Nitrides and Dinitrides
  作者：Angelo Citra、Lester Andrews

  DOI：10.1021/jp993338s

  日期：2000.2.1

  The force constants for MN and NMN (M= Fe, Ru, Os) were calculated using all available isotopic data; force constants increase moving down the metal group, and diatomic MN force constants are larger than those for the corresponding NMN triatomic molecules. DFT calculations for the ruthenium and osmium nitrides give reasonable agreement with experiment. Bonding analyses for these molecules show that

  激光烧蚀的锇和钌原子与氮分子反应；产物在固体氩气和氮气中分离，并通过红外光谱进行鉴定。观察到 MN 和 NMN 氮化物，并使用氮和钌同位素数据估算三原子键角。NOsN 在固体氩气中退火时的生长表明锇原子在低温下插入二氮三键中，从而可以估计 NOsN 中平均 Os-N 键能的下限约为 473 kJ/mol。使用所有可用的同位素数据计算 MN 和 NMN (M= Fe, Ru, Os) 的力常数；力常数随着金属基团向下移动而增加，双原子 MN 力常数大于相应的 NMN 三原子分子的力常数。钌和锇氮化物的 DFT 计算与实验结果合理一致。这些分子的键合分析表明，MN 键在很大程度上是非极性的，键阶在 2.5-3....