[(Diphenylsilyl)methanetriyl]tris(trimethylsilane) | 68260-15-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: [(Diphenylsilyl)methanetriyl]tris(trimethylsilane)
• 英文别名: [diphenylsilyl-bis(trimethylsilyl)methyl]-trimethylsilane
• CAS: 68260-15-1
• 化学式: C₂₂H₃₈Si₄
• 分子量: 414.886
• InChiKey: ACXZNYAIVJMXDW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.4
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  [(Diphenylsilyl)methanetriyl]tris(trimethylsilane) 在 溴 作用下， 以 四氯化碳 为溶剂， 生成 {[Bromo(diphenyl)silyl]methanetriyl}tris(trimethylsilane)
  参考文献：
  名称：

  硅的三（三甲基硅烷基）甲基（“三烷基”）衍生物的制备

  摘要：

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)87861-4
• 作为产物：
  描述：

  二苯基二氟硅烷 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 为溶剂， 生成 [(Diphenylsilyl)methanetriyl]tris(trimethylsilane)
  参考文献：
  名称：

  硅的三（三甲基硅烷基）甲基（“三烷基”）衍生物的制备

  摘要：

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)87861-4

文献信息

• The reactions of tris(trimethylsilyl)silicon iodides and hydrides with iodine monochloride
  作者：Colin Eaborn、Steven P. Hopper

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)93327-8

  日期：1980.6

  TsiSiEtMeI give approximately 25 and 35%, respectively, of the rearranged chlorides (Me3Si)2C(SiMe2Cl)(SiEt2Me) and (Me3Si)2C(SiMe2Cl)(SiEtMe2, along with the unrearranged TsiSiEt2Cl and TsiSiEtMeCl. The reactions are suggested to proceed through methyl-bridged cationic intermediates in ion-pairs formed by abstraction of I− by ICl.

  已发现化合物TsiSiPh 2 I和TsiSiMeClI（Tsi =（Me 3 Si）3 C）容易与ICl反应并重排生成（Me 3 Si）2 C（SiMe 2 Cl）（SiPh 2 Me）和（Me 3 Si）2 C（SiMe 2 Cl）2。化合物TsiSiEt 2 I和TsiSiEtMeI分别产生约25％和35％的重排氯化物（Me 3 Si）2 C（SiMe 2 Cl）（SiEt 2 Me ）和（Me 3 Si）2 C（SiMe 2CL）（SiEtMe 2，与未经重排的TsiSiEt沿2。Cl和TsiSiEtMeCl该反应建议通过在由我抽象形成离子对甲基桥连的阳离子中间体进行-由ICl的。
• DUA S. S.; EABORN C.; HAPPER D. A. R.; HOPPER S. P.; SAFA K. D.; WALTON D+, J. ORGANOMETAL. CHEM., 1979, 178, NO 1, 75-82
  作者：DUA S. S.、 EABORN C.、 HAPPER D. A. R.、 HOPPER S. P.、 SAFA K. D.、 WALTON D+

  DOI：——

  日期：——
• Preparation of tris(trimethylsilyl)methyl (“trisyl”) derivatives of silicon
  作者：Sujan S. Dua、Colin Eaborn、Duncan A.R. Harper、Steven P. Hopper、Kazem D. Safa、David R.M. Walton

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)87861-4

  日期：1979.9

  Treatment of (Me3Si)3CLi (“trisyl”lithium, TsiLi) with appropriate silicon halides has given a range of compounds of the type (Me3Si)3CSiRR′X; e.g., TsiSiCl3, TsiSiMeCl2, TsiSiMe2X (X = Cl, OMe), TsiSiPh2X (X = F, Cl, OMe), and TsiSiPhMeH. The trisyl group causes very large steric hindrance to nucleophilic displacements at the silicon to which it is attached, so that (unless one or more hydride ligands

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。