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2-Bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl carbonochloridate | 33936-15-1

中文名称
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中文别名
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英文名称
2-Bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl carbonochloridate
英文别名
——
2-Bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl carbonochloridate化学式
CAS
33936-15-1
化学式
C8H9ClO2
mdl
——
分子量
172.611
InChiKey
JZBYLNDCWLVOPC-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.5
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.62
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-Bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl carbonochloridateN-alpha-叔丁氧羰基-L-赖氨酸 在 sodium hydroxide 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 12.0h, 以16.9 g的产率得到(2S)-6-(2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyloxycarbonylamino)-2-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonylamino]hexanoic acid
    参考文献:
    名称:
    UNNATURAL AMINO ACIDS COMPRISING A CYCLOOCTYNYL OR TRANS-CYCLOOCTENYL ANALOG GROUP AND USES THEREOF
    摘要:
    本发明涉及含有环辛炔基或反式环辛烯基类似物基团的非天然氨基酸,其具有化学式(I)或其酸或碱加合物。该发明还涉及所述非天然氨基酸的使用,用于制备包含一个或多个环辛炔基或反式环辛烯基类似物基团的多肽的工具和过程。这些多肽可以通过体外或体内反应与含有偶氮酰基、腈氧化物、亚硝基、偶氮甲酰基或1,2,4,5-四唑基团的化合物进行共价修饰。
    公开号:
    US20140073764A1
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    活细胞中狄尔斯-阿德反应的氨基酸
    摘要:
    承受压力:一组遗传编码的非天然氨基酸可用于荧光染料对蛋白质的生物相容性位点特异性标记。新化合物具有降冰片烯和反式环辛烯单元,它们与反电子需求的Diels-Alder环加成反应中的四嗪衍生物反应(图左)。该技术提供了与通过叠氮化物-环辛炔点击反应进行标记正交的快速标记(右)。
    DOI:
    10.1002/anie.201108231
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文献信息

  • Photopolymerisationsverfahren
    申请人:CIBA-GEIGY AG
    公开号:EP0071571A1
    公开(公告)日:1983-02-09
    Eine Schicht einer flüssigen Zusammensetzung, die eine Verbindung (A) mit mindestens einer (Meth)acryloylgruppe und mindestens einer Bicyclo[2.2.1]hept-2-en-6-yl-einheit im selben Molekül enthält, wird mit aktinischer Strahlung so belichtet, dass sich die Schicht wegen Photopolymerisation von (A) Ober die (Meth)acryloylgruppe(n) verfestigt, jedoch noch photovemetzbar bleibt. Gewünschtenfalls wird die verfestigte Schicht wie durch ein Negativ hindurch mit einer wesentlich grösseren Menge aktinischer Strahlung belichtet, wobei die so weiterbelichteten Stellen über die Bicyclo-[2.2.1]hept-2-en-6-yl-einheit(en) höher photovernetzt und .damit unlöslich werden. Es entsteht eine Abbildung, die mittels geeigneter Lösungsmittel entwickelbar ist. Beispiele für (A) sind unter anderem Bicyclo[2.2.1]hept-2-en-6-carbonsäure-3-(methacryloyloxy)-2-hydroxypropylester und Methyl-5-carboxybicyclo[2.2.1]hept-2-en-6-carbonsäure-2-(acryloyloxy)-äthylester.
    将一层含有化合物(A)的液体组合物暴露在光辐射下,该化合物(A)在(甲基)丙烯酰基上部发生光聚合反应而固化,但仍可进行光交联。如果需要,可将固化层像底片一样暴露在更大量的光辐射下,这样进一步暴露的区域就会通过双环-[2.2.1]庚-2-烯-6-基单元发生更多的光交联,从而不溶解。最终形成的图像可以使用合适的溶剂进行显影。(A)的例子包括双环[2.2.1]庚-2-烯-6-羧酸 3-(甲基丙烯酰氧基)-2-羟基丙酯和甲基-5-羧基双环[2.2.1]庚-2-烯-6-羧酸 2-(丙烯酰氧基)乙酯。
  • Dielektrikum mit Sperrwirkung gegen Kupferdiffusion
    申请人:Infineon Technologies AG
    公开号:EP1375559A1
    公开(公告)日:2004-01-02
    Die Erfindung betrifft neue Poly-o-hydroxyamide, die sich zu Polybenzoxazole zyklisieren lassen, welche eine hohe Diffusionssperrwirkung gegenüber Metallen zeigen. Die Poly-o-hydroxyamide lassen sich durch übliche Techniken auf ein Halbleitersubstrat auftragen und durch Erwärmen einfach zum Polybenzoxazol umsetzen. Durch die hohe Sperrwirkung gegenüber einer Diffusion von Metallen kann auf eine Diffusionsbarriere zwischen Leiterbahn und Dielektrikum weitgehend verzichtet werden.
    本发明涉及可环化为聚苯并恶唑的新型聚邻羟基酰胺,它对金属具有很高的扩散阻断效果。这种聚-邻-羟基酰胺可通过传统技术应用于半导体基底,并通过加热简单地转化为聚苯并恶唑。由于对金属扩散的高阻隔效应,导体轨道和电介质之间的扩散屏障在很大程度上可以省去。
  • Isoliermaterial für Aluminium und Kupfermetallisierungen
    申请人:Infineon Technologies AG
    公开号:EP1375563A1
    公开(公告)日:2004-01-02
    Die Erfindung betrifft ein hochtemperaturstabiles Dielektrikum für Aluminium- und Kupfermetallisierungen. Die polymeren Dielektrika eignen sich überraschenderweise - trotz der Abspaltung von Wasser während der Zyklisierung - sehr gut zum Füllen von engen Gräben. Die gefüllten Gräben zeigen keinerlei Defektstellen sowie Blasen oder Risse. Die Polybenzoxazole haben Dielektrizitätskonstanten von k ≦ 2,7 und eignen sich gut als elektrischer Isolator. Weiterhin haften diese Materialien sehr gut auf allen für die Mikroelektronik relevanten Oberflächen.
    本发明涉及一种用于铝和铜金属化的高温稳定电介质。令人惊讶的是,这种聚合物电介质非常适合填充狭窄的沟槽,尽管在循环过程中会出现水分离现象。填充后的沟槽不会出现任何缺陷、气泡或裂缝。聚苯并恶唑的介电常数 k ≦ 2.7,非常适合用作电绝缘体。此外,这些材料还能很好地附着在与微电子有关的所有表面上。
  • POLYMERISIERBARE ZUSAMMENSETZUNG AUF THIOL-EN-BASIS
    申请人:Karl Leibinger Medizintechnik GmbH & Co. KG
    公开号:EP4091599A1
    公开(公告)日:2022-11-23
    Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung von Verbindungen, die pro Molekül jeweils zumindest eine polymerisierbare C-C-Doppelbindung, zumindest eine haftungsvermittelnde Gruppierung und einen dazwischen liegenden zumindest zweiwertigen Spacer aufweisen, als Primer in einer polymerisierbaren Zusammensetzung auf Thiol-En-Basis, die weiters zumindest einen radikalischen Initiator, Monomere mit zumindest zwei polymerisierbaren C-C-Doppelbindungen pro Molekül und Polythiole mit zumindest zwei SH-Gruppen pro Molekül umfasst, mit dem Kennzeichen, dass die Primer als polymerisierbare Doppelbindungen 5-Norbornen-2-yl-Gruppen und aus Phosphonsäure-Gruppen und 3,4-Dihydroxyphenyl-Gruppen ausgewählte Gruppen als haftungsvermittelnde Gruppierungen umfassen; entsprechende Zusammensetzungen auf Thiol-En-Basis; entsprechende, für diesen Zweck geeignete Norbornen-Derivate; sowie konkrete, erstmalig synthetisierte Vertreter solcher Norbornen-Derivate.
    本发明涉及在可聚合硫醇烯基组合物中使用每分子至少有一个可聚合的 C-C 双键、 至少有一个促进粘附的基团和至少有一个二价间隔的化合物作为引物,该组合物还包 括至少一种自由基引发剂、每分子至少有两个可聚合 C-C 双键的单体和每分子至少有两个 SH 基团的聚硫醇,其特征是引物包括作为可聚合双键的 5-降冰片烯-2-基团和选自膦酸基团和 3,4-二羟基苯基基团的基团作为促粘基团;相应的以硫醇烯为基础的组合物;适用于这一目的的相应降冰片烯衍生物;以及首次合成的此类降冰片烯衍生物的具体代表。
  • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG MONOLITHISCHER TRÄGERMATERIALIEN
    申请人:Buchmeiser, Michael Rudolf
    公开号:EP1190244B1
    公开(公告)日:2003-02-26
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