2-pentyl-4,6-bis-trichloromethyl-[1,3,5]triazine | 24481-37-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 三嗪类
• 英文名称: 2-pentyl-4,6-bis-trichloromethyl-[1,3,5]triazine
• 英文别名: 2-Pentyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine
• CAS: 24481-37-6
• 化学式: C₁₀H₁₁Cl₆N₃
• 分子量: 385.935
• InChiKey: FQHGFEJAGPVNHJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  155-156 °C(Press: 2 Torr)
• 密度：
  1.518±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.6
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  38.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-pentyl-4,6-bis-trichloromethyl-[1,3,5]triazine 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 4.0h， 以85%的产率得到2,4-Dimethyl-6-pentyl-s-triazin
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and properties of derivatives of symtriazine. 17. Synthesis of 2-methyl-4,6-disubstituted and 2,4-dimethyl-6-substituted sym-triazines by reduction of the corresponding trichloromethyl derivatives

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf01166336
• 作为产物：
  描述：

  三氯乙腈 、 已腈 以84%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  KELAREV, V. I.;DIBI, AMMAR;LUNIN, A. F.;MALOVA, O. V., ZH. ORGAN. XIMII, 1985, 21, N 6, 1306-1311

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Multi-photon reactive compositons with inorganic particles and method for fabricating structures
  申请人：3M Innovative Properties Company

  公开号：US20040068023A1

  公开（公告）日：2004-04-08

  A multi-photon reactive composition including: (a) at least one reactive species; and (b) multi-photon photoinitiator system; and (c) a plurality of substantially inorganic particles, wherein the particles have an average particle size of less than about 10 microns in diameter.

  一种多光子反应组合物，包括：（a）至少一种反应性物质；（b）多光子光引发剂系统；和（c）多个基本上无机颗粒，其中颗粒的平均粒径小于约10微米。
• Multi-photon reacted articles with inorganic particles and method for fabricating structures
  申请人：Leatherdale Catherine A.

  公开号：US20090035528A1

  公开（公告）日：2009-02-05

  A three-dimensional shaped structure is prepared from a multi-photon reactive composition including: (a) at least one reactive species; (b) a multi-photon photoinitiator system; and (c) a plurality of substantially inorganic particles, wherein the particles have an average particle size of less than about 10 microns in diameter.

  使用多光子反应组成物制备出三维形状的结构，该组成物包括：(a) 至少一种反应物种；(b) 多光子光引发剂系统；以及 (c) 多个基本无机颗粒，其中颗粒的平均粒径小于约10微米。
• MULTI-PHOTON REACTIVE COMPOSITIONS WITH INORGANIC PARTICLES AND METHOD FOR FABRICATING STRUCTURES
  申请人：Leatherdale A. Catherine

  公开号：US20070264501A1

  公开（公告）日：2007-11-15

  A multi-photon reactive composition including: (a) at least one reactive species; and (b) multi-photon photoinitiator system; and (c) a plurality of substantially inorganic particles, wherein the particles have an average particle size of less than about 10 microns in diameter.

  一种多光子反应组合物，包括：（a）至少一种反应性物质；和（b）多光子光引发剂系统；以及（c）多个基本上无机颗粒，其中颗粒的平均粒径小于约10微米。
• Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0006627A2

  公开（公告）日：1980-01-09

  Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben. das (a) eine unter Einwirkung von aktinischer Strahlung. insbesondere UV-Licht, Säure bildende Verbindung und (b) eine Verbindung enthält, die mindestens eine Enoläthergruppe entnält, und deren Löslichkeit in einem flüßigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird. Der Enoläther ist bevorzugt eine Verbindung der ailgemeinen Formel I in der R, einen n-wertigen aliphatischen Rest mit wenigstens 2 Kohlenstoffatomen bedeutet. R2, R3 und R4 gleich oder verschieden sind und Wasserstoffatome. Alkyl- oder Arylreste bedeuten oder jeweils zu zweit zu einem gesättigten oder olefinisch ungesättigten Ring verbunden sind, und eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist. Das Gemisch wird in Form einer strahlungsempfindlichen Schicht bildmäßig bestrahlt und an den bestrahlten Stellen mit einem Entwickler ausgewaschen, so daß ein positives Reliefbild entsteht

  本文描述了一种辐射敏感混合物，它含有 (a) 在光辐射，特别是紫外线作用下会形成酸的化合物，以及 (b) 至少含有一个烯醇醚基团的化合物，在酸的作用下，该化合物在液体显影剂中的溶解度会增加。烯醇醚最好是通式 I 的化合物 其中 R 是至少有 2 个碳原子的正价脂族基。 R2、R3 和 R4 相同或不同，均为氢原子。是烷基或芳基，或各自成对连接形成饱和环或烯烃不饱和环，以及 是 1 至 4 的整数。 混合物以辐射敏感层的形式进行图像辐照，并用显影剂冲洗辐照区域，从而形成正浮雕图像。
• Lichtempfindliche, Trichlormethylgruppen aufweisende Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese Verbindungen enthaltendes lichtempfindliches Gemisch
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0137452A1

  公开（公告）日：1985-04-17

  Es werden lichtempfindliche Verbindungen der allgemeinen Formel beschrieben, worin R1 und R2 H oder Alkyl, R3 und R4 entweder H oder 4,6-Bis-trichlormethyl-s-triazin-2-yl, R5 und R6 H oder Halogen, Alkyl, Alkenyl oder Alkoxy und Ar einen ein- bis dreikernigen aromatischen Rest bedeuten. Die Verbindungen sind als Photoinitiatoren für radikalische Polymerisationen oder als photolytische Säurespender für säurespaltbare Verbindungen, für Vernetzungs-oder Farbbildungsreaktionen geeignet und zeichnen sich durch hohe Empfindlichkeit in verschiedenen Spektralbereichen aus.

  通式如下的光敏化合物 其中 R1 和 R2 为 H 或烷基，R3 和 R4 为 H 或 4,6-双三氯甲基-s-三嗪-2-基，R5 和 R6 为 H 或卤素、烷基、烯基或烷氧基，Ar 为单核至三核芳香基。 这些化合物适合用作自由基聚合反应的光引发剂，或用作可酸解化合物的光解酸给体，用于交联或成色反应，并具有在各种光谱范围内灵敏度高的特点。