Trifluoro(fluoromethyl)silane | 129439-04-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: Trifluoro(fluoromethyl)silane
• CAS: 129439-04-9
• 化学式: CH₂F₄Si
• 分子量: 118.106
• InChiKey: NVMHZKROPXJWJO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  -8.9±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.151±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.34
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  trifluoromethyltrimethylsilane 在 一氟硅烷 作用下， 反应 2.0h， 生成 四氟乙烯 、 1,1,2,2,3,3-六氟环丙烷 、 (二氟甲基)氟硅烷 、 Trifluoro(fluoromethyl)silane 、 Difluoromethyl-difluoro-silane 、 Difluoromethyl-fluoro-methylsilane
  参考文献：
  名称：

  二氟卡宾插入SiH键：二氟甲基硅烷的制备和性能

  摘要：

  发现Cf 3 SiF 3在100°C下热分解生成的二氟卡宾CF 2插入卤代硅烷SiH 3 X（X = F，Cl，Br，I），甲基卤代硅烷CH 3的SiH键中的SiH 2 X（X为Br，cl）和（CH 3）2的SiHCl，和二硅氧烷硅烷（SiH 3）2的过量的CF的使用O. 2 -source CF 3的SiF 3和的压力有利于二-的形成插入产品（CHF 2）2 SiHX和（CHF 2）2（CH 3）六。在CF 3 SiF 3和（CHF 2）SiH 2 Cl的共热解中形成的产物中鉴定出（CHF 2）3 SiCl 。相反，有机硅烷R n SiH 4- n（R = Me，Ph; n = 0-4），二卤代硅烷SiH 2 X 2和RSiHX 2，三卤代硅烷HSiX 3和四卤代硅烷SiX 4在这些条件下不与CF 2反应。根据空间和电子参数讨论了二氟卡宾的反应性和选择性。动力学氘效应已观察到k（SiH）/

  DOI：

  10.1016/0022-328x(91)86223-d

文献信息

• Thermolysis of trifluoromethylsilanes. Novel fluoromethylsilanes by insertion of CF2 and CHF into SiH bonds
  作者：H. Beckers、H. Bürger

  DOI：10.1016/0022-328x(90)87285-l

  日期：1990.3

  secondary reactions. These dominate in the absence of an efficient CF2 trapping agent, and spectroscopic product analyses reveal that they mainly arise from insertion of the carbenes CHnF2-n into SiH bonds followed by CHn+1F1-n elimination (n = 0, 1). This sequence corresponds to H/F exchange at the Si atom. Insertion of CF2 (generated by thermolysis of CF3SiF3 below 100°C) into an SiH bond of H3SiF

  CF 3 SiH 3和（CF 3）2 SiH 2在气相中的热分解分别在〜200℃和〜100℃开始。它是由KF催化的，并涉及作为起始步骤的干净的CF 2消除（具有α-氟转移）。诸如HBr的反应性物质定量捕集CF 2（在这种情况下为CHF 2 Br），而反应性较低的环己烯（得到7,7-二氟双环庚烷）的添加则伴随有次级反应。这些在缺乏有效的CF 2捕集剂的情况下占主导地位，并且光谱产物分析​​表明，它们主要来自于羧甲基CH n F的插入。2- n形成SiH键，然后消除CH n +1 F 1- n（n = 0，1）。该序列对应于Si原子上的H / F交换。将CF 2（通过将CF 3 SiF 3在低于100°C的温度下热解生成）插入H 3 SiF的SiH键中，以高收率获得CHF 2 SiH 2 F，这是该反应的第一例，并证明了其有用性。用于选择性合成CHF 2 Si化合物。另外，SiH n F 3-
• Difluorocarbene insertion into SiH bonds: the preparation and properties of difluoromethylsilanes
  作者：H. Bürger、R. Eujen、P. Moritz

  DOI：10.1016/0022-328x(91)86223-d

  日期：1991.1

  Difluorocarbene, CF2, generated by thermal decomposition of Cf3SiF3 at 100°C, has been found to insert into the SiH bonds of halosilanes SiH3X (X = F, Cl, Br, I), methylhalosilanes CH3SiH2X (X = Br, Cl) and (CH3)2SiHCl, and disiloxane (SiH3)2O. Use of excess of the CF2-source CF3SiF3 and of pressure favour the formation of the di-insertion products (CHF2)2SiHX and (CHF2)2(CH3)SiX. (CHF2)3SiCl was

  发现Cf 3 SiF 3在100°C下热分解生成的二氟卡宾CF 2插入卤代硅烷SiH 3 X（X = F，Cl，Br，I），甲基卤代硅烷CH 3的SiH键中的SiH 2 X（X为Br，cl）和（CH 3）2的SiHCl，和二硅氧烷硅烷（SiH 3）2的过量的CF的使用O. 2 -source CF 3的SiF 3和的压力有利于二-的形成插入产品（CHF 2）2 SiHX和（CHF 2）2（CH 3）六。在CF 3 SiF 3和（CHF 2）SiH 2 Cl的共热解中形成的产物中鉴定出（CHF 2）3 SiCl 。相反，有机硅烷R n SiH 4- n（R = Me，Ph; n = 0-4），二卤代硅烷SiH 2 X 2和RSiHX 2，三卤代硅烷HSiX 3和四卤代硅烷SiX 4在这些条件下不与CF 2反应。根据空间和电子参数讨论了二氟卡宾的反应性和选择性。动力学氘效应已观察到k（SiH）/