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一氟硅烷 | 13537-33-2

中文名称
一氟硅烷
中文别名
——
英文名称
fluorosilane
英文别名
silyl fluoride
一氟硅烷化学式
CAS
13537-33-2
化学式
FH3Si
mdl
——
分子量
50.1077
InChiKey
XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    -98°C (estimate)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.76
  • 重原子数:
    2
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

制备方法与用途

合成制备方法如下:

[ \text{SiH}_3\text{Cl} + \text{SbF}_3 → \text{SiH}_3\text{F} ]

在室温下,当SiH₃Cl与SbF₃在SbCl₅存在时反应,即可制得SiH₃F,产率可达80%。该化合物极易分解为SiH₄和SiF₄。

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    一氟硅烷 以 gaseous matrix 为溶剂, 生成 monofluorosilylene氢气
    参考文献:
    名称:
    Unimolecular decomposition of silane, fluorosilane, and difluorosilane at high temperatures
    摘要:
    The thermal decomposition of SiH4, SiH3F, and SiH2F2 diluted in AR was studied behind incident shock waves by monitoring Ir emission from these reactant molecules. The rate constants of the unimolecular decomposition for all of three molecules were found to be in the pressure falloff region over the present experimental conditions (T = 1190-2150 K and P = 0.2-1.6 atm). The activation energies of measured rate constants were compared with heats of reactions for the various possible pathways for the thermal decomposition of these molecules and it was concluded that three-center H-2 elimination reactions were the dominant pathways for unimolecular reactions of SiH4-n(F)n (n = 0, 1, and 2). These rate constants decrease with increasing number of fluorine atoms, n, in SiH4-n(F)n. RRKM falloff calculations have been performed to examine the effect of fluorine substitution on the unimolecular decomposition rates of these molecules.
    DOI:
    10.1021/j100156a035
  • 作为产物:
    描述:
    heptafluoropropylselenosilane 生成 一氟硅烷
    参考文献:
    名称:
    440.全氟烷基甲硅烷基硒化物
    摘要:
    DOI:
    10.1039/jr9620002290
  • 作为试剂:
    描述:
    trifluoromethyltrimethylsilane一氟硅烷 作用下, 反应 2.0h, 以67%的产率得到(二氟甲基)氟硅烷
    参考文献:
    名称:
    三氟甲基硅烷的热解。通过将CF 2和CHF插入SiH键中的新型氟甲基硅烷
    摘要:
    CF 3 SiH 3和(CF 3)2 SiH 2在气相中的热分解分别在〜200℃和〜100℃开始。它是由KF催化的,并涉及作为起始步骤的干净的CF 2消除(具有α-氟转移)。诸如HBr的反应性物质定量捕集CF 2(在这种情况下为CHF 2 Br),而反应性较低的环己烯(得到7,7-二氟双环庚烷)的添加则伴随有次级反应。这些在缺乏有效的CF 2捕集剂的情况下占主导地位,并且光谱产物分析​​表明,它们主要来自于羧甲基CH n F的插入。2- n形成SiH键,然后消除CH n +1 F 1- n(n = 0,1)。该序列对应于Si原子上的H / F交换。将CF 2(通过将CF 3 SiF 3在低于100°C的温度下热解生成)插入H 3 SiF的SiH键中,以高收率获得CHF 2 SiH 2 F,这是该反应的第一例,并证明了其有用性。用于选择性合成CHF 2 Si化合物。另外,SiH n F 3-
    DOI:
    10.1016/0022-328x(90)87285-l
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文献信息

  • Preparation and spectroscopic studies of some reactions of lithium derivatives of silanol, disilylphosphine, and related compounds
    作者:Stephen Cradock、E. A. V. Ebsworth、David W. H. Rankin、W. John Savage
    DOI:10.1039/dt9760001661
    日期:——
    reacts with Y(SiH3)2(Y = O, S, or Se) or Z(SiH3)3(Z = P or As) in diethyl ether to give Li(YSiH3) or Li[Z(SiH3)2]; these compounds have been characterised by i.r., Raman, and n.m.r. spectroscopy, and some of their reactionswith halides have been studied. Trisilylamine does not react cleanly with LiMe to form an analogous compound. The n.m.r. spectra of solutions containing both Li(YSiH3) and Y(SiH3)2
    甲基锂与Y(SiH 3)2(Y = O,S或Se)或Z(SiH 3)3(Z = P或As)在乙醚中反应生成Li(YSiH 3)或Li [Z( SiH 3)2 ]; 这些化合物已通过红外光谱,拉曼光谱和核磁共振光谱进行了表征,并研究了它们与卤化物的某些反应。三甲硅烷基胺不能与LiMe干净地反应形成类似的化合物。包含Li(YSiH 3)和Y(SiH 3)2的溶液的nmr光谱表明,除非Y = O,否则交换会在nmr时间尺度上快速发生。可以从Li(SeSiH 3)制备硒代乙酸硅酯)和MeCOCl,并确定了该物种中分子内交换的动力学参数。
  • Preparation and properties of difluorophosphino(tetrafluorophosphoranyl)amine
    作者:David W. H. Rankin、John G. Wright
    DOI:10.1039/dt9790001070
    日期:——
    The compound NH(PF2)(PF4) has been prepared from PF2[NH(SiH3)] by reaction with PF5. Vibrational, photoelectron, n.m.r., and mass spectroscopic data have been recorded, and interpreted in terms of the probable structure and conformation of the molecule. At low temperatures the phosphorus(V) group has chemically equivalent equatorial fluorine atoms but non-equivalent axial atoms, indicating restricted
    通过与PF 5反应,由PF 2 [NH(SiH 3)]制备了化合物NH(PF 2)(PF 4)。记录了振动,光电子,核磁共振和质谱数据,并根据分子的可能结构和构象进行了解释。在低温下,磷(V)基团具有化学等效的赤道氟原子但非等效的轴向原子,这表明绕PN键的旋转受限制以及伪旋转受限制。在高温下,所有四个氟原子都是等价的。
  • Preparation and chemical and spectroscopic properties of (disilylamino)difluorophosphine and bis(difluorophosphino)silylamine
    作者:E. A. V. Ebsworth、David W. H. Rankin、John G. Wright
    DOI:10.1039/dt9790001065
    日期:——
    N(PF2)2(SiH3) have been prepared by the reactions of SiBrH3 and NMe3 with PF2[NH(SiH3)] and NH(PF2)2 respectively. Vibrational, n.m.r., mass, and photoelectron spectra have been recorded, and chemical properties have been studied. With diborane, PF2[N(SiH3)2] gives the adduct PF2[N(SiH3)2]·BH3 and N(PF2)2(SiH3) gives both mono- and bis-(borane) adducts; n.m.r. spectre of the three borane adducts have
    通过SiBrH 3和NMe 3与PF 2 [NH(SiH 3)]和NH(PF 2)的反应制备了化合物PF 2 [N(SiH 3)2 ]和N(PF 2)2(SiH 3)。)2。记录了振动,核磁共振,质量和光电子能谱,并对化学性质进行了研究。与乙硼烷一起,PF 2 [N(SiH 3)2 ]生成加合物PF 2 [N(SiH 3)2 ]·BH 3和N(PF 2)2(SiH 3)生成单-和双-(硼烷)加合物;记录了三种硼烷加合物的核磁共振谱。在与HBr的反应中,PN键优先受到攻击,而在与水的反应中,Si-N键的裂解首先发生。
  • Reactions of silanes and germanes with iridium complexes. Part 4. Reactions with carbonylhydridotris(triphenylphosphine)iridium(I)
    作者:E. A. V. Ebsworth、Thomas E. Fraser、Steven G. Henderson、Diana M. Leitch、David W. H. Rankin
    DOI:10.1039/dt9810001010
    日期:——
    The title complex, [IrH(CO)(PPh3)3](1), reacts with MH3Q (M = Si or Ge when Q = H, F, Cl, Br, or I; M = Si when Q = SiH3 or CH3) to give [IrH2(CO)(PPh3)2(MH2Q)]. The products have been characterised by 1H, 31P, and (where appropriate)19F n.m.r. spectra. Where M = Ge, the predominant isomer contains mutually trans phosphine ligands, whereas when M = Si the predominant (and in some cases the sole) product
    标题配合物[IrH(CO)(PPh 3)3 ](1)与MH 3 Q反应(当Q = H,F,Cl,Br或I时,M = Si或Ge;当Q = H时,M = Si SiH 3或CH 3)得到[IrH 2(CO)(PPh 3)2(MH 2 Q)]。产品的特征在于1 H,31 P和(在适当情况下)19 F nmr光谱。当M = Ge时,主要的异构体含有相互反式的膦配体,而当M = Si时,主要的产物(在某些情况下是唯一的)含有顺膦。在具有顺式的异构体中膦,在1 H nmr光谱中观察到一些异常的偶联模式。当Q = I和M = Si时,两个SiH质子之间的化学位移相差1.3 ppm,并且在室温下照射一个峰导致另一个峰消失,这种现象被解释为由于饱和转移; 讨论了该过程的可能机制。
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: B: B-Verb.4, 4.4.1, page 110 - 117
    作者:
    DOI:——
    日期:——
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