4-chloronaphthalimide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 4-chloronaphthalimide
• 英文别名: 5-Chlorobenzo[e]isoindole-1,3-dione
• 化学式: C₁₂H₆ClNO₂
• 分子量: 231.638
• InChiKey: BMOMJYDTPRKGEN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  46.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-chloronaphthalimide 在 氢氧化钾 作用下， 以 N-甲基乙酰胺 、 乙醇 为溶剂， 生成 6-chloro-2-(2-chloroethyl)-1H-benz[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione
  参考文献：
  名称：

  2-[(Substituted-piperazinyl)alkyl]-1H-benz[de]isoquinoline-1,3(2H)-diones

  摘要：

  以下公式化合物及其酸盐衍生物 其中 R.sup.1 和 R.sup.2 独立选择自氢、卤素、低烷基、低烷氧基、低烷硫基、硝基、氰基、氨基和三氟甲基；A 是1至8个碳原子的直链或支链烷基；Z 是 其中 R.sup.3 选择自苯基、苯基-低烷基和取代苯基，披露了这些化合物具有抗抑郁活性。此外，这些化合物可用作抗炎药物。

  公开号：

  US03940397A1

文献信息

• 2-(Piperidinyl or
  申请人：E. R. Squibb & Sons, Inc.

  公开号：US04007191A1

  公开（公告）日：1977-02-08

  Compounds of the following formula ##STR1## wherein R.sup.1 and R.sup.2 are selected from hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, lower alkylthio, halogen, trifluoromethyl, nitro, amino and cyano; Z is selected from ##STR2## R.sup.3 is selected from phenyl, phenyl-lower alkyl, substituted phenyl, and substituted phenyl-lower alkyl; R.sup.4 is selected from R.sup.3 and a 6-membered unsaturated substituted or unsubstituted heterocyclic ring selected from pyridine, diazine and triazine; and A is a straight or branched chain alkylene of 2 to 8 carbons are disclosed. These compounds exhibit antidepressant activity.

  以下式的化合物 ##STR1## 中，其中R.sup.1和R.sup.2从氢、较低的烷基、较低的烷氧基、较低的烷基硫基、卤素、三氟甲基、硝基、氨基和氰基中选择；Z从##STR2##中选择；R.sup.3从苯基、苯基-较低烷基、取代苯基和取代苯基-较低烷基中选择；R.sup.4从R.sup.3和从吡啶、二氮杂环和三氮杂环中选择的6-成员不饱和取代或未取代杂环环中选择；A是2至8碳的直链或支链烷基。这些化合物具有抗抑郁活性。
• NOVEL SULFONIC ACID DERIVATIVE COMPOUND AND NOVEL NAPHTHALIC ACID DERIVATIVE COMPOUND
  申请人：Murai Toshihiko

  公开号：US20120289697A1

  公开（公告）日：2012-11-15

  Disclosed are a novel sulfonic acid derivative compound and a novel naphthalic acid derivative compound with high solubility in organic solvents, good photosensitivity, and suitability as a photoacid generator and a polymerization initiator. The sulfonic acid derivative compound is represented by the formula (I) (wherein R 01 , R 04 , R 05 , and R 06 represent a hydrogen atom; any one of R 02 and R 03 represents an alkoxy group having a carbon number of 4 to 18 which may be substituted with an alicyclic hydrocarbon group, a heterocyclic group, or a halogen atom and which may have a branch, or the like; and R 07 represents an aliphatic hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 18 which may be substituted with a halogen atom and/or an alkylthio group, or the like).

  揭示了一种新颖的磺酸衍生物化合物和一种新颖的萘甲酸衍生物化合物，具有在有机溶剂中高溶解度、良好的光敏性，并适用于光酸发生剂和聚合引发剂。磺酸衍生物化合物由以下式(I)表示（其中R01、R04、R05和R06代表氢原子；R02和R03中的任一表示具有4至18个碳原子的烷氧基，可以被取代为脂环烃基、杂环基或卤素原子，并且可以具有支链等；R07表示具有1至18个碳原子的脂肪烃基，可以被取代为卤素原子和/或烷基硫基等）。
• Schwefelsäureester-Gruppen enthaltende Naphthalimide, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0248356A1

  公开（公告）日：1987-12-09

  Neue optische Aufheller der allgemeinen Formel worin R Wasserstoff, Alkyl, Alkoxyalkyl, Cyclohexyl, Me­thylcyclohexyl, Benzyl, Phenylethyl, Phenyl, Alkyphenyl, Xylyl, X eine C₂-C₇-Alkylengruppe oder ein Brückenglied der For­mel -X¹-(OX²)n-, worin X¹ und X² C₂H₄ oder C₃H₇ und n 1 oder 2 bedeuten und Me ein Proton, ein Alkalimetallkation oder ein NH₂R¹R²Kation, wobei R¹ und R² für Wasserstoff, Alkyl oder Hydroxyalkyl stehen, bedeuten.

  一种通式为-X¹-(OX²)n-的新型光学增白剂，其中 R 是氢、烷基、烷氧基烷基、环己基、甲基环己基、苄基、苯乙基、苯基、烷基苯基、二甲苯基，X 是 C₂-C₇- 烷基或通式为-X¹-(OX²)n-的桥联成员，其中 X¹ 和 X² 是 C₂H₄ 或 C₃H₇，n 是 1 或 2，Me 是质子、碱金属阳离子或 NH₂R¹R²阳离子，其中 R¹ 和 R² 是氢、烷基或羟基烷基。
• SULFONIC ACID DERIVATIVE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, CATIONIC POLYMERIZATION INITIATOR, AND CATIONICALLY POLYMERIZABLE COMPOSITION
  申请人：Adeka Corporation

  公开号：EP3272737A1

  公开（公告）日：2018-01-24

  Provide are: a sulfonic acid derivative compound which has high absorbance for light having a wavelength of 365 nm and exhibits high solubility in organic solvents and good acid generation rate; a photoacid generator; a resist composition; a cationic polymerization initiator; and a cationically polymerizable composition. The sulfonic acid derivative compound is represented by the following Formula (I): (wherein, X represents a linear or branched alkyl group having 1 to 14 carbon atoms; and R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an acyl group-substituted aryl group having 7 to 20 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, a 10-camphoryl group or the like).

  提供：一种磺酸衍生物化合物，它对波长为 365 纳米的光具有高吸收率，在有机溶剂中具有高溶解性和良好的酸生成率；一种光酸发生器；一种抗蚀剂组合物；一种阳离子聚合引发剂；以及一种阳离子可聚合组合物。磺酸衍生物化合物由下式（I）表示： (其中，X 代表具有 1 至 14 个碳原子的直链或支链烷基；R 代表具有 1 至 18 个碳原子的脂肪族烃基、具有 6 至 20 个碳原子的芳基、具有 7 至 20 个碳原子的芳烷基、具有 7 至 20 个碳原子的酰基取代的芳基、具有 3 至 12 个碳原子的脂环族烃基、10-樟脑基或类似基团）。
• NOVEL SULFONIC ACID DERIVATIVE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, CATIONIC POLYMERIZATION INITIATOR, RESIST COMPOSITION, AND CATIONICALLY POLYMERIZABLE COMPOSITION
  申请人：Adeka Corporation

  公开号：EP2927216B1

  公开（公告）日：2018-10-24