NH2 radical | 17778-88-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 均质非金属化合物 - 均质其他非金属化合物
• 英文名称: NH2 radical
• CAS: 17778-88-0
• 化学式: H₂N
• 分子量: 16.0226
• InChiKey: MDFFNEOEWAXZRQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.7
• 重原子数：
  1
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  NH2 radical 以 gaseous matrix 为溶剂， 生成 imino radical
  参考文献：
  名称：

  NH （A）片段荧光检测NH 2自由基

  摘要：

  最初在NH 3的ArF激光光解中产生的热NH 2自由基在与Ar碰撞时迅速松弛到环境温度。他们随后通过电子激发（NH（A的荧光来检测3 Π）photofragments发射在336纳米。对于自由基的光解光源是在147nm的连续波Xe灯，该方法使得能够监测NH 2基团超过0.2秒，因为它们慢慢地相互反应并扩散的观察体积的进行。检测到的NH 2个浓度范围from≈10 13 to≈10 15厘米-3。

  DOI：

  10.1016/0009-2614(95)00529-d
• 作为产物：
  描述：

  imino radical 在 甲醇 作用下， 生成 NH2 radical
  参考文献：
  名称：

  Bond selectivity in the reaction of NH(a ¹Δ) with methanol

  摘要：

  Reaction of NH(a 1Δ) with methanol has been studied by a flash photolysis of HNCO at 193 nm at room temperature (298±2 K). Time dependence and relative concentrations for NH, NH2, NHD, CH3O, H, and D are monitored by a laser induced fluorescence (LIF) technique. From the pseudo-first-order analysis of NH(a 1Δ) decay rate, the rate constants for the reactions NH(a 1Δ)+CH3OH→ products (1), and NH(a 1Δ)+CH3OD→products (2) have been determined to be k1=(1.37±0.10)×10−10 cm3 molecule−1 s−1 in the pressure range of 3–20 Torr Ar or 5 Torr He, and k2=(1.33±0.05)×10−10 cm3 molecule−1 s−1 at the pressure of 5 Torr He, respectively. By comparing the LIF intensity of NH(X 3Σ−) in reaction (1) with that in NH(a 1Δ)+Xe reaction system, the contribution of physical quenching in reaction (1) has been evaluated to be less than 2.4%. Also by comparing the LIF intensities of NHD and NH2 in reaction (2) with those in NH(a 1Δ)+D2/H2 reaction systems, the branching ratio between the pathways producing NHD (2b) and NH2 (2c) has been determined to be k(2b)/k(2c)=23±9. It is elucidated that the insertion of NH(a 1Δ) into O–D bond of CH3OD is completely predominant over C–H bond; i.e., the O–D bond is about 69 times more reactive toward insertion of NH(a 1Δ) than a single C–H bond.

  DOI：

  10.1063/1.465086
• 作为试剂：
  描述：

  1,3-dithiane-5,5-d2 在 NH2 radical 作用下， 以 gas 为溶剂， 生成 硫甲醛 、 、 、
  参考文献：
  名称：

  Elimination, fragmentation, and proton transfer in 1,3-dithianes and 1,3-dithiolanes in the gas phase

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00406a014

文献信息

• Gas-phase chemistry of HSiS- and HSiNH-: ions related to silathioformaldehyde and the silaazomethine of formaldehyde
  作者：Robert Damrauer、Michele Krempp、Richard A. J. O'Hair

  DOI：10.1021/ja00058a055

  日期：1993.3

  Anion related to silathioformaldehyde (H 2 Si=S) and the silaazomethine of formaldehyde (H 2 Si=NH) have been prepared and studied using flowing after glow selected ion flow tube techniques. The connectivities of these anions are shown in experimental studies to be [HSiS] - and [HSiNH] - . In addition, ab initio computational studies demonstrate that these are the most stable anion isomers. These anion

  已经制备并研究了与硅硫代甲醛相关的阴离子 (H 2 Si=S) 和甲醛的硅氮甲碱 (H 2 Si=NH)，并使用流后辉光选择离子流管技术进行了研究。这些阴离子的连接性在实验研究中显示为 [HSiS] - 和 [HSiNH] - 。此外，从头计算研究表明，这些是最稳定的阴离子异构体。这些阴离子是通过碰撞诱导解离和直接源反应制备的。
• Osmium tetroxide and its fragment ions in the gas phase: reactivity with hydrocarbons and small molecules
  作者：Karl K. Irikura、J. L. Beauchamp

  DOI：10.1021/ja00183a014

  日期：1989.1

  Etude des reactions ion-molecule de OsO n + avec: CH 4 , C 2 H 4 , C 2 H 6 , C 3 H 8 , C 4 H 10 , H 2 , CO, NH 3 et SiH 4 . On observe de nombreuses reactions

  OsO n + avec 离子-分子反应练习曲：CH 4 、C 2 H 4 、C 2 H 6 、C 3 H 8 、C 4 H 10 、H 2 、CO、NH 3 和SiH 4 。观察 de nombreuses 反应
• Gas-phase nucleophilic reactions in SO2F2: experiment and theory
  作者：Nelson H. Morgon、Harrald V. Linnert、Luiz A.G. de Souza、JoséM. Riveros

  DOI：10.1016/s0009-2614(97)00782-3

  日期：1997.9

  The gas-phase ion-molecule reactions of simple anions (HO−, CH3O−, NH2−) with SO2F2 proceed with rate constants close to the collision limit. The energy surface for the OH−/SO2F2 reaction has been characterized by ab initio calculations using basis functions adapted for a pseudopotential and corrected for anionic systems by the generator coordinate method (GCM) at the QCISD(T)/(ECP/TZV/GCM) level.

  简单阴离子的气相离子-分子反应（HO -，CH 3 ö -，NH 2 - ）与SO 2 ˚F 2继续进行的速率常数接近碰撞限制。为OH的能量表面- / SO 2 ˚F 2反应的特点是从头使用的基函数计算适合于伪势和由所述发电机在所述QCISD（T）/（ECP坐标方法（GCM）校正为阴离子体系/ TZV / GCM）级别。计算表明，反应是通过将阴离子最初添加到SO 2 F 2中而发生的形成高价硫。反应的高效率与将初始加合物与产物侧离子-中性络合物分开的低能垒相关。
• Gas-phase and computational studies of pentacoordinate silicon
  作者：Robert. Damrauer、Larry W. Burggraf、Larry P. Davis、Mark S. Gordon

  DOI：10.1021/ja00228a001

  日期：1988.9

  Etude des reactions de substitution de (CH 3 ) 3 SiCl par des anions. Etude par la methode MNDO de l'affinite de X − pour H 3 SiY (X et Y=OH, CH 3 , NH 2 , OCH 3 , F, H, PH 2 , SH, Cl, SCH 3 , I, Br et SiH 3 )

  去取代反应练习曲 (CH 3 ) 3 SiCl par des anions。Etude par la methode MNDO de l'affinite de X − pour H 3 SiY (X et Y=OH, CH 3 , NH 2 , OCH 3 , F, H, PH 2 , SH, Cl, SCH 3 , I, Br et硅 3 )
• Kinetics of the self-reaction and the reaction with OH of the amidogen radical
  作者：Kjell Fagerström、Jerzy T. Jodkowski、Anders Lund、Emil Ratajczak

  DOI：10.1016/0009-2614(95)00154-v

  日期：1995.4

  The kinetics of the self-reaction and the reaction with OH of the amidogen radical were studied at 298 K by pulse radiolysis combined with UV detection of NH2 and OH radicals at 597.7 and 309.0 nm. The rate constant for the association reaction of NH2 radicals was found to be pressure dependent in the range 200–1000 mbar of SF6, and by Troe's analysis the following high- and low-pressure limiting rate

  通过脉冲辐射分解结合紫外检测597.7和309.0 nm处的NH 2和OH自由基，研究了酰胺基自由基在298 K时的自反应动力学和与OH的反应。为NH的缔合反应的速度常数2基团被认为是压力依赖于SF的范围200-1000毫巴6，并且通过Troe的分析获得以下高和低限压速率常数：κ REC，∞（7.1±0.8）×10 10（Ť / 300）0.27中号-1小号-1和κ REC，0 / [SF 6 ] =（7.1±1.5）×10 12（T / 300）-3.9 M -2 s -1在200–400 K的温度范围内。对于NH 2和OH自由基之间的反应，在500–1000 mbar SF 6范围内未观察到压力依赖性，并且随后出现了高压力。推导得出限压速率常数：（5.6±1.0）×10 10（T / 300）在200–400 K的温度范围内为0.20 M -1 s -1。