1-[[3,5-Bis[bis(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]phenyl]-(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-2,6-diol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-[[3,5-Bis[bis(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]phenyl]-(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-2,6-diol
• 化学式: C₆₉H₄₈O₁₂
• 分子量: 1069.13
• InChiKey: BUPPLQWUYDRPKC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  14.61
• 重原子数：
  81.0
• 可旋转键数：
  9.0
• 环数：
  13.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.04
• 拓扑面积：
  242.76
• 氢给体数：
  12.0
• 氢受体数：
  12.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,6-萘二酚 、 均苯三甲醛 在 硫酸 作用下， 以 丁酮 为溶剂， 反应 6.0h， 以0.1 g的产率得到1-[[3,5-Bis[bis(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]phenyl]-(2,6-dihydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-2,6-diol
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM

  摘要：

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。

  公开号：

  US20160145231A1

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20140248561A1

  公开（公告）日：2014-09-04

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.
• US9540339B2
  申请人：——

  公开号：US9540339B2

  公开（公告）日：2017-01-10
• US9598392B2
  申请人：——

  公开号：US9598392B2

  公开（公告）日：2017-03-21
• US9908831B2
  申请人：——

  公开号：US9908831B2

  公开（公告）日：2018-03-06