2-Methoxyprop-1-ene-1,1,3,3-tetracarbonitrile

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 2-Methoxyprop-1-ene-1,1,3,3-tetracarbonitrile
• 英文别名: 2-methoxyprop-1-ene-1,1,3,3-tetracarbonitrile
• 化学式: C₈H₄N₄O
• 分子量: 172.14
• InChiKey: XUKFTYLDWNZRAO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  104
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

文献信息

• PHOTOACID GENERATOR
  申请人：ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC

  公开号：US20170192352A1

  公开（公告）日：2017-07-06

  A photoacid generator compound having Formula (I): wherein, EWG, Y, R, and M + are the same as described in the specification.

  一种具有式(I)的光酸发生剂化合物：其中，EWG、Y、R和M+与规范中描述的相同。
• PHOTORESIST COMPOSITION, COATED SUBSTRATE INCLUDING THE PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING ELECTRONIC DEVICE
  申请人：ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC

  公开号：US20170192353A1

  公开（公告）日：2017-07-06

  A photoresist composition, including an acid-sensitive polymer and photoacid generator compound having Formula (I): wherein, EWG, Y, R, and M + are the same as described in the specification.

  一种光阻组合物，包括一种酸敏感聚合物和一种具有公式（I）的光酸发生剂化合物：其中，EWG，Y，R和M+与规范中描述的相同。
• Photoacid generator
  申请人：ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC

  公开号：US10317795B2

  公开（公告）日：2019-06-11

  A photoacid generator compound having Formula (I): wherein, EWG, Y, R, and M+ are the same as described in the specification.

  一种具有式 (I) 的光酸发生器化合物： 其中，EWG、Y、R 和 M+ 与说明书中所述相同。