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2,3-diethoxy-propionitrile | 98435-77-9

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2,3-diethoxy-propionitrile
英文别名
O2,O3-Diaethyl-DL-glyceronitril;2,3-Diaethoxy-propionitril;2.3-Di-O-aethyl-DL-glycerinsaeure-nitril;2,3-Diethoxypropanenitrile;2,3-diethoxypropanenitrile
2,3-diethoxy-propionitrile化学式
CAS
98435-77-9
化学式
C7H13NO2
mdl
——
分子量
143.186
InChiKey
UVBGSNJMGKHIQJ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.5
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.86
  • 拓扑面积:
    42.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2,3-diethoxy-propionitrile丙基溴化镁乙醚 作用下, 生成 1,2-diethoxy-hexan-3-one-imine
    参考文献:
    名称:
    Niemann; Benson; Mead, Journal of Organic Chemistry, 1943, vol. 8, p. 401
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    1-chloro-1,2-diethoxy-ethane 、 氰化汞 在 Petroleum ether 作用下, 生成 2,3-diethoxy-propionitrile
    参考文献:
    名称:
    Niemann; Benson; Mead, Journal of Organic Chemistry, 1943, vol. 8, p. 401
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • COMPOSITION COMPRISING CHELATING AGENTS CONTAINING AMIDOXIME COMPOUNDS
    申请人:Lee Wai Mun
    公开号:US20100105595A1
    公开(公告)日:2010-04-29
    The present invention is a novel aqueous cleaning solution for use in semiconductor front end of the line (FEOL) manufacturing process wherein the cleaning solution comprises at least one amidoxime compound.
    本发明是一种用于半导体前端制造过程中的新型水性清洗溶液,其中清洗溶液包含至少一种酰胺肟化合物。
  • COPPER CMP POLISHING PAD CLEANING COMPOSITION COMPRISING OF AMIDOXIME COMPOUNDS
    申请人:Lee Wai Mun
    公开号:US20090137191A1
    公开(公告)日:2009-05-28
    The present invention relates to methods of using amidoxime compositions for cleaning polishing pads, particularly after chemical mechanical planarization or polishing is provided. A polishing pad is cleaned of Cu CMP by-products, subsequent to or during planarizing a wafer, to reduce pad-glazing by applying to the polishing pad surface a composition comprising an aqueous amidoxime compound solution in water.
    本发明涉及使用氨基甲酰肼组合物清洁抛光垫的方法,特别是在化学机械平面化或抛光后提供的方法。在平面化晶片的过程中或之后,通过在抛光垫表面涂布含有水的氨基甲酰肼化合物溶液的组合物,清除铜化学机械抛光副产物,以减少垫面光泽。
  • Niemann; Benson; Mead, Journal of Organic Chemistry, 1943, vol. 8, p. 401
    作者:Niemann、Benson、Mead
    DOI:——
    日期:——
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