2,3-diethoxy-propionitrile | 98435-77-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 2,3-diethoxy-propionitrile
• 英文别名: O²,O³-Diaethyl-DL-glyceronitril；2,3-Diaethoxy-propionitril；2.3-Di-O-aethyl-DL-glycerinsaeure-nitril；2,3-Diethoxypropanenitrile；2,3-diethoxypropanenitrile
• CAS: 98435-77-9
• 化学式: C₇H₁₃NO₂
• 分子量: 143.186
• InChiKey: UVBGSNJMGKHIQJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  42.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,3-diethoxy-propionitrile 、 丙基溴化镁 在 乙醚 作用下， 生成 1,2-diethoxy-hexan-3-one-imine
  参考文献：
  名称：

  Niemann; Benson; Mead, Journal of Organic Chemistry, 1943, vol. 8, p. 401

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1-chloro-1,2-diethoxy-ethane 、 氰化汞 在 Petroleum ether 作用下， 生成 2,3-diethoxy-propionitrile
  参考文献：
  名称：

  Niemann; Benson; Mead, Journal of Organic Chemistry, 1943, vol. 8, p. 401

  摘要：

  DOI：

文献信息

• COMPOSITION COMPRISING CHELATING AGENTS CONTAINING AMIDOXIME COMPOUNDS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100105595A1

  公开（公告）日：2010-04-29

  The present invention is a novel aqueous cleaning solution for use in semiconductor front end of the line (FEOL) manufacturing process wherein the cleaning solution comprises at least one amidoxime compound.

  本发明是一种用于半导体前端制造过程中的新型水性清洗溶液，其中清洗溶液包含至少一种酰胺肟化合物。
• COPPER CMP POLISHING PAD CLEANING COMPOSITION COMPRISING OF AMIDOXIME COMPOUNDS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090137191A1

  公开（公告）日：2009-05-28

  The present invention relates to methods of using amidoxime compositions for cleaning polishing pads, particularly after chemical mechanical planarization or polishing is provided. A polishing pad is cleaned of Cu CMP by-products, subsequent to or during planarizing a wafer, to reduce pad-glazing by applying to the polishing pad surface a composition comprising an aqueous amidoxime compound solution in water.

  本发明涉及使用氨基甲酰肼组合物清洁抛光垫的方法，特别是在化学机械平面化或抛光后提供的方法。在平面化晶片的过程中或之后，通过在抛光垫表面涂布含有水的氨基甲酰肼化合物溶液的组合物，清除铜化学机械抛光副产物，以减少垫面光泽。