摘要:
一种光活性化合物与光敏剂结合使用,由以下公式(1)表示:
A
−[(
J
)
m
−(
X-Pro
)]
n
(1)
其中,A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元,J代表连接基团,X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团,m代表0或1,n代表不少于1的整数。
保护基团Pro可以与光敏剂(特别是光酸发生剂)一起通过光照可去除,也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性,用于光刻应用,因此,该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。