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1-(2-Oxobutyl)thiolan-1-ium | 301153-76-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-(2-Oxobutyl)thiolan-1-ium
英文别名
1-(thiolan-1-ium-1-yl)butan-2-one
1-(2-Oxobutyl)thiolan-1-ium化学式
CAS
301153-76-4
化学式
C8H15OS+
mdl
——
分子量
159.27
InChiKey
HBXCFTARERXWEP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.6
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.88
  • 拓扑面积:
    18.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

文献信息

  • Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
    申请人:Harada Yukako
    公开号:US20070078269A1
    公开(公告)日:2007-04-05
    The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring Y represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, in which one —CH 2 — group is substituted with —COO— group, and at least one hydrogen atom in the monocyclic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A + represents organic counter ion; and n shows an integer of 0 to 12. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).
    本发明提供了一种具有公式(I)的盐: 其中环Y代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团,其中一个—CH2—基团被—COO—基团取代,并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6个碳原子的烷基取代,具有1至6个碳原子的烷氧基,具有1至4个碳原子的全氟烷基,具有1至6个碳原子的羟基烷基,羟基或腈基;Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基;A+代表有机反离子;n表示0至12的整数。 本发明还提供了一种含有公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
  • SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
    申请人:ICHIKAWA Koji
    公开号:US20100304293A1
    公开(公告)日:2010-12-02
    A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.
    由公式(a)表示的盐:其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等,X1代表单键等,X2代表单键等,Y1代表C3-C6的脂环烃基等,但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子,以及Z+代表有机反离子,以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
  • SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
    申请人:YOSHIDA Isao
    公开号:US20110201823A1
    公开(公告)日:2011-08-18
    A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.
    根据您提供的化学公式(I0),其翻译成中文为: 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团,L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团,在该基团中,一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换,m代表1或2,而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
  • Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
    申请人:——
    公开号:US20030224298A1
    公开(公告)日:2003-12-04
    Sulfonyldiazomethane compounds containing a long-chain alkylcyclohexyl group are novel and useful as photoacid generators. Chemical amplification type resist compositions comprising the same are suited for microfabrication because of many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development.
    含有长链烷基环己基基团的磺酰基重氮甲烷化合物是一种新颖且有用的光酸发生剂。包含这些化合物的化学增强型抗蚀组合物适用于微细加工,因为具有许多优点,包括提高分辨率、改善焦点宽度、最小化线宽变化或形状退化,即使在长期PED后也是如此,最小化涂层、显影和剥离后残留的碎屑,并在显影后改善图案轮廓。
  • Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same
    申请人:Shigematsu Junji
    公开号:US20080086014A1
    公开(公告)日:2008-04-10
    The present invention provides a salt represented by the formula (I): wherein X represents a C3-C30 divalent group containing at least one divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 divalent group may be substituted with —O— or —CO—, Y represents a C3-C30 cyclic hydrocarbon group which may be substituted with at least one group selected from a C1-C6 alkoxy group, a C1-C4 perfluoroalkyl group, a C1-C6 hydroxyalkyl group, a hydroxyl group and a cyano group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 cyclic hydrocarbon group may be substituted with —O— or —CO—, Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, and A + represents an organic counter ion.
    本发明提供了一种由公式(I)表示的盐:其中X代表含至少一个二价脂环烃基的C3-C30二价基团,并且C3-C30二价基团中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代,Y代表一个C3-C30环烃基,该环烃基可以至少被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟基烷基、羟基和氰基的至少一个取代基取代,并且C3-C30环烃基中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代,Q1和Q2各自独立地代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基,以及A+代表一个有机反离子。
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