N~1~,N~1~,N~3~,N~3~-Tetrapropylpropane-1,3-diamine | 135133-82-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: N~1~,N~1~,N~3~,N~3~-Tetrapropylpropane-1,3-diamine
• 英文别名: N,N,N',N'-tetrapropylpropane-1,3-diamine
• CAS: 135133-82-3
• 化学式: C₁₅H₃₄N₂
• 分子量: 242.44
• InChiKey: FQELQRCSRAWQAB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  6.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• Methods and compositions for the detection of biological molecules using a two particle complex
  申请人：Bard J. Allen

  公开号：US20060078912A1

  公开（公告）日：2006-04-13

  The invention provides methods of detecting analytes of interest in a sample using electrogenerated chemiluminescence. The invention also provides compositions comprising at least one solid support that entraps or contains an electrogenerated chemiluminescent moiety.

  本发明提供了使用电化学发光检测样品中感兴趣的分析物的方法。本发明还提供了包含至少一种固体支持物的组合物，该固体支持物包含或限制电化学发光基团。
• Perfluoro-N,N,N',N'-tetrapropyldiaminopropane and use thereof in vapor phase heating
  申请人：MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY

  公开号：EP0424171A2

  公开（公告）日：1991-04-24

  N,N,N′,N′-tetrapropyldiaminopropane is fluorinated to produce a liquid predominantly perfluoro-N,N,N′,N′-tetrapropyldiaminopropane, having inert properties and a boiling point in the range of 212°C to 216°C. The inert liquid product is useful as a heat transfer liquid.

  将 N,N,N′,N′-四丙基二氨基丙烷进行氟化处理，生成一种主要为全氟-N,N,N′,N′-四丙基二氨基丙烷的液体，该液体具有惰性，沸点在 212°C 至 216°C 之间。这种惰性液体产品可用作传热液体。
• Verfahren zur Herstellung von ungesättigten Aminen
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0590419A1

  公开（公告）日：1994-04-06

  Verfahren zur Herstellung von ungesättigten Aminen der allgemeinen Formel I in der R¹,R²,R³,R⁴,R⁵Wasserstoff, C₁- bis C₂₀-Alkyl, C₂- bis C₂₀-Alkenyl, C₃- bis C₈-Cycloalkyl, C₃- bis C₈-Cycloalkenyl, Phenyl, C₇- bis C₂₀-Phenylalkyl, C₁- bis C₂₀- Alkoxy, Phenoxy, C₇- bis C₂₀-Phenoxyalkyl, C₁- bis C₂₀-Alkylamino, Phenylamino, C₇- bis C₂₀-Phenylalkylamino, Pyridyl, Imidazolyl oder R¹ und R² oder R¹ und R³ oder R² und R³ gemeinsam für ein gegebenenfalls ein- bis fünffach durch C₁- bis C₄-Alkyl oder gegebenenfalls ein- bis vierfach durch Amino, N-C₁- bis C₈-Alkylamino, N,N-C₁- bis C₈-Dialkylamino, Hydroxy, O-C₁- bis C₈-Alkylamino und/oder C₁- bis C₈-Alkoxycarbonyl substituiertes C₂- bis C₈-Alkylen und X=C-N(R⁴R⁵) oder -C=N-R⁴, durch Umsetzung von 2-Alkenalen der allgemeinen Formel II in der R¹, R² und R³ die oben genannten Bedeutungen haben, mit primären und sekundären Aminen der allgemeinen Formel III in der R⁴ und R⁵ die oben genannten Bedeutungen haben, bei Temperaturen von (-20) bis 70°C und Drücken von 0,01 bis 100 bar, indem man die Umsetzung ohne Abtrennung des Reaktionswassers durchführt sowie deren Umaminierung und Hydrierungen der ungesättigten Amine neue 1,3-Diamine der allgemeinen Formel IV in der R¹,R²,R³,R⁴,R⁵,R⁶,R⁷ Wasserstoff, C₁- bis C₂₀-Alkyl, C₂- bis C₂₀-Alkenyl, C₃- bis C₈-Cycloalkyl, C₃- bis C₈-Cycloalkenyl, Phenyl, C₇- bis C₂₀-Phenylalkyl, C₁- bis C₂₀- Alkoxy, Phenoxy, C₇- bis C₂₀-Phenoxyalkyl, C₁- bis C₂₀-Alkylamino, Phenylamino, C₇- bis C₂₀-Phenylalkylamino, Pyridyl, Imidazolyl oder R¹ und R² oder R¹ und R³ oder R² und R³ gemeinsam für ein gegebenenfalls ein- bis fünffach durch C₁- bis C₄-Alkyl oder gegebenenfalls ein- bis vierfach durch Amino, N-C₁- bis C₈-Alkylamino, N,N-C₁- bis C₈-Dialkylamino, Hydroxy, O-C₁- bis C₈-Alkylamino und/oder C₁- bis C₈-Alkoxycarbonyl substituiertes C₂- bis C₈-Alkylen bedeuten, mit der Maßgabe, daß R¹ und R² nicht für Wasserstoff stehen, wenn R³ Methyl und R⁴ und R⁵, R⁶ und R⁷ jeweils Wasserstoff oder Methyl, R⁴ und R⁶ Wasserstoff und R⁵ und R⁷ Ethyl sowie R⁴ und R⁵, R⁶ und R⁷ jeweils zusammen (CH₂)₅ oder (CH₂)₂-O-(CH₂)₂ bedeuten.

  通式 I 不饱和胺的制备工艺 在 R¹,R²,R³,R⁴,R⁵氢、C₁- 至 C₂₀- 烷基、C₂- 至 C₂₀- 烷烯基、C₃- 至 C₈ 环烷基、C₃- 至 C₈ 环烯基、苯基、C₇- 至 C₂₀- 苯基烷基、C₁- to C₂₀-alkoxy, phenoxy, C₇- to C₂₀-phenoxyalkyl, C₁- to C₂₀-alkylamino, phenylamino, C₇- to C₂₀-phenylalkylamino, pyridyl、咪唑基或 R¹ 和 R² 或 R¹ 和 R³ 或 R² 和 R³ 合在一起，任选为 1 至 5 倍的 C₁ 至 C₄ 烷基或任选为 1 至 4 倍的氨基、N-C₁-至 C₈-烷基氨基、N,N-C₁-至 C₈-二烷基氨基、羟基、O-C₁-至 C₈-烷基氨基和/或 C₁-至 C₈-烷氧羰基取代的 C₂-至 C₈-亚烷基，以及 X=C-N(R⁴R⁵)或-C=N-R⁴、 通过通式 II 的 2-烯烃的反应 其中 R¹、R² 和 R³ 具有上述含义）与通式 III 的伯胺和仲胺的反应 其中 R⁴ 和 R⁵ 具有上述含义，在温度为 (-20) 至 70°C 和压力为 0.01 至 100 巴的条件下，在不分离反应水的情况下进行反应，然后将不饱和胺复胺和氢化，得到通式 IV 的新的 1,3-二胺 中的 r¹,r²,r³,r⁴,r⁵,r⁶,r⁷ 氢、C₁- 至 C₂₀- 烷基、C₂- 至 C₂₀- 烯基、C₃- 至 C₈ 环烷基、C₃- 至 C₈ 环烯基、苯基、C₇- 至 C₂₀- 苯基烷基、C₁- to C₂₀-alkoxy, phenoxy, C₇- to C₂₀-phenoxyalkyl, C₁- to C₂₀-alkylamino, phenylamino, C₇- to C₂₀-phenylalkylamino, pyridyl、咪唑基或 R¹ 和 R² 或 R¹ 和 R³ 或 R² 和 R³ 合在一起，任选为 1 至 5 倍的 C₁ 至 C₄ 烷基或任选为 1 至 4 倍的氨基、N-C₁-至C₈-烷基氨基、N,N-C₁-至C₈-二烷基氨基、羟基、O-C₁-至C₈-烷基氨基和/或C₁-至C₈-烷氧羰基取代的C₂-至C₈-亚烷基。 但当 R³ 为甲基时，R¹ 和 R² 不为氢，且 R⁴ 和 R⁵、R⁶ 和 R⁷ 各为氢或甲基、R⁴和R⁶是氢，R⁵和R⁷是乙基，且R⁴和R⁵、R⁶和R⁷合起来是(CH₂)₅或(CH₂)₂-O-(CH₂)₂。
• Composition for resist patterning and method for forming pattern using same
  申请人：AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.a.r.l.

  公开号：US10191380B2

  公开（公告）日：2019-01-29

  [Problem] To provide a composition capable of improving surface roughness of resist patterns, and also to provide a pattern formation method employing the composition. [Solution] The present invention provides a composition containing a particular nitrogen-containing compound, an anionic surfactant having a sulfo group, and water; and also provides a pattern formation method containing a step of applying the composition to a resist pattern beforehand developed and dried.

  问题 提供一种能够改善抗蚀剂图案表面粗糙度的组合物，并提供一种使用该组合物的图案形成方法。 [解决方案］ 本发明提供了一种含有特定含氮化合物、具有磺基的阴离子表面活性剂和水的组合物；还提供了一种图案形成方法，其中包含将该组合物用于事先显影和干燥的光刻胶图案的步骤。
• Composition for coating resist pattern
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10558119B2

  公开（公告）日：2020-02-11

  The invention provides a composition for coating a resist pattern and reversing the pattern by utilizing a difference in etching rates. A composition for applying to a resist pattern includes a component (A) which is at least one compound selected from the group consisting of a metal oxide (a1), a polyacid (a2), a polyacid salt (a3), a hydrolyzable silane (a4), a hydrolysis product (a5) of the hydrolyzable silane, and a hydrolysis condensate (a6) of the hydrolyzable silane; and a component (B), which is an aqueous solvent, in which the hydrolyzable silane (a4) is (i) a hydrolyzable silane containing an organic group having an amino group, (ii) a hydrolyzable silane containing an organic group having an ionic functional group, (iii) a hydrolyzable silane containing an organic group having hydroxy group, or (iv) a hydrolyzable silane containing an organic group having a functional group convertible to hydroxy group.

  本发明提供了一种用于涂覆抗蚀剂图案并利用蚀刻率差异反转图案的组合物。一种用于涂覆抗蚀剂图案的组合物包括一种组分（A），它是至少一种选自由金属氧化物（a1）、多酸（a2）、多酸盐（a3）、可水解硅烷（a4）、可水解硅烷的水解产物（a5）和可水解硅烷的水解缩合物（a6）组成的组的化合物；和组分 (B)，它是一种水性溶剂，其中可水解硅烷 (a4) 是 (i) 含有氨基的有机基团的可水解硅烷，(ii) 含有离子官能团的有机基团的可水解硅烷，(iii) 含有羟基的有机基团的可水解硅烷，或 (iv) 含有可转换为羟基的官能团的有机基团的可水解硅烷。