α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯 | 110726-28-8

• 物质功能分类: 生物 - 细胞培养 - 添加剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 中文名称: α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯
• 中文别名: Α,Α,Α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯；A,A,A'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯；Alpha,Alpha,Alpha’-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯；三酚PA;；4-[4-[1,1-双(4-羟苯基)乙基]]-α,α-二甲基苄基苯酚；三酚A；三酚PA；TPPA
• 英文名称: 1-[α-methyl-α-(4'-hydroxyphenyl)ethyl]-4-[α',α'-bis(4"-hydroxyphenyl)ethyl]benzene
• 英文别名: α,α,α'-tris(4-hydroxyphenyl)-1-ethyl-4-isopropylbenzene；Phenol, 4,4'-[1-[4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-methylethyl]phenyl]ethylidene]bis-；4-[2-[4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenyl]propan-2-yl]phenol
• CAS: 110726-28-8
• 化学式: C₂₉H₂₈O₃
• 分子量: 424.54
• InChiKey: WXYSZTISEJBRHW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  225°C
• 沸点：
  623.1±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.186±0.06 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  溶于甲醇
• 物理描述：
  Liquid

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.9
• 重原子数：
  32
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.17
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 安全说明：
  S26,S36/37/39
• 危险类别码：
  R36/37/38
• 海关编码：
  2907299090
• 危险性防范说明：
  P280,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H317,H319

SDS

α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯

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模块 1. 化学品
产品名称： α,α,α'-Tris(4-hydroxyphenyl)-1-ethyl-4-isopropylbenzene

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯
百分比： >98.0%(GC)
CAS编码： 110726-28-8
俗名： 4-[4-[1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]]-α,α-dimethylbenzylphenol
α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯

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模块 3. 成分/组成信息
分子式： C29H28O3

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
外观： 晶体-粉末
颜色： 白色类白色
α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯

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模块 9. 理化特性
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点： 225°C
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂]
溶于： 甲醇

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯

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模块 14. 运输信息
UN编号： 未列明

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯 生成 4-[2-[4-[1,1-Bis(4-hydroxycyclohexyl)ethyl]phenyl]propan-2-yl]cyclohexan-1-ol
  参考文献：
  名称：

  IMAMURA, TEHTSUO;SIGEHSIRO, JDZO

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4-肉桂苯酚 在 盐酸 、 aluminum (III) chloride 、 十二硫醇 作用下， 以 氯仿 、 甲苯 为溶剂， 反应 29.5h， 生成 α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯
  参考文献：
  名称：

  METHOD FOR PRODUCING TRISPHENOLS AND MONOESTER-SUBSTITUTED PRODUCTS THEREOF, AND 4-ACYLARALKYLPHENOL DERIVATIVES

  摘要：

  通式（1）的三苯酚，作为聚合物的起始材料很有用，可以通过使用通式（2）表示的4-芳基基酚衍生物作为起始材料的方法在工业上容易地生产出来： 其中X表示氢原子或可以用氢原子替换的离去基。

  公开号：

  US20120108853A1
• 作为试剂：
  描述：

  o-naphthoquinone diazide-5-sulfonylchloride 在 α,α,α'-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯 、 三乙胺 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 naphthoquinone diazide sulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  Azo dye, colored curable composition, color filter and producing method therefor

  摘要：

  公开号：

  EP1564259B1

文献信息

• PHOTOACID GENERATOR, AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
  申请人：SAN-APRO LTD.

  公开号：US20160368879A1

  公开（公告）日：2016-12-22

  Provided is a non-ionic photoacid generator (A) expressed by general formula (1). R1 and R2 each independently represents an alkyl group having 1-18 carbons or a fluoroalkyl group having 1-18 carbons, an alkenyl group having 2-18 carbons, an alkynyl group having 2-18 carbons, an aryl group having 6-18 carbons, a silyl group, or the like; m and n respectively represent the number of R1s and R2s, each number being an integer from 0 to 3, and the total number (m+n) of R1s and R2s being an integer from 1 to 6. The m number of R1s and the n number of R2s may each be the same or different. R3 represents a hydrocarbon having 1-18 carbons wherein one part or all of the hydrogen may be substituted by fluorine.

  提供的非离子光酸发生剂（A）由通式（1）表示。R1和R2分别独立表示具有1-18个碳原子的烷基基团或具有1-18个碳原子的氟烷基基团，具有2-18个碳原子的烯基基团，具有2-18个碳原子的炔基基团，具有6-18个碳原子的芳基基团，硅基团等；m和n分别表示R1和R2的数量，每个数字为0到3的整数，R1和R2的总数（m+n）为1到6的整数。R1的数量m和R2的数量n可以相同也可以不同。R3表示具有1-18个碳原子的碳氢化合物，其中氢的一部分或全部可以被氟取代。
• Photosensitive compound, photosensitive composition including the same, method of manufacturing the same
  申请人：Korea Kumho Petrochemical Co., Ltd.

  公开号：EP2289874A1

  公开（公告）日：2011-03-02

  Disclosed are a photosensitive compound and a method of manufacturing the same. The photosensitive is composed of a naphthoquinonediazide sulfonic ester compound having at least one naphthoquinonediazide sulfoxy group, and having either at least one carboxy group with 1 to 8 carbon atoms or at least one alkoxy group with 1 to 8 carbon atoms, in one molecule.

  揭示了一种光敏化合物及其制造方法。该光敏化合物由至少含有一个萘醌二氮化苯并磺酸酯基团的化合物组成，该化合物在一个分子中具有至少一个含有1至8个碳原子的羧基或至少一个含有1至8个碳原子的烷氧基。
• Photosensitive Compound and Photosensitive Composition Including the Same
  申请人：Park Joo Hyeon

  公开号：US20110053084A1

  公开（公告）日：2011-03-03

  Disclosed are a photosensitive compound and a method of manufacturing the same. The photosensitive is composed of a naphthoquinonediazide sulfonic ester compound having at least one naphthoquinonediazide sulfoxy group, and having either at least one carboxy group with 1 to 8 carbon atoms or at least one alkoxy group with 1 to 8 carbon atoms, in one molecule.

  揭示了一种感光化合物及其制造方法。该感光化合物由至少含有一个萘醌二氮化硫酸酯基团的萘醌二氮化硫酸酯化合物组成，并且在一个分子中具有至少一个含有1至8个碳原子的羧基或至少一个含有1至8个碳原子的烷氧基。
• [EN] SULFONIUM SULFATES, THEIR PREPARATION AND USE<br/>[FR] SULFATES DE SULFONIUM, LEUR PRÉPARATION ET UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2012113829A1

  公开（公告）日：2012-08-30

  The present invention relates to a heat-curable composition comprising (a) at least one compound which is capable of undergoing cationic polymerization; and (b) at least one sulfonium sulfate selected from compounds of the formulae Ia and Ib where Yn- is a monovalent or divalent anion selected from (1) where n, M, R1 to R10 are as defined in claim 1 and in the description. The present invention also relates to novel sulfonium sulfates of the formulae Ia and Ib, to a process for curing cationically polymerizable material and to the cured material obtained by said process.

  本发明涉及一种热固化组合物，包括（a）至少一种能够进行阳离子聚合的化合物；和（b）选择自式Ia和Ib的至少一种砜酸盐，其中Yn-是从（1）中选择的一价或二价阴离子，其中n、M、R1至R10如权利要求1和描述中所定义。本发明还涉及式Ia和Ib的新型砜酸盐，以及用于固化阳离子聚合材料的工艺和通过该工艺获得的固化材料。
• NOVOLAC RESIN AND RESIST FILM
  申请人：DIC Corporation

  公开号：US20180334523A1

  公开（公告）日：2018-11-22

  Provided are a novolac resin having developability, heat resistance, and dry etching resistance, and a photosensitive composition, a curable composition, and a resist film. A novolac resin including, as a repeating unit, a structural moiety represented by Structural Formula (1) or (2): (in the formula, Ar represents an arylene group, R 1 's each independently represent any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom, m's each independently represent an integer of 1 to 3, and X is any one of a hydrogen atom, a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group) in which at least one of X's present in the resin is any one of a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group.

  提供一种具有可开发性、耐热性和干法蚀刻抗性的新戊醛树脂，以及一种光敏组合物、可固化组合物和抗蚀膜。一种新戊醛树脂包括以下结构单元： （在公式中，Ar代表芳基，R 1 分别独立地代表氢原子、烷基、烷氧基和卤素原子中的任意一种，m分别独立地代表1至3的整数，X代表氢原子、三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种），树脂中至少有一个X是三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种。

表征谱图