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三甲基(三氟甲基)锗烷 | 21907-59-5

中文名称
三甲基(三氟甲基)锗烷
中文别名
——
英文名称
Trifluormethyl-trimethylgermanium
英文别名
Trimethyl-trifluormethyl-german;Trimethyl(trifluoromethyl)germane
三甲基(三氟甲基)锗烷化学式
CAS
21907-59-5
化学式
C4H9F3Ge
mdl
——
分子量
186.701
InChiKey
XNYLQWHKHCQTOH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.43
  • 重原子数:
    8
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

安全信息

  • 海关编码:
    2931900090

SDS

SDS:d080d608e822ae950ea02b734c22970c
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反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    三氟溴甲烷三甲基氯化锗乙二醇二甲醚 为溶剂, 以90%的产率得到三甲基(三氟甲基)锗烷
    参考文献:
    名称:
    三氟甲基化试剂和三氟甲基取代化合物的电化学和化学合成
    摘要:
    已在高压不锈钢高压釜中在不同阴极 [Pt、钢 (V2A、V4A)、玻璃碳 (GC)] 和各种支持溶剂的电解质系统 (SSE) 中研究了卤氟甲烷 CF3Br、CF2Br2 和 CF2BrCl 的电还原,例如 DMF/[Bu4N]Br、NMP/[Bu4N]BF4 等。CF3Br 的还原电位从 Pt (–1.6 V) C–Cl > C–Br) 和“全氟效应”增加。我们的实验装置重新研究了在具有牺牲锌或镉阳极的不同 SSE 系统中对 CF3Br 的电解,以阐明实验条件对产物类型和比例的影响。观察到的产物 CF3MBr·42L 和 (CF3)2M·42L (M = Zn, Cd; L = DMF 或 AN) 与之前的研究相同,但以不同的比例获得,通常由相应阳极的平行化学腐蚀引起。通过使用铝作为牺牲阳极,不会形成 CF3Al 化合物。CF3Br 电还原生成的 CF3 物种通过夺氢和形成 CF3H 与溶剂反应。相对于铝阳极溶解的电流产率达到
    DOI:
    10.1002/zaac.200800206
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文献信息

  • Synthesis and properties of trifluoromethylated stannanes. The formation and NMR spectra of the difluoromethylstannanes (CF3)n(CF2H)mSn(CH3)4-n-m
    作者:R. Eujen、N. Jahn、U. Thurmann
    DOI:10.1016/0022-328x(94)87049-7
    日期:1994.2
    Sn(CF2H)4. For M  Sn, further methyl/trifluoromethyl exchanges lead to a variety of methyl-containing species, (CF3)2(CF2H)mSnMe 4n-m. For M  Ge, insertion of CF2 into the GeH bond is not observed; the lower reactivity of GeMC3H towards CF 2 is demonstrated independently by its reaction with such CF2 sources as CF3SiF3 and CF2Br2/C2(NMe2)4; trimethylgermyltin derivatives, (CF3)n(CF2H)mSnGeM3, are formed
    二氟甲基锡烷是通过将(CF 3)4 Sn与氢化物(CH 3)3 MH(MSn,Ge)氢化而获得的。已表明反应是通过氢化物对锡原子的攻击而进行的;氟化物从CF 3基团到MMe 3基团的转移以及CF 2的消除产生不稳定的(CF 3)3 SnH。二氟卡宾定量插入SnH键,从而形成两个我3 SNCF 2 H和(CF 3)3 SNCF 2 H.后者是受CF的进一步正式替换3由CF 2 H基团,最后得到的Sn(CF 2 2H)4。对于MSn,进一步的甲基/三氟甲基交换导致各种含甲基的物种,(CF 3)2(CF 2 H)m SnMe 4 n - m。对于MGe,未观察到CF 2插入GeH键中。GeMC 3 H对CF 2的反应性较低,是通过与诸如CF 3 SiF 3和CF 2 Br 2 / C这样的CF 2源的反应而独立证明的。2(NMe 2)4 ; 随着CF 2 H 2的生成,形成了三甲基锗烷基衍生物(CF
  • (Trifluoromethyl)germanes. Preparation and properties of (CF3)2GeHX (X = H, D, F, Cl, Br, I, CH3) and CF3GeHnX3-n (X = H, D, CF2H, CH3)
    作者:R. Eujen、R. Mellies、E. Petrauskas
    DOI:10.1016/0022-328x(86)84031-1
    日期:1986.1
    observed, and (CF3)(CF2H)GeH2 has been characterized. Direct alkylation of GeH bonds was brought about by reaction with a mixture of RI and R′2Zn (R, R′= CH3, C2H5), and the methyl(trif]uoromethyl)germanes CF3GeH2(CH3), CF3GeH(CH3)2 and (CF3)2GeH(CH3) were isolated. For R = CD3, R′ = CH3 the product distribution can be accounted in terms of two competing mechanisms.
    研究了在酸性介质中用NaBH 4氢化(CF 3)n GeX 4- n(X =卤素,n = 1-3)。用NaBD 4和D 3 PO 4氘化得到部分氘化的物种CF 3 GeH n D 3- n和(CF 3)2 GeH n D 2- n具有合理的同位素纯度。分离出(CF 3)2 GeHBr并将其转化为卤化物(CF 3)2用AgX或HX处理GeHX(X = F,Cl,I)。已经观察到CF 2插入GeH键中,并且已经表征了(CF 3)(CF 2 H)GeH 2。的GeH键直接烷基化反应所带来的反应以和RI的混合物,R' 2的Zn(R,R'= CH 3,C 2 H ^ 5)和甲基(三氟] uoromethyl)锗CF 3的GeH 2分离出(CH 3),CF 3 GeH(CH 3)2和(CF 3)2 GeH(CH 3)。对于R = CD 3,R'= CH 3,可以用两种竞争机制来解释产品分布。
  • EUJEN, R.;MELLIES, R.;PETRAUSKAS, E., J. ORGANOMET. CHEM., 1986, 299, N 1, 29-40
    作者:EUJEN, R.、MELLIES, R.、PETRAUSKAS, E.
    DOI:——
    日期:——
  • Electrochemical and Chemical Syntheses of Trifluoromethylating Reagents and Trifluoromethyl Substituted Compounds
    作者:Joseph Grobe、Joachim Hegge
    DOI:10.1002/zaac.200800206
    日期:2008.9
    dissolution of the Al anode reaches 120 % indicating a considerable chemical corrosion in addition to the anodic oxidation. This result enabled a one-pot trifluoromethylation reaction of NMP as organic carbonyl substrate and solvent with CF3Br and aluminium powder (ratio 3 : 2) at higher temperatures (> 70 °C). The complete reaction of CF3Br to give CF3H and 1-methyl-2-trifluoromethyl-4,5-dihydropyrrol
    已在高压不锈钢高压釜中在不同阴极 [Pt、钢 (V2A、V4A)、玻璃碳 (GC)] 和各种支持溶剂的电解质系统 (SSE) 中研究了卤氟甲烷 CF3Br、CF2Br2 和 CF2BrCl 的电还原,例如 DMF/[Bu4N]Br、NMP/[Bu4N]BF4 等。CF3Br 的还原电位从 Pt (–1.6 V) C–Cl > C–Br) 和“全氟效应”增加。我们的实验装置重新研究了在具有牺牲锌或镉阳极的不同 SSE 系统中对 CF3Br 的电解,以阐明实验条件对产物类型和比例的影响。观察到的产物 CF3MBr·42L 和 (CF3)2M·42L (M = Zn, Cd; L = DMF 或 AN) 与之前的研究相同,但以不同的比例获得,通常由相应阳极的平行化学腐蚀引起。通过使用铝作为牺牲阳极,不会形成 CF3Al 化合物。CF3Br 电还原生成的 CF3 物种通过夺氢和形成 CF3H 与溶剂反应。相对于铝阳极溶解的电流产率达到
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