of XRD analysis. Crack-free films with an average grain size of about 28 nm were obtained for both Ce0.92Sm0.08O2–δ and Ce0.8Sm0.2O2–δ films. Sm doping strongly affects the crystallite size, crystal structure, texture, and crack formation in ceria films. The lattice parameter a increases and crystallite size is reduced with increased Sm doping. All electrodeposited films are highly biaxially textured
钐掺杂的
氧化铈 (
CeO2:Sm) 和未掺杂的
氧化铈 ( ) 薄膜是通过电沉积在双轴织构的 Ni–3% W 衬底上制备的。电沉积层在 910 至 980 °C 的温度范围内退火数小时。通过XRD和
SEM研究所得结晶膜。使用 XRD 分析的 Scherrer 方程, 微晶尺寸与 和 :Sm 中微裂纹的形成相关。对于 Ce0.92Sm0.08O2-δ 和 Ce0.8Sm0.2O2-δ 薄膜,均获得了平均晶粒尺寸约为 28 nm 的无裂纹薄膜。Sm 掺杂强烈影响
二氧化铈薄膜中的微晶尺寸、晶体结构、织构和裂纹形成。随着 Sm 掺杂的增加,晶格参数 a 增加并且微晶尺寸减小。所有电沉积薄膜都是高度双轴织构的。与
镍基衬底相比,
二氧化铈和
钐掺杂
二氧化铈薄膜的面外和面内织构得到了改善。(© 2006 WILEY-
VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim)