乙炔基三氟硅烷 | 51220-39-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳化物
• 中文名称: 乙炔基三氟硅烷
• 英文名称: Ethinyltrifluorsilan
• 英文别名: ethynyltrifluorosilane；Ethinyltrifluorosilane；ethynyl(trifluoro)silane
• CAS: 51220-39-4
• 化学式: C₂HF₃Si
• 分子量: 110.111
• InChiKey: JDWNFSGEDNRLQD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  -14.5±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.130±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.01
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  trichlorosilylacetylene 在 三氟化锑 作用下， 以 正庚烷 为溶剂， 生成 乙炔基三氟硅烷
  参考文献：
  名称：

  Diels--Alder reaction of .alpha.,.beta.-unsaturated trihalosilanes with cyclopentadiene

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00806a015

文献信息

• Gas-phase oxidation of vinyltrifluorosilane with nitrogen dioxide under the action of a pulse CO2 laser
  作者：P. S. Dement’ev、P. V. Koshlyakov、E. N. Chesnokov

  DOI：10.1134/s0023158410050022

  日期：2010.10

  A chemical reaction between C2H3SiF3 and NO2 induced by radiation from a pulse CO2 laser was studied by mass spectrometry and IR spectroscopy. The composition of gaseous products was determined. A macrokinetic approach was developed to study bimolecular reactions initiated by pulsed IR radiation. The procedure developed allowed us to answer the question of whether the test reaction occurs under conditions

  通过质谱和红外光谱研究了脉冲CO 2激光辐射引起的C 2 H 3 SiF 3和NO 2之间的化学反应。确定了气态产物的组成。开发了一种宏观动力学方法来研究由脉冲红外辐射引发的双分子反应。开发的程序使我们能够回答测试反应是在仅一种反应物的分子被振动激发的条件下还是在相等振动温度的条件下发生的问题。这种方法在C 2 H 3 SiF 3和NO 2之间反应的应用 证明了它的加速是由于系统的平衡加热。