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二乙基乙二胺盐酸盐 | 52198-62-6

中文名称
二乙基乙二胺盐酸盐
中文别名
——
英文名称
N1,N1-Diethylethane-1,2-diamine dihydrochloride
英文别名
N',N'-diethylethane-1,2-diamine;dihydrochloride
二乙基乙二胺盐酸盐化学式
CAS
52198-62-6
化学式
C6H18Cl2N2
mdl
——
分子量
189.12
InChiKey
PWLGUYGCKDLZNE-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.13
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    29.3
  • 氢给体数:
    3
  • 氢受体数:
    2

文献信息

  • COMPOSITIONS AND METHODS OF TARGETING MUTANT K-RAS
    申请人:Nantbio, Inc.
    公开号:US20180201610A1
    公开(公告)日:2018-07-19
    Compounds and compositions are presented that inhibit K-Ras, and especially mutant K-Ras. Certain compounds preferentially or even selectively inhibit specific forms of mutant K-Ras, and particularly the G12D mutant form.
    提供了抑制K-Ras的化合物和组合物,特别是突变型K-Ras。某些化合物优先甚至选择性地抑制特定形式的突变型K-Ras,特别是G12D突变形式。
  • [EN] GROUP 11 MONO-METALLIC PRECURSOR COMPOUNDS AND USE THEREOF IN METAL DEPOSITION<br/>[FR] COMPOSÉS PRÉCURSEURS MONOMÉTALLIQUES DU GROUPE 11 ET UTILISATION DE CEUX-CI DANS LE DÉPÔT DE MÉTAL
    申请人:GREENCT CANADA
    公开号:WO2012155264A1
    公开(公告)日:2012-11-22
    The present application provides precursor compounds useful for deposition of a group 11 metal on a substrate, for example, a microelectronic device substrate, as well as methods of synthesizing such precursor compounds. The precursor compounds provided are mono-metallic compounds comprising a diaminocarbene (DAC) having the general formula: DAC - M - X. Where the diaminocarbene is an optionally substituted, saturated N-heterocyclic diaminocarbene (sNHC) or an optionally substituted acyclic diaminocarbene, M is a group 11 metal, such as copper, silver or gold; and X is an anionic ligand. Also provided are methods of synthesizing the precursor compounds, metal deposition methods utilizing such precursor compounds, and to composite materials, such as, e.g., microelectronic device structures, and products formed by use of such precursors and deposition methods.
    本申请提供了用于在基底上沉积11族金属的前体化合物,例如微电子器件基底,以及合成这种前体化合物的方法。所提供的前体化合物是包含有一种具有一般式的二氨基卡宾(DAC)的单金属化合物:DAC - M - X。其中,二氨基卡宾是一种可选择取代的饱和N-杂环二氨基卡宾(sNHC)或可选择取代的非环二氨基卡宾,M是11族金属,如铜、银或金;X是一种阴离子配体。还提供了合成前体化合物的方法,利用这种前体化合物的金属沉积方法,以及复合材料,例如微电子器件结构,以及通过使用这种前体和沉积方法形成的产品。
  • Compositions and methods of targeting mutant K-ras
    申请人:NANTBIO, INC.
    公开号:US10344026B2
    公开(公告)日:2019-07-09
    Compounds and compositions are presented that inhibit K-Ras, and especially mutant K-Ras. Certain compounds preferentially or even selectively inhibit specific forms of mutant K-Ras, and particularly the G12D mutant form.
    本文介绍了抑制 K-Ras,特别是突变型 K-Ras 的化合物和组合物。某些化合物优先或甚至选择性地抑制特定形式的突变 K-Ras,特别是 G12D 突变形式。
  • GROUP 11 MONO-METALLIC PRECURSOR COMPOUNDS AND USE THEREOF IN METAL DEPOSITION
    申请人:Greencentre Canada
    公开号:EP2707375A1
    公开(公告)日:2014-03-19
  • US3984390A
    申请人:——
    公开号:US3984390A
    公开(公告)日:1976-10-05
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