hexacarbonylchromium

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: hexacarbonylchromium
• 英文别名: carbon monoxide;cobalt
• 化学式: C₆CoO₆
• 分子量: 227.056
• InChiKey: XINHALPHERMTFF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.23
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  hexacarbonylchromium 、 4-碘甲苯 在 potassium acetate 作用下， 反应 12.0h， 以25%的产率得到4,4'-二甲基二苯甲酮
  参考文献：
  名称：

  钯纳米粒子在氨基改性二氧化硅催化羰基插入的 C-C 键形成

  摘要：

  摘要 据报道，使用负载在氨基-乙烯基二氧化硅官能化磁性碳纳米管 (CNT@Fe 3 O 4 @SiO 2 -Pd)上的 Pd 纳米粒子，进行了实用且非均相催化的 Stille、均偶联和 Suzuki 羰基化反应，以有效合成来自芳基碘化物的对称和不对称二芳基酮。使用 Mo(CO) 6作为有效的羰基源，在无 CO 气体的条件下以高产率获得了多种对称和不对称二芳基酮。考虑到Ph 3的原子经济性小于等摩尔量的 SnCl 可用于 Stille 转化，由于有机锡衍生物的毒性，这非常重要。此外，在这些偶联羰基化反应中不需要膦配体和外部还原剂。这种非均相 Pd 催化剂具有高活性和极低的钯浸出率。最后，催化剂可以重复使用和循环使用六个步骤而不会损失活性，这是可持续方法的一个很好的例子。 图形摘要

  DOI：

  10.1007/s13738-021-02171-6
• 作为试剂：
  描述：

  (-)-(βS,2R)/(βS,2S)-β,1,1,2,3,3-hexamethylindan-5-ethanol 在 hexacarbonylchromium 、 Pluriol-E-1500 、 硫酸 、 甘油 作用下， 以 四氢呋喃 、 二丁醚 、 丙酮 、 甲苯 为溶剂， 反应 30.0h， 生成 (-)-(4S,7R)-1,3,4,6,7,8-hexahydro-4,6,6,7,8,8-hexamethylcyclopenta[g]-2-benzopyran
  参考文献：
  名称：

  Preparation and Olfactory Characterization of the Enantiomerically Pure Isomers of the Perfumery SyntheticGalaxolide®

  摘要：

  DOI：

  10.1002/(sici)1522-2675(19991006)82:10<1656::aid-hlca1656>3.0.co;2-m

文献信息

• Diastereoselective Cyclopropanation of Electron-Deficient Alkenes via Metal Glycal Carbenes
  作者：Karl Dötz、Frank Otto

  DOI：10.1055/s-2008-1067151

  日期：2008.7

  isopropylidene-O-protected chromium glucal and galactal carbenes have been synthesized from their glycal precursors according to the Fischer route. NMR studies indicate a preferred 5 H 4 or 4 H 5 conformation, depending on the nature of the protective group and the configuration at C-4. The complexes with glycal carbenes have been applied to the diastereoselective cyclopropanation of methyl crotonate and

  甲硅烷基-和异亚丙基-O-保护的铬葡糖醛和半乳醛卡宾已经根据Fischer路线从它们的糖前体合成。NMR研究表明优选的5 H 4 或4 H 5 构象取决于保护基团的性质和C-4的构型。与糖基卡宾的配合物已应用于巴豆酸甲酯和γ-巴豆内酯的非对映选择性环丙烷化反应。